Печь CVD и PECVD
Трубчатая печь CVD с разделенной камерой и вакуумной станцией CVD машины
Артикул : KT-CTF12
Цена может варьироваться в зависимости от спецификации и настройки
- Макс. температура
- 1200 ℃
- Постоянная рабочая температура
- 1100 ℃
- Диаметр трубы печи
- 60 мм
- Длина зоны нагрева
- 1x450 мм
- Скорость нагрева
- 0-20 ℃/мин
Доставка:
Свяжитесь с нами чтобы получить подробности о доставке. Наслаждайтесь Гарантия своевременной отправки.
Запросить индивидуальное коммерческое предложение 👋
Получите цену сейчас! Оставить сообщение Быстрое получение цены Via Онлайн чатВведение
Трубчатая печь CVD с раздельной камерой и вакуумной станцией - это универсальное и высокопроизводительное лабораторное оборудование, предназначенное для химического осаждения из паровой фазы (CVD). Печь имеет разделенную камеру, которая обеспечивает легкий доступ к реакционным образцам и быстрое охлаждение. Трубка печи изготовлена из высокотемпературного кварца и имеет диаметр 60 мм. Система включает 4-канальный массовый расходомер MFC с исходными газами CH4, H2, O2 и N2, обеспечивающий точный контроль расхода газа. Вакуумная станция оснащена пластинчато-роторным вакуумным насосом 4L/S, обеспечивающим максимальное вакуумное давление 10 Па. Благодаря своим передовым функциям и возможностям, сплит-камерная CVD-печь с вакуумной станцией является идеальным выбором для различных исследований и разработок в области материаловедения, обработки полупроводников и других областях.
Детали и запчасти
Применение
Сплит-камерная CVD-печь с вакуумной станцией CVD Machine - это универсальное и передовое оборудование, предназначенное для различных применений в области материаловедения, производства полупроводников, исследований и разработок. Эта установка особенно полезна для процессов, требующих точного контроля температуры, потока газа и уровня вакуума, что делает ее незаменимым инструментом для высококачественного синтеза и обработки материалов.
- Синтез наноматериалов: Печь идеально подходит для выращивания нанопроволок, нанопленок и других наноструктурированных материалов, которые имеют решающее значение для разработки передовых электронных и оптоэлектронных устройств.
- Вакуумное нанесение покрытий: Широко используется для осаждения тонких пленок на различные подложки, включая металлические, керамические и композитные пленки, которые необходимы для улучшения свойств материалов в таких областях, как оптика и электроника.
- Обработка аккумуляторных материалов: Печь подходит для сушки и спекания материалов для аккумуляторов, что является важнейшим этапом в производстве высокоэффективных аккумуляторов.
- Сушка и спекание материалов: Используется для высокотемпературного спекания керамики, огнеупорных материалов и специальных материалов, обеспечивая консолидацию и плотность этих материалов.
- Атмосферная и вакуумная термообработка: Вертикальная конфигурация трубчатой печи позволяет закаливать, отжигать и отпускать небольшие стальные детали, а также наносить вертикальные CVD-покрытия, что делает ее ценным активом в металлургических процессах.
- Исследования и разработки: Печь широко используется в университетах, научно-исследовательских институтах, промышленных и горнодобывающих предприятиях для проведения высокотемпературных экспериментов, спекания в атмосфере, восстановительной атмосфере и CVD/CVI экспериментов, способствуя развитию материаловедения и технологий.
Характеристики
Трубчатая печь с разделенной камерой CVD с вакуумной станцией CVD Machine - это сложное оборудование, предназначенное для передовых процессов химического осаждения из паровой фазы (CVD). В этой печи реализованы передовые технологии, позволяющие повысить эффективность и качество осаждения пленок, что делает ее идеальным решением для исследовательских и промышленных задач. Вот основные характеристики и их преимущества:
- Высокая скорость осаждения пленки: Используя технологию радиочастотного свечения, эта печь значительно увеличивает скорость осаждения пленок, достигая 10Å/S. Такое быстрое осаждение имеет решающее значение для высокопроизводительного производства и исследований, позволяя экономить время и повышать производительность.
