Метод испарения наночастиц заключается в нагревании исходного материала до высоких температур, в результате чего он плавится, а затем испаряется или сублимируется в пар. Испаренные атомы затем конденсируются на поверхностях в твердую форму, покрывая все в пределах видимости камеры тонким слоем исходного материала. Этот метод обычно проводится в высоковакуумной камере, чтобы свести к минимуму столкновения газов и нежелательные реакции.
Подробное объяснение:
-
Нагрев исходного материала:
-
Первым шагом в технике испарения является нагрев исходного материала. Это может быть достигнуто с помощью различных методов, таких как термическое испарение, электронно-лучевое испарение или индуктивный нагрев. Например, при электронно-лучевом испарении для нагрева исходного материала используется электронный луч, что приводит к его расплавлению и испарению. При индуктивном нагреве радиочастотная катушка индукционного нагрева окружает тигель с исходным материалом, и радиочастотная энергия нагревает материал.Испарение в вакууме:
-
Процесс испарения происходит в условиях высокого вакуума. Вакуум очень важен, так как позволяет частицам пара двигаться прямо к целевому объекту (подложке), не сталкиваясь с другими молекулами газа. Такое прямое перемещение обеспечивает более равномерное и контролируемое осаждение материала на подложку. Вакуум также помогает уменьшить количество нежелательных реакций и захваченных газовых слоев, которые могут повлиять на качество осажденной пленки.
-
Осаждение на подложку:
После испарения частицы стекают на подложку, которая располагается над исходным материалом в вакуумной камере. Здесь частицы снова конденсируются в твердое состояние, образуя тонкую пленку на подложке. Толщина этой пленки может составлять от 5 до 250 нанометров, в зависимости от желаемого применения. Процесс осаждения может изменять свойства подложки, не оказывая существенного влияния на точность ее размеров.Области применения:
