Продукты Тепловое оборудование ПДКВД 915 МГц MPCVD Алмазная установка Микроволновая плазменная химическая осаждение из газовой фазы Система реактора
Категории
Категории
915 МГц MPCVD Алмазная установка Микроволновая плазменная химическая осаждение из газовой фазы Система реактора

ПДКВД

915 МГц MPCVD Алмазная установка Микроволновая плазменная химическая осаждение из газовой фазы Система реактора

Артикул : MP-CVD-101

Цена может варьироваться в зависимости от спецификации и настройки


ISO & CE icon

Доставка:

Свяжитесь с нами чтобы получить подробности о доставке. Наслаждайтесь Гарантия своевременной отправки.

Цена

Почему выбирают нас

Надежный партнер

Простой процесс заказа, качественные продукты и специализированная поддержка для успеха вашего бизнеса.

Простой процесс Гарантия качества Специализированная поддержка

Введение

Алмазная установка MPCVD — это революционная технология, использующая микроволновую плазменную химическую осаждение из газовой фазы (MPCVD) для синтеза алмазов. Этот передовой метод обеспечивает более быстрый рост кристаллов, более высокую производительность и улучшенное качество алмазов по сравнению с традиционными методами.

Алмазная установка MPCVD обеспечивает точный контроль мощности микроволн и температуры реакции, устраняя проблемы, возникающие в других методах CVD. Оптимизируя конструкцию реакционной камеры и параметры процесса, она обеспечивает стабильный плазменный разряд, что крайне важно для производства высококачественных крупномасштабных монокристаллических алмазов.

Универсальность алмазной установки MPCVD распространяется на ее способность создавать алмазы различных цветов, включая белый, желтый, розовый и синий. Кроме того, она предлагает индивидуальное производство для удовлетворения конкретных рыночных потребностей.

Применение

Алмазные установки MPCVD широко используются в различных отраслях благодаря уникальным свойствам алмазов, таким как их твердость, жесткость, высокая теплопроводность, низкое тепловое расширение, радиационная стойкость и химическая инертность. Вот некоторые из основных областей применения алмазных установок MPCVD:

  • Алмазные драгоценные камни: MPCVD является основным оборудованием, используемым для выращивания высококачественных крупномасштабных алмазных драгоценных камней.
  • Алмазные пленки: MPCVD используется для выращивания алмазных пленок для различных применений, включая крупномасштабные алмазные подложки для полупроводниковой промышленности и алмазные режущие или сверлильные инструменты.
  • Промышленные применения: MPCVD используется для производства алмазных покрытий для режущих инструментов, сверл и других промышленных применений, где требуется исключительная твердость и долговечность.
  • Биомедицинские применения: MPCVD используется для производства алмазных покрытий для медицинских имплантатов, таких как искусственные суставы и зубные имплантаты, где важна биосовместимость и долговечность.
  • Оптоэлектроника: MPCVD используется для производства алмазных окон и подложек для оптоэлектронных устройств, таких как мощные лазеры и детекторы, где критически важны высокая теплопроводность и низкое тепловое расширение.

Детали и компоненты

Подробности MPCVD

Подробности MPCVD

Принцип

Микроволновая плазменная химическая осаждение из газовой фазы (MPCVD) — это процесс химического осаждения из газовой фазы, который использует непрерывный источник микроволн для генерации и поддержания высокореактивной плазмы, состоящей из реагирующих химикатов и необходимых катализаторов. MPCVD широко используется для нанесения алмазных слоев — метан и водород вводятся и используются для выращивания нового алмаза на подложке с затравкой алмаза.

Характеристики

Алмазная установка MPCVD обладает рядом преимуществ, которые приносят пользу клиентам:

  • Более высокая скорость роста кристаллов: в 10-100 раз быстрее, чем традиционные методы, что приводит к повышению эффективности производства.
  • Большая производственная мощность: обеспечивает более высокую производственную мощность за одну партию, позволяя осуществлять синтез алмазов в более крупных масштабах.
  • Более высокое качество: производит алмазы с более высокой твердостью и прочностью, чем природные алмазы, обеспечивая долговечность и срок службы.
  • Более разнообразные цвета: поддерживает производство алмазов различных цветов, включая белый, желтый, розовый и синий, удовлетворяя разнообразные рыночные потребности.
  • Более высокая чистота алмазов: производит алмазы с более высокой чистотой, чем природные алмазы типа II, обеспечивая исключительные оптические свойства и пригодность для различных применений.
  • Многостильная настройка: предлагает настраиваемые дизайны для удовлетворения специфических рыночных требований, предоставляя индивидуальные решения для различных отраслей.

Технические характеристики

Микроволновая система (в зависимости от дополнительного источника питания)

  • Рабочая частота: 915±15 МГц
  • Выходная мощность: 3-75 кВт, плавно регулируемая
  • Расход охлаждающей воды: 120 л/мин
  • Коэффициент стоячей волны системы: КСВ ≤ 1,5
  • Утечка микроволн: < 2 мВт/см²

Вакуумная система и реакционная камера

  • Скорость утечки < 5×10⁻⁹ Па·м³/с
  • Предельное давление менее 0,7 Па (в комплекте с импортным вакуумметром Пирани)
  • Повышение давления в полости не должно превышать 50 Па после 12 часов поддержания давления.
  • Режим работы реакционной камеры: режим TM021 или TM023
  • Тип резонатора: охлаждаемый цилиндрический резонатор, выдерживает мощность до 75 кВт, высокая чистота, уплотнение каменным кольцом.
  • Метод подачи: подача через верхнюю распылительную головку.
  • Окно наблюдения температуры: 8 смотровых отверстий, равномерно распределенных по горизонтали.
  • Порт отбора проб: нижний подъемный порт отбора проб

Система держателя образцов

  • Диаметр стола образцов ≥ 200 мм, эффективная площадь использования монокристалла ≥ 130 мм, эффективная площадь использования поликристалла ≥ 200 мм. Подложечная платформа имеет водяное охлаждение с сэндвич-структурой, вертикальное движение вверх-вниз.

Газовая система

  • Сварная газовая плита с полным металлическим покрытием, 5-7 газовых линий
  • Все внутренние воздушные контуры оборудования используют сварные или VCR-соединения.

Система охлаждения

  • 3-ходовое водяное охлаждение, мониторинг температуры и расхода в реальном времени.
  • Расход охлаждающей воды системы 120 л/мин, давление охлаждающей воды < 4 кг, температура входной воды 20-25°C.

Метод измерения температуры

  • Внешний инфракрасный термометр, диапазон температур 300-1400 °C

Список ключевых компонентов оборудования SL901A

порядковый номер Название модуля Примечание
1 Микроволновой источник питания Стандартный отечественный магнетрон: Yingjie Electric / Distinguish power supply; Отечественный твердотельный источник: Watson (+30 000); Импортный магнетрон: MKS/ pastoral (+100 000)
2 Волновод, три штыря, преобразователь мод, верхний резонатор Собственное производство
3 Вакуумная реакционная камера (верхняя камера, нижняя камера, соединители) Собственное производство
4 Инфракрасные термометры, компоненты оптического смещения, кронштейны Инфракрасные термометры, компоненты оптического смещения, кронштейны Fuji Gold Siemens + Schneider
5 Компоненты движения стола с водяным охлаждением (цилиндры, заготовки и т. д.)
6 Керамический тонкопленочный вакуумметр, вакуумметр Пирани Inficon
7 Компоненты вакуумных клапанов (затвор сверхвысоковакуумный, прецизионный пневматический клапан*2, электромагнитный дифференциальный клапан для вакуумной зарядки) Fujikin + Zhongke + Himat
8 Вакуумный насос и соединительные трубы, тройник, сильфон KF25*2, адаптер Насос: Flyover 16L
9 Металлическое микроволновое уплотнительное кольцо*2; металлическое вакуумное уплотнительное кольцо*1; Кварцевая пластина Кварц: Shanghai Feilihua, полупроводниковый класс, высокая чистота
10 Компоненты циркуляционного водяного охлаждения (соединения, разделительные блоки, датчики потока) Японский SMC/CKD
11 Пневматическая часть (фильтр CKD, многоходовой соленоидный клапан Airtac, фитинги и адаптеры)
12 Газовый соединитель, газопровод EP, VCR-соединитель, фильтр 0,0023 мкм*1, фильтр 10 мкм*2 Fujikin
13 Корпус машины, стол из нержавеющей стали, универсальные колеса, ножки, крепежные винты кронштейна и т. д. Индивидуальная обработка
14 Расходомер газа*6 (включая один с контролем давления) Стандартный Seven-star, опционально Fuji Gold (+34 000) / Alicat (42 000)
15 Обработка газовой плиты (5-ходовая газовая линия, фильтр*5, пневматический клапан*5, ручной клапан*6, сварка трубопроводов) Fuji Gold
16 Автоматическое управление ПЛК Siemens + Schneider
17 Молибденовый стол

Преимущества

  • Более высокая скорость роста кристаллов — в 10-100 раз быстрее, чем традиционные методы
  • Большая производственная мощность — большая производственная мощность за одну партию
  • Более высокое качество — более высокая твердость и прочность, чем у природных алмазов
  • Более разнообразные цвета — белый, желтый, розовый, синий и т. д.
  • Более высокая чистота алмазов — чище, чем природные алмазы типа II
  • Многостильная настройка — может быть настроена в соответствии с различными рынками

FAQ

Что такое МпкВД?