- Равномерность на большой площади: Благодаря передовой технологии многоточечной подачи радиочастотного излучения и специализированному распределению газового тракта печь обеспечивает однородность пленки до 8 %. Такая однородность необходима для создания однородных и высококачественных покрытий на больших подложках, что повышает надежность производимых материалов.
- Последовательное осаждение: В конструкции печи реализованы передовые концепции полупроводниковой промышленности, благодаря чему отклонение между подложками составляет менее 2 %. Такой высокий уровень последовательности крайне важен для приложений, требующих точных и воспроизводимых результатов, например, при производстве электронных компонентов.
- Стабильный контроль процесса: Высокая стабильность оборудования обеспечивает непрерывность и постоянство процесса CVD. Такая надежность крайне важна для поддержания целостности процесса и снижения риска возникновения дефектов или сбоев во время работы.
- Интеллектуальная система управления: Запатентованная компанией Bonage интегрированная система управления включает высокопроизводительную систему контроля температуры, использующую замкнутый механизм отрицательной обратной связи. Эта система в сочетании с высококачественными импортными электрическими компонентами повышает общую производительность и надежность оборудования, делая его практически не требующим технического обслуживания.
- Универсальное применение: Печь подходит для осаждения различных типов пленок, включая металлические, керамические и композитные, поддерживает процессы непрерывного роста и может быть легко расширена дополнительными функциями, такими как плазменная очистка и травление. Такая универсальность делает ее ценным активом для различных исследований и производственных нужд.
Принцип работы
Трубчатая печь CVD с разделенной камерой и вакуумной станцией CVD Machine - это высокотемпературная вакуумная печь, используемая для процессов химического осаждения из паровой фазы (CVD). CVD - это процесс, в котором тонкая пленка материала осаждается на подложку в результате химической реакции газа или пара. Трубчатая печь CVD с разделенной камерой и вакуумной станцией CVD Machine использует разделенную камеру печи для обеспечения легкого доступа к подложке во время процесса CVD. Вакуумная станция используется для создания вакуума в камере печи, что помогает удалить примеси и улучшить качество осаждаемой пленки.
Преимущества
- Интуитивно понятное наблюдение за образцом и быстрое охлаждение: Разделенная камера печи позволяет непосредственно наблюдать за реакционными образцами и быстро охлаждать их.
- Возможность работы при высоких температурах: Максимальная рабочая температура до 1200℃ для универсального применения.
- Точный контроль газа: 4-канальный массовый расходомер MFC с источниками CH4, H2, O2 и N2 обеспечивает точную и стабильную подачу газа.
- Совместимость с вакуумом: Вакуумная станция с пластинчато-роторным вакуумным насосом 4L/S обеспечивает максимальное вакуумное давление до 10 Па, позволяя проводить различные вакуумные процессы.
- Высокоскоростной нагрев и охлаждение: Система скольжения камеры печи обеспечивает быстрый нагрев и охлаждение для эффективной обработки образцов.
- Усовершенствованный температурный контроль: ПИД-программируемый температурный контроль с отличной точностью, дистанционное управление и возможность централизованного управления.
- Удобный интерфейс: Контроллер CTF Pro с 7-дюймовым сенсорным TFT-экраном обеспечивает интуитивно понятную настройку программ и анализ данных.
- Универсальная вакуумная установка: Вакуумный фланец из нержавеющей стали с адаптируемыми портами позволяет использовать различные вакуумные насосные станции для создания индивидуальной вакуумной среды.
- Энергоэффективность: Система водяного охлаждения и конструкция газоотвода сводят к минимуму потребление энергии.
- Широкая применимость: Подходит для CVD, диффузии и других термообработок в условиях вакуума и защиты атмосферы.
Преимущество безопасности
- Трубчатая печь Kindle Tech имеет защиту от перегрузки по току и функцию сигнализации о перегреве, печь автоматически отключит питание.
