Продукты Тепловое оборудование ПДКВД Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории
Категории
Категории

Ярлык

Общайтесь с нами для быстрого и прямого общения.

Немедленный ответ в рабочие дни (в течение 8 часов в праздничные дни)

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

ПДКВД

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Артикул : KTWB315

Цена может варьироваться в зависимости от спецификации и настройки


Мощность микроволн
Частота микроволн 2450±15MHZ
Выходная мощность
1~10 KW плавно регулируемая
Утечка микроволн
≤2МВт/см2
Интерфейс выходного волновода
WR340, 430 со стандартным фланцем FD-340, 430
Держатель образца
Диаметр столика для образцов≥72 мм, эффективная площадь использования≥66 мм
ISO & CE icon

Доставка:

Свяжитесь с нами чтобы получить подробности о доставке. Наслаждайтесь Гарантия своевременной отправки.

Оставить сообщение Быстрое получение цены Via Онлайн чат

MPCVD расшифровывается как Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition. Это метод выращивания высококачественных алмазных пленок в лабораторных условиях с помощью углеродсодержащего газа и микроволновой плазмы.

KinTek MPCVD

Система MPCVD

Система MPCVD (Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition) - это процесс, используемый для нанесения тонких пленок на поверхность подложки. Система состоит из вакуумной камеры, в которой происходит процесс осаждения, микроволнового генератора и системы подачи газа. Микроволновый генератор используется для создания плазмы внутри вакуумной камеры, которая используется для разложения и осаждения газовых веществ на подложку.

Микроволновый генератор обычно представляет собой магнетрон или клистрон, который генерирует микроволны в диапазоне 2,45 ГГц. Микроволны соединяются с вакуумной камерой через кварцевое окно.

Система подачи газа состоит из контроллеров массового расхода (MFC), которые управляют потоком газа в вакуумную камеру. MFC откалиброваны в стандартных кубических сантиметрах в минуту (sccm).

Температура подложки контролируется положением плазмы и измеряется термопарой. Плазма используется для нагрева подложки, а температура контролируется термопарой, чтобы убедиться, что подложка имеет желаемую температуру во время процесса осаждения.

Области применения

MPCVD - перспективная технология для производства недорогих высококачественных крупных алмазов.

Уникальные свойства алмаза, включая его твердость, жесткость, высокую теплопроводность, низкое тепловое расширение, радиационную стойкость и химическую инертность, делают его ценным материалом.

Несмотря на огромный потенциал, высокая стоимость, ограниченные размеры и сложность контроля примесей в природных и синтетических алмазах, полученных при высоком давлении и высокой температуре, ограничивают их применение.

MPCVD - это основное оборудование, используемое для выращивания алмазных камней и пленок.

Алмазные пленки могут быть как монокристаллическими, так и поликристаллическими, и этот метод широко используется в полупроводниковой промышленности для изготовления крупногабаритных алмазных подложек, а также в производстве алмазных режущих или буровых инструментов.

По сравнению с методом HPHT для лабораторного выращивания алмазов, микроволновой CVD-метод выгоден для выращивания алмазов большого размера при более низкой стоимости, что делает его идеальным решением для применения в полупроводниковых алмазах, выращивания алмазов для оптики и потребностей рынка крупных ювелирных алмазов.

