Что такое вакуумный метод осаждения термическим испарением?
Реферат:
Вакуумное термическое испарение - это метод физического осаждения из паровой фазы (PVD), при котором материал нагревается в вакуумной камере до испарения и затем конденсируется на подложке. Этот процесс используется для нанесения тонких пленок материала на подложку, как правило, в контролируемой среде с низким давлением газа, чтобы испаренный материал достигал подложки без столкновений.
-
Подробное объяснение:Установка процесса:
-
Процесс начинается с вакуумной камеры, обычно изготовленной из нержавеющей стали, в которой находится тигель или лодочка из огнеупорных материалов, таких как вольфрам или молибден. Материал, который необходимо осадить (испаритель), помещается в этот тигель.
-
Нагрев и испарение:
-
Материал нагревается с помощью электрического тока или пучков электронов. Нагрев продолжается до тех пор, пока атомы на поверхности материала не получат достаточно энергии, чтобы покинуть поверхность, превратившись в пар. Для эффективного осаждения давление паров материала должно достигать не менее 10 мТорр.Осаждение в вакууме:
-
Вакуумная среда имеет решающее значение, так как обеспечивает перемещение испаренного материала на подложку без столкновения с молекулами газа. Давление внутри камеры поддерживается на таком уровне, чтобы средний свободный путь испаренных частиц был больше расстояния между источником и подложкой, обычно в пределах от 10^-5 до 10^-9 Торр.
Покрытие подложки:
Испаренный материал конденсируется на подложке, образуя тонкую пленку. Подложка обычно располагается над испаряющимся материалом, и осаждение происходит "по прямой видимости", то есть пар следует по прямому пути от источника к подложке.