- Печь встроена в функцию обнаружения тепловой пары, печь прекратит нагрев и включит сигнал тревоги после обнаружения поломки или отказа
- KT-CTF12 Pro поддерживает функцию перезапуска при отключении питания, печь возобновит программу нагрева печи при подаче питания после сбоя
Технические характеристики
| Модель печи | KT-CTF12-60 |
|---|---|
| Макс. температура | 1200℃ |
| Постоянная рабочая температура | 1100℃ |
| Материал трубки печи | Высокая чистота кварца |
| Диаметр трубки печи | 60 мм |
| Длина зоны нагрева | 1x450 мм |
| Материал камеры | Японское глиноземное волокно |
| Нагревательный элемент | проволочная спираль из Cr2Al2Mo2 |
| Скорость нагрева | 0-20℃/мин |
| Тепловая пара | Встроенный тип K |
| Контроллер температуры | Цифровой ПИД-регулятор/ПИД-регулятор с сенсорным экраном |
| Точность регулирования температуры | ±1℃ |
| Расстояние скольжения | 600 мм |
| Блок точного контроля газа | |
| Расходомер | Массовый расходомер MFC |
| Газовые каналы | 4 канала |
| Расход | MFC1: 0-5SCCM O2 MFC2: 0-20SCMCH4 MFC3: 0- 100SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 |
| Линейность | ±0,5% F.S. |
| Повторяемость | ±0,2% F.S. |
| Трубопровод и клапан | Нержавеющая сталь |
| Максимальное рабочее давление | 0,45 МПа |
| Контроллер расходомера | Контроллер с цифровой ручкой/контроллер с сенсорным экраном |
| Стандартный вакуумный блок (опция) | |
| Вакуумный насос | Пластинчато-роторный вакуумный насос |
| Расход насоса | 4L/S |
| Вакуумный порт всасывания | KF25 |
| Вакуумметр | Кремниевый вакуумметр Пирани/Резистанс |
| Номинальное вакуумное давление | 10Па |
| Установка высокого вакуума (опция) | |
| Вакуумный насос | Пластинчато-роторный насос+молекулярный насос |
| Расход насоса | 4L/S+110L/S |
| Порт всасывания вакуума | KF25 |
| Вакуумметр | Комбинированный вакуумметр |
| Номинальное вакуумное давление | 6x10-5Pa |
| Вышеуказанные спецификации и комплектации могут быть изготовлены на заказ | |
Стандартная комплектация
| Нет. | Описание | Количество |
|---|---|---|
| 1 | Печь | 1 |
| 2 | Кварцевая трубка | 1 |
| 3 | Вакуумный фланец | 2 |
| 4 | Тепловой блок трубки | 2 |
| 5 | Крючок трубчатого термоблока | 1 |
| 6 | Термостойкая перчатка | 1 |
| 7 | Точный контроль газа | 1 |
| 8 | Вакуумный блок | 1 |
| 9 | Руководство по эксплуатации | 1 |
Дополнительная установка
- Обнаружение и мониторинг газов в трубке, таких как H2, O2 и т.д.
- Независимый контроль и запись температуры в печи
- Порт связи RS 485 для дистанционного управления ПК и экспорта данных
- Контроль расхода подаваемых газов, например, массовый расходомер или поплавковый расходомер
- Контроллер температуры с сенсорным экраном и универсальными функциями, удобными для оператора
- Насосная станция высокого вакуума, например, лопастной вакуумный насос, молекулярный насос, диффузионный насос
Предупреждения
Безопасность оператора – первостепенная задача! Пожалуйста, используйте оборудование с осторожностью. Работа с легковоспламеняющимися, взрывоопасными или токсичными газами очень опасна, операторы должны принять все необходимые меры предосторожности перед запуском оборудования. Работа с избыточным давлением внутри реакторов или камер опасна, оператор должен строго соблюдать технику безопасности. Следует также соблюдать особую осторожность при работе с материалами, реагирующими с воздухом, особенно в условиях вакуума. Утечка может привести к попаданию воздуха в аппарат и вызвать бурную реакцию.
Создан для вас
KinTek предоставляет специализированные услуги и оборудование для клиентов по всему миру, наша специализированная командная работа и богатый опыт инженеров способны выполнить индивидуальные требования к аппаратному и программному оборудованию, а также помочь нашим клиентам создать эксклюзивное и индивидуальное оборудование и решение!
Не могли бы вы поделиться своими идеями с нами, наши инженеры готовы для вас прямо сейчас!
FAQ
Что такое печь CVD?
Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) — это технология, в которой используются различные источники энергии, такие как нагрев, возбуждение плазмы или световое излучение, для химической реакции газообразных или парообразных химических веществ на газовой фазе или на границе газ-твердое тело с образованием твердых отложений в реакторе с помощью химическая реакция. Проще говоря, два или более газообразных сырья вводятся в реакционную камеру, а затем они реагируют друг с другом с образованием нового материала и его осаждением на поверхности подложки.
Печь CVD представляет собой комбинированную систему печей с высокотемпературной трубчатой печью, блоком управления газами и вакуумным блоком, она широко используется для экспериментов и производства композитных материалов, процессов микроэлектроники, полупроводниковой оптоэлектроники, использования солнечной энергии, оптоволоконной связи, сверхпроводников. технология, поле защитного покрытия.
Что такое лабораторный пресс?
Как работает печь CVD?
Печь CVD состоит из блока высокотемпературной трубчатой печи, блока точного управления источником реагирующего газа, вакуумной насосной станции и соответствующих сборочных частей.
Вакуумный насос предназначен для удаления воздуха из реакционной трубы и обеспечения отсутствия нежелательных газов внутри реакционной трубы, после чего трубчатая печь нагреет реакционную трубу до заданной температуры, после чего блок точного управления источником реакционного газа может вводить различные газы с заданным соотношением в трубку печи для химической реакции, химическое осаждение из паровой фазы будет образовываться в печи CVD.
Что такое метод PECVD?
Что такое МпкВД?
Что такое RF PECVD?
Какие методы используются для нанесения тонких пленок?
Для чего нужен гидравлический пресс в лаборатории?
Какой газ используется в процессе CVD?
В процессе CVD можно использовать огромные источники газа, общие химические реакции CVD включают пиролиз, фотолиз, восстановление, окисление, окислительно-восстановительный процесс, поэтому газы, участвующие в этих химических реакциях, могут использоваться в процессе CVD.
В качестве примера возьмем выращивание CVD-графена. Газы, используемые в процессе CVD, будут CH4, H2, O2 и N2.
Для чего используется PECVD?
Каков основной принцип ССЗ?
Что такое машина Mpcvd?
PACVD - это PECVD?
Что такое оборудование для нанесения тонких пленок?
Какие существуют типы лабораторных прессов?
В чем преимущество системы CVD?
- При необходимости может быть изготовлен широкий ассортимент пленок: металлическая пленка, неметаллическая пленка и пленка из многокомпонентного сплава. В то же время он позволяет получать качественные кристаллы, которые трудно получить другими методами, такими как GaN, BP и др.
- Скорость формирования пленки высокая, обычно несколько микрон в минуту или даже сотни микрон в минуту. Возможно одновременное нанесение большого количества однородных по составу покрытий, что несравнимо с другими методами получения пленок, такими как жидкофазная эпитаксия (ЖФЭ) и молекулярно-лучевая эпитаксия (МЛЭ).
- Рабочие условия выполняются при нормальном давлении или низком вакууме, поэтому покрытие имеет хорошую дифракцию, а детали сложной формы могут быть равномерно покрыты, что намного превосходит PVD.
- Благодаря взаимной диффузии реакционного газа, продукта реакции и подложки можно получить покрытие с хорошей адгезионной прочностью, что имеет решающее значение для получения пленок с упрочнением поверхности, таких как износостойкие и антикоррозионные пленки.
- Некоторые пленки растут при температуре намного ниже температуры плавления материала пленки. В условиях низкотемпературного роста реакционный газ и стенки реактора, а также содержащиеся в них примеси практически не вступают в реакцию, поэтому можно получить пленку высокой чистоты и хорошей кристалличности.