Установки KINTEK MPCVD
Алмазные машины KINTEK MPCVD
Новая модель алмазной установки KINTEK MPCVD
Новая модель алмазной установки KINTEK MPCVD
Новая модель алмазной установки KINTEK MPCVD
Новая модель алмазной установки KINTEK MPCVD
Необработанные алмазы, выращенные на установке KINTEK MPCVD
Алмазное сырье, выращенное на установке KINTEK MPCVD
В установке KinTek MPCVD растут алмазы
В установке KinTek MPCVD растут алмазы
В установке KinTek MPCVD алмазы растут
В установке KinTek MPCVD алмазы растут
В установке KinTek MPCVD растут алмазы
В установке KinTek MPCVD растут алмазы
В установке KinTek MPCVD растут алмазы
В установке KinTek MPCVD растут алмазы
В установке KinTek MPCVD растут алмазы
В установке KinTek MPCVD растут алмазы
Необработанный алмаз, выращенный на установке MPCVD компании KINTEK
Необработанный алмаз, выращенный на установке MPCVD компании KINTEK
Необработанный алмаз, выращенный на установке MPCVD компании KINTEK
Необработанный алмаз, выращенный на установке MPCVD компании KINTEK
Необработанный алмаз, выращенный на установке KINTEK MPCVD
Необработанный алмаз, выращенный на установке KINTEK MPCVD
Алмазы, выращенные методом MPCVD, после полировки
Алмазы, выращенные методом MPCVD, после полировки
Поликристаллический на установке KinTek MPCVD
Поликристаллический алмаз, выращенный на установке KinTek MPCVD

Преимущества MPCVD

MPCVD - это метод синтеза алмазов, который имеет ряд преимуществ перед другими методами, такими как HFCVD и DC-PJ CVD. Он позволяет избежать загрязнения алмаза горячими проводами и использовать несколько газов для удовлетворения различных промышленных потребностей. По сравнению с DC-PJ CVD, он позволяет плавно и непрерывно регулировать мощность микроволн и стабильно контролировать температуру реакции, что позволяет избежать выпадения кристаллических зерен с подложки из-за дуги и пробоя пламени. Благодаря большой площади стабильной плазмы разряда, метод MPCVD считается наиболее перспективным методом синтеза алмазов для промышленного применения.

Алмазы, полученные методом MPCVD, отличаются более высокой чистотой по сравнению с алмазами, полученными методом HPHT, а сам процесс производства потребляет меньше энергии. Кроме того, метод MPCVD позволяет получать более крупные алмазы.

Преимущества нашей системы MPCVD

Мы работаем в этой отрасли уже много лет, и благодаря этому у нас есть обширная клиентская база, которая доверяет нашему оборудованию и пользуется им. Наше оборудование MPCVD стабильно работает уже более 40 000 часов, демонстрируя исключительную стабильность, надежность, повторяемость и экономическую эффективность. Дополнительные преимущества нашей системы MPCVD включают:

  • Область выращивания подложек 3 дюйма, максимальная загрузка партии до 45 алмазов
  • 1-10 кВт регулируемой выходной микроволновой мощности для меньшего потребления электроэнергии
  • Богатая опытная команда исследователей с передовой поддержкой рецептов выращивания алмазов
  • Эксклюзивная программа технической поддержки для команды с нулевым опытом выращивания алмазов

Используя накопленные нами передовые технологии, мы провели несколько раундов модернизации и усовершенствования нашей системы MPCVD, что привело к значительному повышению эффективности и снижению стоимости оборудования. В результате наше MPCVD-оборудование находится на переднем крае технологических достижений и предлагается по конкурентоспособной цене. Добро пожаловать к нам за консультацией.

KinTek MPCVD Моделирование
Моделирование MPCVD в KinTek

Рабочая обработка

MPCVD-установка контролирует поток каждого газового тракта и давление в полости, вводя реакционные газы (такие как CH4, H2, Ar, O2, N2 и т.д.) в полость под определенным давлением. После стабилизации воздушного потока твердотельный микроволновый генератор мощностью 6 кВт генерирует микроволны, которые затем вводятся в полость через волновод.

Под воздействием СВЧ-поля реакционный газ переходит в состояние плазмы, образуя плазменный шар, который парит над алмазной подложкой. Высокая температура плазмы нагревает подложку до определенной температуры. Избыточное тепло, выделяющееся в полости, рассеивается водяным охладителем.

