Категории
Ярлык
Общайтесь с нами для быстрого и прямого общения.
Немедленный ответ в рабочие дни (в течение 8 часов в праздничные дни)
Тепловое оборудование
KinTek поставляет широкий спектр высокотемпературных печей, включая лабораторные, экспериментальные и промышленные печи с диапазоном температур до 3000 ℃. Одним из преимуществ KinTek является возможность создавать печи на заказ с учетом конкретных функций, таких как различные методы и скорости нагрева, сверхвысокий и динамический вакуум, регулируемая атмосфера и газовые контуры, автоматизированные механические конструкции, а также разработка программного и аппаратного обеспечения.
Тепловое оборудование
Печь с контролируемой атмосферой с сетчатой лентой
Артикул : KT-MB
Вакуумная индукционная плавильная печь Дуговая плавильная печь
Артикул : KT-VI
Непрерывно работающая электронагревательная пиролизная печь
Артикул : KT-RFTF
Электрическая печь для регенерации активированного угля
Артикул : KT-CRF
Экспериментальная печь для графитации IGBT
Артикул : GF-02
Вакуумная печь для горячего прессования
Артикул : KT-VHP
Сверхвысокотемпературная печь графитации
Артикул : GF-09
Большая вертикальная печь графитации
Артикул : GF-08
Артикул : GF-07
Печь графитации с нижней разгрузкой для углеродных материалов
Артикул : GF-06
Вертикальная высокотемпературная печь графитации
Артикул : GF-05
Печь для графитизации негативного материала
Артикул : GF-04
Печь для графитизации пленки с высокой теплопроводностью
Артикул : GF-03
Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD
Артикул : MP-CVD-100
Артикул : MP-CVD-101
1400℃ Трубчатая печь с алюминиевой трубкой
Артикул : KT-TF14
Печь для искрового плазменного спекания SPS-печь
Артикул : KTSP
Вакуумная трубчатая печь горячего прессования
Артикул : KT-VTP
Артикул : KT-VLP
Колокольный резонатор MPCVD Машина для лаборатории и выращивания алмазов
Артикул : KTMP315
Стоматологическая печь для спекания с трансформатором
Артикул : KT-DS10
Вакуумная печь для спекания стоматологического фарфора
Артикул : KT-DV10
Вакуумная герметичная ротационная трубчатая печь непрерывного действия
Артикул : KT-CRTF
Вращающаяся трубчатая печь с несколькими зонами нагрева
Артикул : KT-MRTF
лабораторная вакуумная наклонно-вращательная трубчатая печь
Артикул : KT-RTF
Артикул : KT-BF
Печь для спекания под давлением воздуха 9MPa
Артикул : KT-APS
Небольшая вакуумная печь для спекания вольфрамовой проволоки
Артикул : KT-VTW
Запросить индивидуальное коммерческое предложение 👋
Получите цену сейчас! Оставить сообщение Быстрое получение цены Via WhatsappЗАПРОС ЦИТАТЫ
Наша профессиональная команда ответит вам в течение одного рабочего дня. Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!
Связанные статьи
Всеобъемлющий обзор 12 типов технологий химического осаждения из паровой фазы (CVD)
Изучите различные методы CVD, от плазменного усиления до сверхвысокого вакуума, и их применение в полупроводниковой промышленности и материаловедении.
Преимущества, ограничения и управление процессом технологии химического осаждения из паровой фазы (CVD)
Рассматриваются преимущества, ограничения и управление процессом при использовании технологии CVD для нанесения покрытий на поверхность.
Углубленное изучение покрытий химического осаждения из паровой фазы (CVD)
Всестороннее исследование технологии CVD, ее принципов, характеристик, классификации, новых достижений и применения в различных областях.
Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) и специальные газы для электроники
Обзор технологии CVD и роли специальных электронных газов в производстве полупроводников.
Photovoltaic Passivation Layer Thin Film Deposition Process
Detailed analysis of the passivation layer thin film deposition methods in TOPCon cells, including PVD and CVD technologies.
Технология тонких пленок с прецизионной настройкой: Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) в халькогенидных солнечных элементах
Рассматривается роль CVD в повышении производительности и масштабируемости халькогенидных солнечных элементов с акцентом на их преимущества и области применения.
Получение и механизм роста алмазных тонких пленок методом химического осаждения из паровой фазы
В этой статье рассматриваются методы получения и механизмы роста алмазных тонких пленок методом химического осаждения из паровой фазы (CVD), освещаются проблемы и потенциальные области применения.
Перспективные применения культивированных алмазов в полупроводниках и высокотехнологичном производстве
Обсуждается использование выращенных алмазов в полупроводниках, теплоотводе и передовом производстве.
Перспективы развития рынка и области применения CVD-алмазов
Рассматриваются уникальные свойства CVD-алмазов, методы их получения и разнообразные применения в различных областях.
Применение монокристаллического алмаза MPCVD в области полупроводников и оптических дисплеев
В этой статье рассматривается применение монокристаллического алмаза MPCVD в области полупроводников и оптических дисплеев, подчеркиваются его превосходные свойства и потенциальное влияние на различные отрасли промышленности.
Прогресс в области микроволнового плазмохимического осаждения из паровой фазы для получения крупнокристаллического алмаза
В этой статье рассматриваются достижения и проблемы, связанные с получением монокристаллических алмазов большого размера с помощью методов микроволнового плазмохимического осаждения из паровой фазы (MPCVD).
Применение вакуумного покрытия на архитектурном стекле
Подробный обзор методов и преимуществ нанесения вакуумного покрытия на архитектурное стекло с акцентом на энергоэффективность, эстетику и долговечность.
Факторы, влияющие на адгезию пленок с магнетронным напылением
Глубокий анализ ключевых факторов, влияющих на адгезию пленок, полученных по технологии магнетронного распыления.
Алмазоподобное покрытие (DLC) и его применение
Рассматриваются свойства и различные области применения покрытий из алмазоподобного углерода (DLC).
Влияние различных источников питания на морфологию напыленной пленки
В этой статье рассматривается, как различные источники питания влияют на морфологию напыленных слоев пленки, особое внимание уделяется источникам питания постоянного тока, постоянного тока и ВЧ.
Анализ сильной абляции в центральной области керамических мишеней при магнетронном распылении
В этой статье рассматриваются причины и решения проблемы сильной абляции в центральной области керамических мишеней при магнетронном распылении.
Контроль допустимой толщины пленки при нанесении покрытия методом магнетронного распыления
Обсуждаются методы обеспечения допустимой толщины пленки при нанесении покрытий магнетронным распылением для достижения оптимальных характеристик материала.
Покрытие электронно-лучевым испарением: Преимущества, недостатки и области применения
Подробный обзор плюсов и минусов покрытия электронно-лучевым испарением и его различных применений в промышленности.
Проблемы осаждения пленки TiN с использованием переменного тока и их решение
Обсуждаются трудности роста пленки TiN при переменном токе и предлагаются такие решения, как напыление на постоянном токе и импульсный постоянный ток.
Всеобъемлющий обзор процессов нанесения покрытий PVD
Подробный обзор принципов, типов, газовых применений и практического использования процессов нанесения покрытий методом PVD.