Немедленный ответ в рабочие дни (в течение 8 часов в праздничные дни)
источники термического испарения
Наши источники термического испарения являются важнейшими инструментами в области осаждения тонких пленок и используются для осаждения различных металлов, сплавов и материалов на подложки. Продукция включает молибденовые/вольфрамовые/танталовые испарительные ванны, электронно-лучевые испарительные баки, графитовые испарительные баки и др. Эти источники обеспечивают совместимость с различными источниками энергии и имеют решающее значение для получения равномерных и высококачественных тонкопленочных покрытий.
Передовые источники термического испарения для прецизионного осаждения тонких пленок
Источники термического испарения играют ключевую роль в процессе осаждения тонких пленок - технологии, широко используемой в таких отраслях, как производство полупроводников, оптика и электроника. Наш ассортимент источников термического испарения, включая молибденовые/вольфрамовые/танталовые испарительные ванны, электронно-лучевые испарительные ячейки и графитовые испарительные ячейки, разработан с учетом строгих требований, предъявляемых в этих областях.
Основные характеристики и принципы работы
Во время работы электрический ток проходит через питающие стержни в источник, что обеспечивает резистивный нагрев до высоких температур. В процессе нагрева расплавляется и испаряется поддерживаемый испаритель, выделяя пар, который перемещается через вакуум камеры для нанесения покрытия на подложку. Выбор источника имеет решающее значение, поскольку он определяет эффективность и чистоту процесса осаждения. Наши источники оснащены экранированием коробчатого типа для повышения эффективности и ограничения излучения ИК-лучей и осаждаемого материала в нежелательных направлениях.
Преимущества наших источников термического испарения
Высокая скорость осаждения: Наши источники обеспечивают быстрое и эффективное осаждение, что очень важно для высокопроизводительных приложений.
Отличная однородность: Использование масок и планетарных систем обеспечивает равномерное покрытие по всей подложке.
Низкий уровень примесей: Методы электронно-лучевого испарения обеспечивают низкий уровень примесей, что гарантирует высокую чистоту покрытий.
Универсальность: Подходит для широкого спектра материалов, включая металлы, сплавы и неметаллы.
Настраиваемые решения: Мы предлагаем настраиваемые источники испарения для удовлетворения конкретных требований заказчика, обеспечивая оптимальную производительность для уникальных применений.
Области применения
Наши источники термического испарения используются в различных областях, включая:
Производство полупроводников: Для осаждения тонких пленок в интегральных схемах.
Оптика: В производстве оптических покрытий для линз и зеркал.
Электроника: Для создания проводящих и изолирующих слоев в электронных устройствах.
Исследования и разработки: В лабораториях для исследования и разработки передовых материалов.
Почему выбирают нас?
Наши знания в области источников термического испарения подкреплены многолетним опытом и приверженностью качеству. Мы предоставляем не только высокопроизводительные продукты, но и всестороннюю техническую поддержку и услуги по настройке. Нужны ли вам стандартные источники испарения или индивидуальные решения, мы готовы удовлетворить ваши потребности.
Для получения дополнительной информации или обсуждения ваших конкретных требований, пожалуйстасвяжитесь с нами. Наша команда экспертов готова помочь вам в достижении наилучших результатов в процессах осаждения тонких пленок.
FAQ
Что такое источники термического испарения?
Источники термического испарения - это устройства, используемые в системах термического испарения для нанесения тонких пленок на подложки. Они работают за счет нагрева материала (испарителя) до высоких температур, в результате чего он испаряется, а затем конденсируется на подложке, образуя тонкую пленку.
Каковы основные типы источников термического испарения?
К основным типам источников термического испарения относятся резистивные источники испарения, электронно-лучевые источники испарения и вспышечные источники испарения. Каждый тип использует различные методы нагрева испарителя, такие как резистивный нагрев, электронно-лучевой нагрев или прямой контакт с горячей поверхностью.
Как работают источники термического испарения?
Источники термического испарения работают путем пропускания электрического тока через резистивный материал, который нагревается до высоких температур. Это тепло передается испарителю, заставляя его плавиться и испаряться. Затем пар проходит через вакуумную камеру и конденсируется на подложке, образуя тонкую пленку.
В чем преимущества использования источников термического испарения?
К преимуществам источников термического испарения относятся высокая скорость осаждения, хорошая направленность, отличная однородность и совместимость с различными материалами. Кроме того, они относительно просты и доступны по цене, что делает их пригодными для широкого спектра приложений в области осаждения тонких пленок.
Для каких целей используются источники термического испарения?
Источники термического испарения используются в различных областях, таких как производство оптических покрытий, полупроводниковых устройств и различных типов тонких пленок. Они особенно полезны в тех отраслях, где требуется точный контроль над осаждением материалов на подложки.
ЗАПРОС ЦИТАТЫ
Наша профессиональная команда ответит вам в течение одного рабочего дня. Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!