Категории
Ярлык
Общайтесь с нами для быстрого и прямого общения.
Немедленный ответ в рабочие дни (в течение 8 часов в праздничные дни)
Базовые приготовления
Оборудование для подготовки проб KinTek включает в себя дробление, измельчение проб, а также оборудование для просеивания, гидравлическое прессовое оборудование включает в себя ручной пресс, электрический пресс, изостатический пресс, горячий пресс и пресс-фильтровальную машину.
Изостатический пресс
Ручной лабораторный пресс
Электрический лабораторный пресс
Ручной лабораторный пресс с подогревом
Автоматический лабораторный пресс с подогревом
Пресса по заказу
Формы и аксессуары
Дробильно-размольное оборудование
Просеивающая машина
Фрезерное оборудование
Вырубная машина для планшетов
Машина для обработки резины
Тепловое оборудование
KinTek поставляет широкий спектр высокотемпературных печей, включая лабораторные, экспериментальные и промышленные печи с диапазоном температур до 3000 ℃. Одним из преимуществ KinTek является возможность создавать печи на заказ с учетом конкретных функций, таких как различные методы и скорости нагрева, сверхвысокий и динамический вакуум, регулируемая атмосфера и газовые контуры, автоматизированные механические конструкции, а также разработка программного и аппаратного обеспечения.
Лабораторные расходные материалы и материалы
KinTek предлагает ряд расходных материалов и материалов для лабораторий, включая материалы для испарения, мишени, металлы, электрохимические детали, а также порошки, гранулы, проволоку, полоски, фольгу, пластины и многое другое.
Биохимическое оборудование
Биохимическое оборудование KinTek включает роторные испарители, реакторы из стекла и нержавеющей стали, системы дистилляции, циркуляционные нагреватели и охладители, а также вакуумное оборудование.
Продукты
Роторная машина для штамповки таблеток массового производства
Артикул : TPM-05
Вакуумная печь для спекания под давлением
Артикул : KT-VPS
Вакуумная индукционная печь горячего прессования 600T
Артикул : KT-VH
Вакуумная печь для спекания молибденовой проволоки
Артикул : KT-VMW
Небольшая вакуумная печь для спекания вольфрамовой проволоки
Артикул : KT-VTW
Печь для спекания под давлением воздуха 9MPa
Артикул : KT-APS
Артикул : KT-BF
Сверхвысокотемпературная печь графитации
Артикул : GF-09
Электрохимическая рабочая станция/потенциостат
Артикул : KT-CHIP
Артикул : MD-6
Электрический вакуумный термопресс
Артикул : PPZ
Автоматический высокотемпературный термопресс
Артикул : PPL
Ручной термопресс Высокотемпературное горячее прессование
Артикул : CPCL
Вакуумная печь с футеровкой из керамического волокна
Артикул : KT-VF
Артикул : KT-VM
Колокольный резонатор MPCVD Машина для лаборатории и выращивания алмазов
Артикул : KTMP315
2200 ℃ Графитовая вакуумная печь
Артикул : KT-VG
2200 ℃ Вольфрамовая вакуумная печь
Артикул : KT-VT
Молибден/Вольфрам/Тантал Испарительная Лодка
Артикул : KME01
Вакуумная дуговая печь Индукционная плавильная печь
Артикул : KT-VA
Нерасходуемая вакуумная дуговая печь Индукционная плавильная печь
Артикул : KT-VAN
Вакуумная печь для горячего прессования
Артикул : KT-VHP
Ручной высокотемпературный термопресс
Артикул : PCHT
1200℃ Печь с раздельными трубками с кварцевой трубкой
Артикул : KT-TF12
Запросить индивидуальное коммерческое предложение 👋
Получите цену сейчас! Оставить сообщение Быстрое получение цены Via WhatsappЗАПРОС ЦИТАТЫ
Наша профессиональная команда ответит вам в течение одного рабочего дня. Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!