- Химическое осаждение из паровой фазы позволяет получить гладкую поверхность осаждения. Это связано с тем, что по сравнению с LPE химическое осаждение из паровой фазы (CVD) выполняется при высоком насыщении, с высокой скоростью зародышеобразования, высокой плотностью зародышеобразования и однородным распределением по всей плоскости, что приводит к макроскопически гладкой поверхности. В то же время при химическом осаждении из газовой фазы средний свободный пробег молекул (атомов) намного больше, чем при ЖФЭ, поэтому пространственное распределение молекул является более равномерным, что способствует формированию гладкой поверхности осаждения.
- Низкие радиационные повреждения, что является необходимым условием для изготовления металлооксидных полупроводников (МОП) и других устройств.
Каковы преимущества PECVD?
Какие существуют типы метода CVD?
Каковы преимущества Mpcvd?
Что такое технология тонкопленочного осаждения?
Что означает PECVD?
PECVD — это технология, использующая плазму для активации реакционного газа, стимулирования химической реакции на поверхности подложки или в приповерхностном пространстве и создания твердой пленки. Основной принцип технологии плазмохимического осаждения из паровой фазы заключается в том, что под действием ВЧ или постоянного электрического поля исходный газ ионизируется с образованием плазмы, низкотемпературная плазма используется в качестве источника энергии, соответствующее количество реакционного газа вводится, а плазменный разряд используется для активации реакционного газа и осуществления химического осаждения из паровой фазы.
По способу получения плазмы ее можно разделить на ВЧ-плазму, плазму постоянного тока и микроволновую плазму CVD и т. д.
В чем разница между ALD и PECVD?
Алмазы CVD настоящие или поддельные?
В чем разница между ССЗ и PECVD?
Отличие PECVD от традиционной технологии CVD заключается в том, что плазма содержит большое количество высокоэнергетических электронов, которые могут обеспечить энергию активации, необходимую в процессе химического осаждения из паровой фазы, тем самым изменяя режим энергоснабжения реакционной системы. Поскольку температура электронов в плазме достигает 10000 К, столкновение между электронами и молекулами газа может способствовать разрыву химических связей и рекомбинации молекул реакционного газа с образованием более активных химических групп, в то время как вся реакционная система поддерживает более низкую температуру.
Таким образом, по сравнению с процессом CVD, PECVD может выполнять тот же процесс химического осаждения из паровой фазы при более низкой температуре.
В чем разница между PECVD и напылением?
4.8
out of
5
I'm impressed with the speed of delivery. I received my order within a week of placing it.
4.9
out of
5
This product is worth every penny. The build quality is top-notch, and it performs even better than advertised.
4.7
out of
5
I'm amazed by the technological advancement of this product. It's like having a mini-lab in my own laboratory.
4.8
out of
5
The split chamber design is a game-changer. It makes it so easy to load and unload samples.
4.9
out of
5
The vacuum station is a great addition. It allows me to create a controlled environment for my experiments.
4.7
out of
5
I'm very satisfied with the durability of this product. It's been through a lot of use, and it's still going strong.
4.8
out of
5
The customer service from KINTEK SOLUTION is exceptional. They're always quick to respond to my inquiries and help me troubleshoot any issues.
4.9
out of
5
I highly recommend this product to any laboratory manager looking for a reliable and high-quality CVD tube furnace.
4.7
out of
5
This product has exceeded my expectations. It's easy to use and maintain, and it produces excellent results.
4.8
out of
5
I'm very happy with my purchase. This product is a great addition to my laboratory.
4.9
out of
5
I'm impressed with the quality of this product. It's well-made and performs flawlessly.
4.7
out of
5
This product is a must-have for any laboratory. It's a versatile and powerful tool that can be used for a variety of applications.
4.8
out of
5
I'm very satisfied with this product. It's a great value for the price.
4.9
out of
5
I highly recommend this product to any laboratory manager looking for a reliable and affordable CVD tube furnace.
4.7
out of
5
This product is a great addition to my laboratory. It's easy to use and produces excellent results.
4.8
out of
5
I'm very happy with my purchase. This product is a great value for the price.