Для обеспечения оптимальных условий роста в процессе выращивания монокристалла алмаза методом MPCVD мы регулируем такие факторы, как мощность, состав газового источника и давление в полости. Кроме того, поскольку плазменный шар не соприкасается со стенками полости, в процессе роста алмаза отсутствуют примеси, что повышает его качество.

Детали и узлы

Микроволновая система

Микроволновая система

Реакционная камера

Реакционная камера

Система подачи газа

Система подачи газа

Вакуумная система и система датчиков

Вакуумная система и система датчиков

Технические характеристики

Микроволновая система
  • Частота микроволн 2450±15MHZ,
  • Выходная мощность 1~10 KW плавно регулируемая
  • Стабильность выходной мощности микроволн: <±1%
  • Микроволновая утечка ≤2MW/cm2
  • Интерфейс выходного волновода: WR340, 430 со стандартным фланцем FD-340, 430
  • Поток охлаждающей воды: 6-12 л/мин
  • Коэффициент стоячей волны системы: VSWR ≤ 1,5
  • Микроволновый ручной 3-контактный регулятор, полость возбуждения, мощная нагрузка
  • Входной источник питания: 380 В переменного тока/50 Гц ± 10%, трехфазный
Реакционная камера
  • Скорость утечки вакуума<5 × 10-9 Па .м3/с
  • Предельное давление менее 0,7 Па (стандартная установка с вакуумметром Пирани)
  • Повышение давления в камере не должно превышать 50 Па после 12 часов поддержания давления
  • Режим работы реакционной камеры: Режим TM021 или TM023
  • Тип резонатора: Цилиндрическая резонансная полость, с максимальной несущей способностью 10 кВт, изготовленная из нержавеющей стали 304, с водяным охлаждением внутреннего слоя, и методом уплотнения кварцевой пластины высокой чистоты.
  • Режим забора воздуха: Верхний кольцевой равномерный воздухозаборник
  • Вакуумное уплотнение: Нижнее соединение основной камеры и инжекционная дверь уплотнены резиновыми кольцами, вакуумный насос и сильфон уплотнены KF, кварцевая пластина уплотнена металлическим C-кольцом, а остальные уплотнены CF
  • Окно для наблюдения и измерения температуры: 8 смотровых отверстий
  • Порт для загрузки образца в передней части камеры
  • Стабильное разряжение в диапазоне давлений 0,7KPa~30KPa (давление питания должно быть согласовано)
Держатель образца
  • Диаметр столика для образцов≥72 мм, эффективная площадь использования≥66 мм
  • Платформа базовой плиты с водяным охлаждением сэндвич-структуры
  • Держатель образца может быть поднят и опущен равномерно электрически в полости
Система подачи газа
  • Весь металл сварки воздушный диск
  • Сварка или VCR соединения должны быть использованы для всех внутренних газовых контуров оборудования.
  • 5-канальный расходомер MFC, H2/CH4/O2/N/Ar. H2: 1000 куб. м; CH4: 100 куб. м; O2: 2 куб. м; N2: 2 куб. м; Ar: 10 куб.м.
  • Рабочее давление 0,05-0,3 МПа, точность ±2%
  • Независимое пневматическое управление клапаном для каждого канала расходомера
Система охлаждения
  • 3 линии водяного охлаждения, мониторинг температуры и потока в реальном времени.
  • Поток охлаждающей воды системы ≤ 50L/min
  • Давление охлаждающей воды составляет <4KG, а температура воды на входе 20-25 ℃.
Датчик температуры
  • Внешний инфракрасный термометр имеет диапазон температур 300-1400 ℃
  • Точность контроля температуры < 2 ℃ или 2%
Система управления
  • Siemens smart 200 PLC и сенсорный экран управления приняты.
  • Система имеет множество программ, которые могут реализовать автоматический баланс температуры роста, точный контроль давления воздуха роста, автоматическое повышение температуры, автоматическое понижение температуры и другие функции.
  • Стабильная работа оборудования и комплексная защита оборудования достигаются за счет контроля расхода воды, температуры, давления и других параметров, а надежность и безопасность работы гарантируется функциональной блокировкой.
Дополнительная функция
  • Система мониторинга центра
  • Мощность базирования подложки

