Категории
Ярлык
Общайтесь с нами для быстрого и прямого общения.
Немедленный ответ в рабочие дни (в течение 8 часов в праздничные дни)
Базовые приготовления
Оборудование для подготовки проб KinTek включает в себя дробление, измельчение проб, а также оборудование для просеивания, гидравлическое прессовое оборудование включает в себя ручной пресс, электрический пресс, изостатический пресс, горячий пресс и пресс-фильтровальную машину.
Изостатический пресс
Ручной лабораторный пресс
Электрический лабораторный пресс
Ручной лабораторный пресс с подогревом
Автоматический лабораторный пресс с подогревом
Пресса по заказу
Формы и аксессуары
Дробильно-размольное оборудование
Просеивающая машина
Фрезерное оборудование
Вырубная машина для планшетов
Ручные рентгенофлуоресцентные анализаторы
Машина для обработки резины
Тепловое оборудование
KinTek поставляет широкий спектр высокотемпературных печей, включая лабораторные, экспериментальные и промышленные печи с диапазоном температур до 3000 ℃. Одним из преимуществ KinTek является возможность создавать печи на заказ с учетом конкретных функций, таких как различные методы и скорости нагрева, сверхвысокий и динамический вакуум, регулируемая атмосфера и газовые контуры, автоматизированные механические конструкции, а также разработка программного и аппаратного обеспечения.
Лабораторные расходные материалы и материалы
KinTek предлагает ряд расходных материалов и материалов для лабораторий, включая материалы для испарения, мишени, металлы, электрохимические детали, а также порошки, гранулы, проволоку, полоски, фольгу, пластины и многое другое.
Биохимическое оборудование
Биохимическое оборудование KinTek включает роторные испарители, реакторы из стекла и нержавеющей стали, системы дистилляции, циркуляционные нагреватели и охладители, а также вакуумное оборудование.
Продукты
Инфракрасное отопление количественной плоской формы плиты
Артикул : PMHD
Двойная пластина нагревательной формы
Артикул : PMD
Формы для изостатического прессования
Артикул : PIPM
Артикул : PMS
Артикул : PMC
Специальная форма для термопресса
Артикул : PCHF
Соберите пресс-форму Square Lab
Артикул : PMAS
Карбидная лабораторная пресс-форма
Артикул : PMW
Сборка лабораторной цилиндрической пресс-формы
Артикул : PMAC
XRF Boric Acid lab Пресс-форма для порошковых гранул
Артикул : PMXB
Артикул : PMT
Теплый изостатический пресс (WIP) Рабочая станция 300 МПа
Артикул : PCIW
Непрерывно работающая электронагревательная пиролизная печь
Артикул : KT-RFTF
Вакуумная индукционная плавильная печь Дуговая плавильная печь
Артикул : KT-VI
Печь с контролируемой атмосферой с сетчатой лентой
Артикул : KT-MB
Электрическая печь для регенерации активированного угля
Артикул : KT-CRF
Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия
Артикул : KT-PED
Нерасходуемая вакуумная дуговая печь Индукционная плавильная печь
Артикул : KT-VAN
Скользящая трубчатая печь PECVD с жидким газификатором PECVD машина
Артикул : KT-PE12
Запросить индивидуальное коммерческое предложение 👋
Получите цену сейчас! Оставить сообщение Быстрое получение цены Via WhatsappЗАПРОС ЦИТАТЫ
Наша профессиональная команда ответит вам в течение одного рабочего дня. Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!
Связанные статьи
Photovoltaic Passivation Layer Thin Film Deposition Process
Detailed analysis of the passivation layer thin film deposition methods in TOPCon cells, including PVD and CVD technologies.
Технология тонких пленок с прецизионной настройкой: Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) в халькогенидных солнечных элементах
Рассматривается роль CVD в повышении производительности и масштабируемости халькогенидных солнечных элементов с акцентом на их преимущества и области применения.
Рекомендации по подготовке проб для различных аналитических приборов
Подробные инструкции по подготовке образцов для ЯМР, МС, хроматографии, ИК, УФ, ИСП, термогравиметрии, XRD, TEM, SEM и других приборов.
Рентгенофлуоресцентный спектрометр: Метод прессования порошка для подготовки пробы
В этой статье рассматривается метод прессования порошка в спектральном анализе XRF, особое внимание уделяется методам подготовки проб и оборудованию.
Подготовка образцов для рентгенографии: Исчерпывающее руководство
Подробные шаги и требования к подготовке образцов для экспериментов по рентгеновской дифракции.
Подготовка и обработка образцов для инфракрасной спектроскопии
Подробное руководство по подготовке и обработке твердых, жидких и газовых образцов для инфракрасной спектроскопии.
Подготовка образцов для трансмиссионной электронной микроскопии: От основ к практическим навыкам
Подробное руководство по подготовке образцов для ТЭМ, включающее методы очистки, шлифовки, полировки, фиксации и покрытия.
Шесть методов подготовки образцов для инфракрасной спектроскопии
Обзор различных методов подготовки образцов для инфракрасного спектрального анализа.
Инфракрасная спектроскопия in situ: Принципы, требования к образцам и методы подготовки
Обзор принципов, требований к образцам и методов подготовки для инфракрасной спектроскопии in situ.
Получение и механизм роста алмазных тонких пленок методом химического осаждения из паровой фазы
В этой статье рассматриваются методы получения и механизмы роста алмазных тонких пленок методом химического осаждения из паровой фазы (CVD), освещаются проблемы и потенциальные области применения.
Применение вакуумного покрытия на архитектурном стекле
Подробный обзор методов и преимуществ нанесения вакуумного покрытия на архитектурное стекло с акцентом на энергоэффективность, эстетику и долговечность.
Факторы, влияющие на адгезию пленок с магнетронным напылением
Глубокий анализ ключевых факторов, влияющих на адгезию пленок, полученных по технологии магнетронного распыления.
Алмазоподобное покрытие (DLC) и его применение
Рассматриваются свойства и различные области применения покрытий из алмазоподобного углерода (DLC).
Понимание и предотвращение отравления мишени при магнетронном распылении
Обсуждается явление отравления мишени при магнетронном распылении, его причины, последствия и профилактические меры.
Влияние различных источников питания на морфологию напыленной пленки
В этой статье рассматривается, как различные источники питания влияют на морфологию напыленных слоев пленки, особое внимание уделяется источникам питания постоянного тока, постоянного тока и ВЧ.
Анализ сильной абляции в центральной области керамических мишеней при магнетронном распылении
В этой статье рассматриваются причины и решения проблемы сильной абляции в центральной области керамических мишеней при магнетронном распылении.
Измерение прочности отслаивания слоев напыленной пленки
Подробное руководство по определению, методам измерения, влияющим факторам и оборудованию, используемому для оценки прочности на отрыв напыленных слоев пленки.
Контроль допустимой толщины пленки при нанесении покрытия методом магнетронного распыления
Обсуждаются методы обеспечения допустимой толщины пленки при нанесении покрытий магнетронным распылением для достижения оптимальных характеристик материала.
Покрытие электронно-лучевым испарением: Преимущества, недостатки и области применения
Подробный обзор плюсов и минусов покрытия электронно-лучевым испарением и его различных применений в промышленности.
Проблемы осаждения пленки TiN с использованием переменного тока и их решение
Обсуждаются трудности роста пленки TiN при переменном токе и предлагаются такие решения, как напыление на постоянном токе и импульсный постоянный ток.