источники термического испарения

Передовые источники термического испарения для прецизионного осаждения тонких пленок

Источники термического испарения играют ключевую роль в процессе осаждения тонких пленок - технологии, широко используемой в таких отраслях, как производство полупроводников, оптика и электроника. Наш ассортимент источников термического испарения, включая молибденовые/вольфрамовые/танталовые испарительные ванны, электронно-лучевые испарительные ячейки и графитовые испарительные ячейки, разработан с учетом строгих требований, предъявляемых в этих областях.

Основные характеристики и принципы работы

Во время работы электрический ток проходит через питающие стержни в источник, что обеспечивает резистивный нагрев до высоких температур. В процессе нагрева расплавляется и испаряется поддерживаемый испаритель, выделяя пар, который перемещается через вакуум камеры для нанесения покрытия на подложку. Выбор источника имеет решающее значение, поскольку он определяет эффективность и чистоту процесса осаждения. Наши источники оснащены экранированием коробчатого типа для повышения эффективности и ограничения излучения ИК-лучей и осаждаемого материала в нежелательных направлениях.

Преимущества наших источников термического испарения

1. Высокая скорость осаждения: Наши источники обеспечивают быстрое и эффективное осаждение, что очень важно для высокопроизводительных приложений.
2. Отличная однородность: Использование масок и планетарных систем обеспечивает равномерное покрытие по всей подложке.
3. Низкий уровень примесей: Методы электронно-лучевого испарения обеспечивают низкий уровень примесей, что гарантирует высокую чистоту покрытий.
4. Универсальность: Подходит для широкого спектра материалов, включая металлы, сплавы и неметаллы.
5. Настраиваемые решения: Мы предлагаем настраиваемые источники испарения для удовлетворения конкретных требований заказчика, обеспечивая оптимальную производительность для уникальных применений.

Области применения

Наши источники термического испарения используются в различных областях, включая:

• Производство полупроводников: Для осаждения тонких пленок в интегральных схемах.
• Оптика: В производстве оптических покрытий для линз и зеркал.
• Электроника: Для создания проводящих и изолирующих слоев в электронных устройствах.
• Исследования и разработки: В лабораториях для исследования и разработки передовых материалов.

Почему выбирают нас?

Наши знания в области источников термического испарения подкреплены многолетним опытом и приверженностью качеству. Мы предоставляем не только высокопроизводительные продукты, но и всестороннюю техническую поддержку и услуги по настройке. Нужны ли вам стандартные источники испарения или индивидуальные решения, мы готовы удовлетворить ваши потребности.

Для получения дополнительной информации или обсуждения ваших конкретных требований, пожалуйстасвяжитесь с нами. Наша команда экспертов готова помочь вам в достижении наилучших результатов в процессах осаждения тонких пленок.

FAQ