MPCVD расшифровывается как Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition и представляет собой процесс осаждения тонких пленок на поверхность. Он использует вакуумную камеру, микроволновый генератор и систему подачи газа для создания плазмы, состоящей из реагирующих химических веществ и необходимых катализаторов. MPCVD широко используется в сети ANFF для осаждения слоев алмаза с использованием метана и водорода для выращивания нового алмаза на подложке с алмазными затравками. Это многообещающая технология производства недорогих высококачественных крупных алмазов, которая широко используется в полупроводниковой и алмазообрабатывающей промышленности.

Что такое машина Mpcvd?

Установка MPCVD (микроволновое плазменно-химическое осаждение из паровой фазы) представляет собой лабораторное оборудование, используемое для выращивания высококачественных алмазных пленок. Он использует углеродсодержащий газ и микроволновую плазму для создания плазменного шара над алмазной подложкой, который нагревает ее до определенной температуры. Плазменный шар не соприкасается со стенкой полости, что делает процесс роста алмаза свободным от примесей и повышает качество алмаза. Система MPVD состоит из вакуумной камеры, микроволнового генератора и системы подачи газа, которая регулирует подачу газа в камеру.

Каковы преимущества Mpcvd?

MPCVD имеет несколько преимуществ по сравнению с другими методами производства алмазов, таких как более высокая чистота, меньшее потребление энергии и возможность производить более крупные алмазы.

Алмазы CVD настоящие или поддельные?

Алмазы CVD — это настоящие бриллианты, а не подделка. Их выращивают в лаборатории с помощью процесса, называемого химическим осаждением из паровой фазы (CVD). В отличие от природных алмазов, которые добывают из-под земли, алмазы CVD создаются с использованием передовых технологий в лабораториях. Эти алмазы на 100% состоят из углерода и представляют собой чистейшую форму алмазов, известную как алмазы типа IIa. Они обладают теми же оптическими, тепловыми, физическими и химическими свойствами, что и природные алмазы. Единственное отличие состоит в том, что алмазы CVD создаются в лаборатории, а не добываются из земли.
Посмотреть больше часто задаваемых вопросов по этому продукту

4.8

out of

5

I'm marvelled by the MPCVD machine's ability to produce high-purity diamonds with minimal energy consumption.

Elena Volkova

4.9

out of

5

The MPCVD machine has revolutionized diamond synthesis, enabling the production of larger diamonds with exceptional quality.

Aiden Smith

4.7

out of

5

I highly recommend the MPCVD machine for its durability and cost-effectiveness. It's a game-changer in diamond synthesis.

Isabella Garcia

4.6

out of

5

The MPCVD machine is user-friendly and requires minimal maintenance. It's a valuable asset for any laboratory.

Liam Brown

4.8

out of

5

The MPCVD machine has enabled us to produce high-quality diamonds for various industrial applications. It's a reliable and efficient machine.

Sophia Patel

4.9

out of

5

The MPCVD machine's ability to adjust microwave power and control reaction temperature precisely is remarkable. It ensures consistent and high-quality diamond synthesis.

Jackson Kim

4.7

out of

5

The MPCVD machine stands out with its large-area stable discharge plasma, which enables the production of high-quality, large-sized single crystal diamonds.

Mia Rodriguez

4.6

out of

5

I'm thoroughly impressed with the MPCVD machine's ability to avoid contamination and produce purer diamonds compared to traditional methods.

Oliver Chen

4.8

out of

5

The MPCVD machine is an excellent choice for laboratories seeking to produce high-quality diamonds for research and industrial applications.

Ava Johnson

4.9

out of

5

The MPCVD machine has exceeded our expectations. It's a valuable addition to our laboratory, enabling us to produce diamonds with remarkable properties.

Lucas Baker

Продукты

915 МГц MPCVD Алмазная установка Микроволновая плазменная химическая осаждение из газовой фазы Система реактора

PDF Формат Каталог
Скачать

Категория

Пдквд

PDF Формат Каталог
Скачать

ЗАПРОС ЦИТАТЫ

Наша профессиональная команда ответит вам в течение одного рабочего дня. Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!

Связанные товары

Реактор установки для цилиндрического резонатора МПХВД для химического осаждения из паровой фазы в микроволновой плазме и выращивания лабораторных алмазов

Реактор установки для цилиндрического резонатора МПХВД для химического осаждения из паровой фазы в микроволновой плазме и выращивания лабораторных алмазов

Узнайте о машине МПХВД с цилиндрическим резонатором, методе химического осаждения из паровой фазы в микроволновой плазме, используемом для выращивания алмазных драгоценных камней и пленок в ювелирной и полупроводниковой промышленности. Откройте для себя ее экономически выгодные преимущества по сравнению с традиционными методами HPHT.