4.9
out of
5
I highly recommend this product to any laboratory manager looking for a reliable and affordable CVD tube furnace.
PDF - Трубчатая печь CVD с разделенной камерой и вакуумной станцией CVD машины
СкачатьКаталог Печь Cvd И Pecvd
СкачатьКаталог Хвд Печь
СкачатьКаталог Пвд Машина
СкачатьКаталог Cvd-Машина
СкачатьКаталог Машина Mpcvd
СкачатьКаталог Паквд
СкачатьКаталог Рф Пэвд
СкачатьКаталог Оборудование Для Нанесения Тонких Пленок
СкачатьКаталог Лабораторный Пресс
СкачатьЗАПРОС ЦИТАТЫ
Наша профессиональная команда ответит вам в течение одного рабочего дня. Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!
Связанные товары
Универсальная трубчатая печь CVD, изготовленная по индивидуальному заказу CVD-машина
Получите свою эксклюзивную печь CVD с универсальной печью KT-CTF16, изготовленной по индивидуальному заказу. Настраиваемые функции скольжения, вращения и наклона для точной реакции. Заказать сейчас!
Мульти зоны нагрева CVD трубчатая печь CVD машина
Печь KT-CTF14 с несколькими зонами нагрева CVD - точный контроль температуры и потока газа для передовых приложений. Максимальная температура до 1200℃, 4-канальный массовый расходомер MFC и 7-дюймовый TFT-контроллер с сенсорным экраном.
Наклонная ротационная машина для трубчатой печи с плазменным осаждением (PECVD)
Представляем нашу наклонную вращающуюся печь PECVD для точного осаждения тонких пленок. Наслаждайтесь автоматическим согласованием источника, программируемым ПИД-регулятором температуры и высокоточным управлением массовым расходомером MFC. Встроенные функции безопасности для вашего спокойствия.
Повысьте уровень своих экспериментов с помощью нашей вертикальной трубчатой печи. Универсальная конструкция позволяет работать в различных условиях и при различных видах термообработки. Закажите сейчас, чтобы получить точные результаты!
Скользящая трубчатая печь PECVD с жидким газификатором PECVD машина
Система KT-PE12 Slide PECVD: широкий диапазон мощностей, программируемый контроль температуры, быстрый нагрев/охлаждение с помощью скользящей системы, контроль массового расхода MFC и вакуумный насос.
Вакуумная трубчатая печь горячего прессования
Уменьшите давление формования и сократите время спекания с помощью вакуумной трубчатой печи для горячего прессования высокоплотных и мелкозернистых материалов. Идеально подходит для тугоплавких металлов.
Вакуумная герметичная ротационная трубчатая печь непрерывного действия
Испытайте эффективную обработку материалов с помощью нашей ротационной трубчатой печи с вакуумным уплотнением. Идеально подходит для экспериментов или промышленного производства, оснащена дополнительными функциями для контролируемой подачи и оптимизации результатов. Заказать сейчас.
1700℃ Печь с контролируемой атмосферой
Печь с контролируемой атмосферой KT-17A: нагрев до 1700℃, технология вакуумного уплотнения, ПИД-регулирование температуры и универсальный TFT контроллер с сенсорным экраном для лабораторного и промышленного использования.
Испытайте точные и эффективные тепловые испытания с нашей многозонной трубчатой печью. Независимые зоны нагрева и датчики температуры позволяют управлять высокотемпературными градиентными полями нагрева. Закажите прямо сейчас для расширенного термического анализа!
1400℃ Печь с контролируемой атмосферой
Добейтесь точной термообработки с помощью печи с контролируемой атмосферой KT-14A. Вакуумная герметичная печь с интеллектуальным контроллером идеально подходит для лабораторного и промышленного использования при температуре до 1400℃.
1400℃ Трубчатая печь с алюминиевой трубкой
Ищете трубчатую печь для высокотемпературных применений? Наша трубчатая печь 1400℃ с алюминиевой трубкой идеально подходит для научных исследований и промышленного использования.