Предупреждения

Безопасность оператора – первостепенная задача! Пожалуйста, используйте оборудование с осторожностью. Работа с легковоспламеняющимися, взрывоопасными или токсичными газами очень опасна, операторы должны принять все необходимые меры предосторожности перед запуском оборудования. Работа с избыточным давлением внутри реакторов или камер опасна, оператор должен строго соблюдать технику безопасности. Следует также соблюдать особую осторожность при работе с материалами, реагирующими с воздухом, особенно в условиях вакуума. Утечка может привести к попаданию воздуха в аппарат и вызвать бурную реакцию.

Создан для вас

KinTek предоставляет специализированные услуги и оборудование для клиентов по всему миру, наша специализированная командная работа и богатый опыт инженеров способны выполнить индивидуальные требования к аппаратному и программному оборудованию, а также помочь нашим клиентам создать эксклюзивное и индивидуальное оборудование и решение!

Не могли бы вы поделиться своими идеями с нами, наши инженеры готовы для вас прямо сейчас!

FAQ

Что такое МпкВД?

MPCVD расшифровывается как Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition и представляет собой процесс осаждения тонких пленок на поверхность. Он использует вакуумную камеру, микроволновый генератор и систему подачи газа для создания плазмы, состоящей из реагирующих химических веществ и необходимых катализаторов. MPCVD широко используется в сети ANFF для осаждения слоев алмаза с использованием метана и водорода для выращивания нового алмаза на подложке с алмазными затравками. Это многообещающая технология производства недорогих высококачественных крупных алмазов, которая широко используется в полупроводниковой и алмазообрабатывающей промышленности.

Что такое машина Mpcvd?

Установка MPCVD (микроволновое плазменно-химическое осаждение из паровой фазы) представляет собой лабораторное оборудование, используемое для выращивания высококачественных алмазных пленок. Он использует углеродсодержащий газ и микроволновую плазму для создания плазменного шара над алмазной подложкой, который нагревает ее до определенной температуры. Плазменный шар не соприкасается со стенкой полости, что делает процесс роста алмаза свободным от примесей и повышает качество алмаза. Система MPVD состоит из вакуумной камеры, микроволнового генератора и системы подачи газа, которая регулирует подачу газа в камеру.

Каковы преимущества Mpcvd?

MPCVD имеет несколько преимуществ по сравнению с другими методами производства алмазов, таких как более высокая чистота, меньшее потребление энергии и возможность производить более крупные алмазы.

Алмазы CVD настоящие или поддельные?

Алмазы CVD — это настоящие бриллианты, а не подделка. Их выращивают в лаборатории с помощью процесса, называемого химическим осаждением из паровой фазы (CVD). В отличие от природных алмазов, которые добывают из-под земли, алмазы CVD создаются с использованием передовых технологий в лабораториях. Эти алмазы на 100% состоят из углерода и представляют собой чистейшую форму алмазов, известную как алмазы типа IIa. Они обладают теми же оптическими, тепловыми, физическими и химическими свойствами, что и природные алмазы. Единственное отличие состоит в том, что алмазы CVD создаются в лаборатории, а не добываются из земли.
Посмотреть больше часто задаваемых вопросов по этому продукту

4.9

out of

5

KINTEK's MPCVD machine is a game-changer! Its 1-10Kw adjustable output microwave power feature not only saves electricity but also ensures precise control over the diamond growth process.

Harshitha Gujjar

4.8

out of

5

As a lab manager, I appreciate the stability and reliability of the KINTEK MPCVD system. It has been running non-stop for over 40,000 hours, providing us with consistent, high-quality diamond growth.

Elvin Wang

4.7

out of

5

The rich experience and frontier diamond growing recipe support from KINTEK's research team have been invaluable. Their expertise has helped us optimize our MPCVD process and achieve exceptional results.

Sophia Mitchell

4.8

out of

5

KINTEK's exclusive technical support program for teams with zero diamond growing experience is a lifesaver. Their guidance and assistance have been instrumental in our successful adoption of the MPCVD system.

Mustafa Kamal

5.0

out of

5

The 3 inches substrate growing area and max. batch load of up to 45 pieces diamonds make the KINTEK MPCVD machine a highly efficient and productive choice for our lab. We can now produce more diamonds in less time.

Isabella Garcia

4.9

out of

5

The KINTEK MPCVD system is a technological marvel. Its advanced features and continuous upgrades have kept us at the forefront of diamond growth innovation.

Oliver Chen

4.7

out of

5

The competitive price of the KINTEK MPCVD equipment makes it an affordable and accessible solution for labs like ours. We're grateful for the opportunity to leverage its cutting-edge technology without breaking the bank.

Aisha Khan

5.0

out of

5

The KINTEK MPCVD machine has exceeded our expectations. Its user-friendly interface, stable performance, and exceptional diamond quality have made it an indispensable tool in our lab.

Elijah Harper

PDF - Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Скачать

Каталог Пдквд

Скачать

Каталог Машина Mpcvd

Скачать

ЗАПРОС ЦИТАТЫ

Наша профессиональная команда ответит вам в течение одного рабочего дня. Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!

Связанные товары

915MHz MPCVD алмазная машина

915MHz MPCVD алмазная машина

915MHz MPCVD Diamond Machine и его многокристальный эффективный рост, максимальная площадь может достигать 8 дюймов, максимальная эффективная площадь роста монокристалла может достигать 5 дюймов. Это оборудование в основном используется для производства поликристаллических алмазных пленок большого размера, роста длинных монокристаллов алмазов, низкотемпературного роста высококачественного графена и других материалов, для роста которых требуется энергия, предоставляемая микроволновой плазмой.

Скользящая трубчатая печь PECVD с жидким газификатором PECVD машина

Скользящая трубчатая печь PECVD с жидким газификатором PECVD машина

Система KT-PE12 Slide PECVD: широкий диапазон мощностей, программируемый контроль температуры, быстрый нагрев/охлаждение с помощью скользящей системы, контроль массового расхода MFC и вакуумный насос.

Универсальная трубчатая печь CVD, изготовленная по индивидуальному заказу CVD-машина

Универсальная трубчатая печь CVD, изготовленная по индивидуальному заказу CVD-машина

Получите свою эксклюзивную печь CVD с универсальной печью KT-CTF16, изготовленной по индивидуальному заказу. Настраиваемые функции скольжения, вращения и наклона для точной реакции. Заказать сейчас!

Молибден Вакуумная печь

Молибден Вакуумная печь

Откройте для себя преимущества молибденовой вакуумной печи высокой конфигурации с теплозащитной изоляцией. Идеально подходит для работы в вакуумных средах высокой чистоты, таких как выращивание кристаллов сапфира и термообработка.

Стеклоуглеродный лист - РВК

Стеклоуглеродный лист - РВК

Откройте для себя наш стеклоуглеродный лист - RVC. Этот высококачественный материал, идеально подходящий для ваших экспериментов, поднимет ваши исследования на новый уровень.

12-дюймовый/24-дюймовый высокоточный автоматический станок для резки алмазной проволоки

12-дюймовый/24-дюймовый высокоточный автоматический станок для резки алмазной проволоки

Высокоточный автоматический станок для резки алмазной проволокой представляет собой универсальный режущий инструмент, который использует алмазную проволоку для резки широкого спектра материалов, включая проводящие и непроводящие материалы, керамику, стекло, камни, драгоценные камни, нефрит, метеориты, монокристаллический кремний, карбид кремния, поликристаллический кремний, огнеупорный кирпич, эпоксидные плиты и ферритовые тела. Он особенно подходит для резки различных хрупких кристаллов высокой твердости, высокой стоимости и легко ломается.