Оборудование для осаждения из паровой фазы CVD Система Камерная Печь-труба PECVD с Жидкостным Газификатором Машина PECVD

Оборудование для осаждения из паровой фазы CVD Система Камерная Печь-труба PECVD с Жидкостным Газификатором Машина PECVD

KT-PE12 Скользящая система PECVD: широкий диапазон мощности, программируемое управление температурой, быстрый нагрев/охлаждение с раздвижной системой, управление массовым расходом MFC и вакуумный насос.

Печь для трубчатого химического осаждения из паровой фазы, изготовленная на заказ, универсальная система оборудования для химического осаждения из паровой фазы

Печь для трубчатого химического осаждения из паровой фазы, изготовленная на заказ, универсальная система оборудования для химического осаждения из паровой фазы

Получите эксклюзивную печь для химического осаждения из паровой фазы KT-CTF16, изготовленную на заказ. Настраиваемые функции скольжения, вращения и наклона для точных реакций. Закажите сейчас!

Связанные статьи

Процесс изготовления CVD-алмаза на машине MPCVD

Процесс изготовления CVD-алмаза на машине MPCVD

Алмазные станки CVD приобрели большое значение в различных отраслях промышленности и научных исследованиях.

Узнать больше
Достижения в системах MPCVD для монокристаллических алмазов большого размера

Достижения в системах MPCVD для монокристаллических алмазов большого размера

Достижения в системах MPCVD позволили производить более крупные и высококачественные монокристаллические алмазы, предлагая многообещающий потенциал для будущих применений.

Узнать больше
Комплексное руководство по MPCVD: синтез алмазов и их применение

Комплексное руководство по MPCVD: синтез алмазов и их применение

Изучите основы, преимущества и применение микроволнового плазменного химического осаждения из паровой фазы (MPCVD) в синтезе алмазов. Узнайте о его уникальных возможностях и о его сравнении с другими методами выращивания алмазов.

Узнать больше
Руководство для начинающих по машинам MPCVD

Руководство для начинающих по машинам MPCVD

MPCVD (микроволновое плазменное химическое осаждение из паровой фазы) — это процесс, используемый для осаждения тонких пленок материала на подложку с использованием плазмы, генерируемой микроволнами.

Узнать больше
Химическое осаждение из паровой фазы с расширенной плазмой (PECVD): Исчерпывающее руководство

Химическое осаждение из паровой фазы с расширенной плазмой (PECVD): Исчерпывающее руководство

Узнайте все, что вам нужно знать о плазменном химическом осаждении из паровой фазы (PECVD) - технологии осаждения тонких пленок, используемой в полупроводниковой промышленности. Изучите ее принципы, области применения и преимущества.

Узнать больше
CVD-машины для нанесения тонких пленок

CVD-машины для нанесения тонких пленок

Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) — широко используемый метод осаждения тонких пленок на различные подложки.

Узнать больше
Понимание PECVD: руководство по химическому осаждению из паровой фазы с плазменным усилением

Понимание PECVD: руководство по химическому осаждению из паровой фазы с плазменным усилением

PECVD — полезный метод для создания тонкопленочных покрытий, поскольку он позволяет наносить самые разные материалы, включая оксиды, нитриды и карбиды.

Узнать больше
Понимание алмазной машины CVD и того, как она работает

Понимание алмазной машины CVD и того, как она работает

Процесс создания алмаза CVD (химическое осаждение из паровой фазы) включает осаждение атомов углерода на подложку с использованием химической реакции в газовой фазе. Процесс начинается с отбора высококачественных алмазных затравок, которые затем помещаются в камеру для выращивания вместе с газовой смесью, богатой углеродом.

Узнать больше
Машины для выращивания алмазов для современной обработки и потребность в новых режущих инструментах

Машины для выращивания алмазов для современной обработки и потребность в новых режущих инструментах

Алмазы стали популярными из-за их исключительной твердости, превосходной теплопроводности и химической стабильности.

Узнать больше
Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) графена Проблемы и решения

Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) графена Проблемы и решения

Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) — широко распространенный метод производства высококачественного графена.

Узнать больше
Сравнение производительности PECVD и HPCVD при нанесении покрытий

Сравнение производительности PECVD и HPCVD при нанесении покрытий

Хотя и PECVD, и HFCVD используются для нанесения покрытий, они различаются методами осаждения, характеристиками и пригодностью для конкретных применений.

Узнать больше
Роль плазмы в покрытиях PECVD

Роль плазмы в покрытиях PECVD

PECVD (химическое осаждение из газовой фазы с плазменным усилением) представляет собой тип процесса осаждения тонких пленок, который широко используется для создания покрытий на различных подложках. В этом процессе плазма используется для осаждения тонких пленок из различных материалов на подложку.

Узнать больше

Популярные теги