Ротационно-лопастной вакуумный насос
Оцените высокую скорость и стабильность вакуумной откачки с помощью нашего пластинчато-роторного вакуумного насоса, сертифицированного UL. Двухсменный газобалластный клапан и двойная масляная защита. Простота обслуживания и ремонта.
1700℃ Трубчатая печь с алюминиевой трубкой
Ищете высокотемпературную трубчатую печь? Обратите внимание на нашу трубчатую печь 1700℃ с алюминиевой трубкой. Идеально подходит для исследований и промышленных применений при температуре до 1700C.
Вакуумная печь с футеровкой из керамического волокна
Вакуумная печь с изоляционной облицовкой из поликристаллического керамического волокна для отличной теплоизоляции и равномерного температурного поля. Максимальная рабочая температура 1200℃ или 1700℃ с высокой производительностью вакуума и точным контролем температуры.
Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы
RF-PECVD - это аббревиатура от "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". С его помощью на германиевые и кремниевые подложки наносится пленка DLC (алмазоподобного углерода). Он используется в инфракрасном диапазоне длин волн 3-12um.
1200℃ Печь с раздельными трубками с кварцевой трубкой
Печь с разъемной трубкой KT-TF12: высокочистая изоляция, встроенные витки нагревательного провода, макс. 1200C. Широко используется для производства новых материалов и химического осаждения из паровой фазы.
Полностью автоматический лабораторный гомогенизатор с акриловой полостью 4 дюйма
Полностью автоматическая лабораторная машина для нанесения клея с 4-дюймовой акриловой полостью представляет собой компактную, устойчивую к коррозии и простую в использовании машину, предназначенную для использования в перчаточных боксах. Он имеет прозрачную крышку с постоянным крутящим моментом для позиционирования цепи, встроенную внутреннюю полость для открытия формы и кнопку маски для лица с цветным текстовым ЖК-дисплеем. Скорость ускорения и замедления можно контролировать и регулировать, а также можно установить многоступенчатое программное управление.
Небольшая вакуумная печь для спекания вольфрамовой проволоки
Небольшая вакуумная печь для спекания вольфрамовой проволоки представляет собой компактную экспериментальную вакуумную печь, специально разработанную для университетов и научно-исследовательских институтов. Печь оснащена корпусом, сваренным на станке с ЧПУ, и вакуумными трубами, обеспечивающими герметичную работу. Быстроразъемные электрические соединения облегчают перемещение и отладку, а стандартный электрический шкаф управления безопасен и удобен в эксплуатации.
Настольный циркуляционный водяной вакуумный насос
Нужен водяной циркуляционный вакуумный насос для вашей лаборатории или небольшого производства? Наш настольный водяной циркуляционный вакуумный насос идеально подходит для выпаривания, дистилляции, кристаллизации и многого другого.
1200℃ Печь с контролируемой атмосферой
Откройте для себя нашу печь с управляемой атмосферой KT-12A Pro - высокоточная вакуумная камера для тяжелых условий эксплуатации, универсальный интеллектуальный контроллер с сенсорным экраном и превосходная равномерность температуры до 1200C. Идеально подходит как для лабораторного, так и для промышленного применения.
Получите стабильное и эффективное отрицательное давление с помощью нашего мембранного вакуумного насоса. Идеально подходит для выпаривания, дистилляции и многого другого. Низкотемпературный двигатель, химически стойкие материалы и экологичность. Попробуйте сегодня!
Получите превосходный контроль тепла с нашей муфельной печью 1700℃. Оснащена интеллектуальным температурным микропроцессором, сенсорным TFT-контроллером и передовыми изоляционными материалами для точного нагрева до 1700C. Закажите сейчас!
4-дюймовая камера из алюминиевого сплава, полностью автоматический лабораторный гомогенизатор клея
Полностью автоматический лабораторный дозатор клея с 4-дюймовой полостью из алюминиевого сплава представляет собой компактное и устойчивое к коррозии устройство, предназначенное для лабораторного использования. Он оснащен прозрачной крышкой с постоянным крутящим моментом, встроенной внутренней полостью для открытия формы для легкой разборки и очистки, а также кнопкой маски для лица с цветным текстовым ЖК-дисплеем для простоты использования.