Связанные статьи
Передовые технологии для прецизионной керамики
Рассматриваются ключевые технологии и методы подготовки прецизионных керамических компонентов, их применение и проблемы.
Прецизионная керамика в полупроводниковой технике
Изучение использования прецизионной керамики в полупроводниковом оборудовании, ее свойств и производственных процессов.
Прецизионное керамическое литье под давлением:Основные процессы
Подробный обзор этапов прецизионного литья керамики под давлением с акцентом на затирку, выдержку под давлением, охлаждение и распалубку.
Новые технологии быстрого спекания для перспективной керамики
Рассматриваются современные керамические материалы, их свойства и различные методы быстрого спекания для улучшения их характеристик.
Механические свойства и структурные улучшения керамики
Глубокий анализ механических свойств керамики, включая сильные и слабые стороны, а также методы их улучшения.
Достижения в области инженерных керамических материалов
Рассматриваются новые инженерные керамики с исключительными свойствами и их применение в жестких условиях эксплуатации в сравнении с традиционными материалами.
CVD-алмаз:Превосходный материал для оптических окон
Рассматриваются исключительные свойства и применение CVD-алмаза в оптических окнах.
Достижения в области компонентов для алмазных оптических окон
Рассматриваются разработка и применение компонентов алмазных оптических окон в различных областях, включая оборонную, аэрокосмическую и энергетическую.
Графитовый тигель в будущем производстве полупроводниковых соединений третьего поколения
Рассматривается роль и будущие тенденции развития графитовых тиглей в производстве полупроводниковых материалов третьего поколения.
Предотвращение склеивания образцов при спекании в тиглях из оксида алюминия
Стратегии предотвращения склеивания образцов при спекании в тиглях из оксида алюминия.
Приготовление и эксплуатационные характеристики глиноземных корпусов для вакуумной индукционной плавильной печи
В этой статье рассматриваются процесс подготовки и эксплуатационные преимущества алюминиевых тиглей для вакуумных индукционных плавильных печей с акцентом на термическую стабильность и длительный срок службы.
Исчерпывающее руководство по глиноземным кристаллизаторам в порошковой металлургии
Подробный обзор свойств, применения и использования глиноземных тиглей в процессах порошковой металлургии.
Технология нанесения покрытий электронно-лучевым испарением и выбор материалов
Подробный обзор принципов и применения технологии нанесения покрытий электронно-лучевым испарением, включая выбор материалов и различные области применения.
Электронно-лучевое испарение: Передовое создание тонких пленок
Изучает технологию и применение электронно-лучевого испарения в производстве тонких пленок.
Покрытие электронно-лучевым испарением:Принципы, характеристики и применение
Подробный анализ технологии нанесения покрытий электронно-лучевым испарением, ее преимуществ, недостатков и применения в производстве тонких пленок.
Технология электронно-лучевого испарения в вакуумном покрытии
Подробный обзор электронно-лучевого испарения, его типов, преимуществ и недостатков в процессах нанесения вакуумных покрытий.
Всеобъемлющий обзор вакуумных испарительных систем
Подробный обзор вакуумных испарительных систем, их принципов, компонентов и областей применения.
Понятие о нанесении покрытия испарением, напылением и ионным покрытием
Подробное сравнение методов испарительного, напылительного и ионного нанесения покрытий, их принципов, типов и характеристик.
Проблемы разработки и применения тантала в оборудовании для вакуумного напыления
В этой статье рассматривается роль тантала в оборудовании для вакуумного напыления с акцентом на его свойствах, производственных проблемах и важнейших областях применения в таких отраслях, как производство OLED-экранов.
Изучение различных технологий вакуумного нанесения покрытий:Испарение, напыление и ионное покрытие
В этой статье рассматриваются различные технологии нанесения покрытий в вакууме, в первую очередь испарение, напыление и ионное осаждение, подробно описываются их принципы, преимущества и области применения.