Связанные статьи

Как получить монокристаллический алмаз высокого качества с помощью MPCVD

Как получить монокристаллический алмаз высокого качества с помощью MPCVD

Микроволновое плазмохимическое осаждение из газовой фазы (MPCVD) является популярным методом получения высококачественных монокристаллов алмаза.

Узнать больше
Процесс изготовления CVD-алмаза на машине MPCVD

Процесс изготовления CVD-алмаза на машине MPCVD

Алмазные станки CVD приобрели большое значение в различных отраслях промышленности и научных исследованиях.

Узнать больше
Достижения в системах MPCVD для монокристаллических алмазов большого размера

Достижения в системах MPCVD для монокристаллических алмазов большого размера

Достижения в системах MPCVD позволили производить более крупные и высококачественные монокристаллические алмазы, предлагая многообещающий потенциал для будущих применений.

Узнать больше
Введение в химическое осаждение из паровой фазы (CVD)

Введение в химическое осаждение из паровой фазы (CVD)

Химическое осаждение из паровой фазы, или CVD, представляет собой процесс нанесения покрытия, который включает использование газообразных реагентов для получения тонких пленок и покрытий высокого качества.

Узнать больше
Химическое осаждение из паровой фазы с расширенной плазмой (PECVD): Исчерпывающее руководство

Химическое осаждение из паровой фазы с расширенной плазмой (PECVD): Исчерпывающее руководство

Узнайте все, что вам нужно знать о плазменном химическом осаждении из паровой фазы (PECVD) - технологии осаждения тонких пленок, используемой в полупроводниковой промышленности. Изучите ее принципы, области применения и преимущества.

Узнать больше
Понимание PECVD: руководство по химическому осаждению из паровой фазы с плазменным усилением

Понимание PECVD: руководство по химическому осаждению из паровой фазы с плазменным усилением

PECVD — полезный метод для создания тонкопленочных покрытий, поскольку он позволяет наносить самые разные материалы, включая оксиды, нитриды и карбиды.

Узнать больше
Печь CVD для выращивания углеродных нанотрубок

Печь CVD для выращивания углеродных нанотрубок

Технология печи химического осаждения из паровой фазы (CVD) является широко используемым методом выращивания углеродных нанотрубок.

Узнать больше
Преимущества и недостатки химического осаждения из паровой фазы (CVD)

Преимущества и недостатки химического осаждения из паровой фазы (CVD)

Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) - это универсальный метод осаждения тонких пленок, широко используемый в различных отраслях промышленности. Изучите ее преимущества, недостатки и потенциальные новые применения.

Узнать больше
Комплексное руководство по MPCVD: синтез алмазов и их применение

Комплексное руководство по MPCVD: синтез алмазов и их применение

Изучите основы, преимущества и применение микроволнового плазменного химического осаждения из паровой фазы (MPCVD) в синтезе алмазов. Узнайте о его уникальных возможностях и о его сравнении с другими методами выращивания алмазов.

Узнать больше
CVD-машины для нанесения тонких пленок

CVD-машины для нанесения тонких пленок

Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) — широко используемый метод осаждения тонких пленок на различные подложки.

Узнать больше
Руководство для начинающих по машинам MPCVD

Руководство для начинающих по машинам MPCVD

MPCVD (микроволновое плазменное химическое осаждение из паровой фазы) — это процесс, используемый для осаждения тонких пленок материала на подложку с использованием плазмы, генерируемой микроволнами.

Узнать больше
Печь PECVD Маломощное и низкотемпературное решение для мягких материалов

Печь PECVD Маломощное и низкотемпературное решение для мягких материалов

Печи PECVD (химическое осаждение из паровой фазы с плазменным усилением) стали популярным решением для осаждения тонких пленок на поверхности мягких материалов.

Узнать больше

Популярные теги