Муфельная печь KT-14M обеспечивает точный контроль высоких температур до 1500℃. Оснащена интеллектуальным контроллером с сенсорным экраном и передовыми изоляционными материалами.
Трубчатая печь высокого давления
Трубчатая печь высокого давления KT-PTF: компактная трубчатая печь с разъемными трубами, устойчивая к положительному давлению. Рабочая температура до 1100°C и давление до 15 МПа. Также работает в атмосфере контроллера или в высоком вакууме.
Связанные статьи
Знакомство с лабораторными вакуумными трубчатыми печами
Вакуумная трубчатая печь представляет собой тип печи, в которой используется вакуум для изоляции технологической атмосферы от внешней атмосферы.
Преимущества использования трубчатой печи CVD для нанесения покрытия
Покрытия CVD имеют ряд преимуществ по сравнению с другими методами нанесения покрытий, таких как высокая чистота, плотность и однородность, что делает их идеальными для многих применений в различных отраслях промышленности.
Печь CVD для выращивания углеродных нанотрубок
Технология печи химического осаждения из паровой фазы (CVD) является широко используемым методом выращивания углеродных нанотрубок.
Изучение использования камерной печи в промышленных и лабораторных целях
Лабораторная камерная печь — это тип нагревательного оборудования, специально разработанного для использования в лабораторных условиях. Обычно он используется для приложений, требующих точного контроля температуры и однородности, таких как озоление или термообработка материалов.
Полное руководство по раскладным трубчатым печам: области применения, особенности
Верно то, что печь с расщепленными трубами — это тип лабораторного оборудования, состоящего из полой трубы или камеры, которую можно открывать, чтобы вставлять и извлекать образцы или нагреваемые материалы.
Как правильно выбрать муфельную печь для вашей лаборатории?
Несколько других важных соображений для вашей муфельной печи включают в себя желаемую максимальную температуру, продолжительность технологического цикла и метод загрузки или разгрузки. Чтобы выбрать лучшую муфельную печь для ваших нужд, важно сначала рассмотреть технические характеристики конструкции, необходимые для желаемого производства или применения. Сюда входят такие факторы, как размер тигля, размер камеры и входное напряжение. Как только вы хорошо разберетесь в основах, вы сможете перейти к другим важным аспектам, таким как максимальная температура, продолжительность технологического цикла и метод загрузки или разгрузки. Принимая во внимание все эти факторы, вы можете быть уверены, что выберете лучшую муфельную печь для ваших конкретных нужд.
Атмосферные печи: Исчерпывающее руководство по контролируемой термообработке
Познакомьтесь с передовым миром атмосферных печей с помощью нашего подробного руководства. Узнайте об их работе, применении и преимуществах в различных отраслях промышленности. Идеально подходит для тех, кто ищет глубокие знания о контролируемой термообработке.
Общие проблемы систем CVD и способы их решения
Понимание основ систем CVD и их важности имеет решающее значение для оптимизации процесса и решения общих проблем, возникающих во время эксплуатации.
Вакуумные лабораторные печи для перспективных исследований материалов
Помимо размера, между промышленными и лабораторными вакуумными печами есть несколько других ключевых различий.
Революционный контроль качества: Окончательное руководство по портативным анализаторам сплавов
Ознакомьтесь с расширенными возможностями и преимуществами портативных анализаторов сплавов, включая быстрый анализ, управление данными в режиме реального времени и экономически эффективные решения для промышленного контроля качества. Узнайте, как эти приборы могут улучшить ваши производственные процессы и обеспечить 100-процентную гарантию качества.
Установка тройника для фитинга трубчатой печи
В основном представлен метод установки тройника фитинга трубчатой печи.
Комплексное руководство по MPCVD: синтез алмазов и их применение
Изучите основы, преимущества и применение микроволнового плазменного химического осаждения из паровой фазы (MPCVD) в синтезе алмазов. Узнайте о его уникальных возможностях и о его сравнении с другими методами выращивания алмазов.