Продукты Лабораторные расходные материалы и материалы Детали осаждения тонкой пленки Электронно-лучевое напыление покрытия бескислородного медного тигля
Категории
Категории

Ярлык

Общайтесь с нами для быстрого и прямого общения.

Немедленный ответ в рабочие дни (в течение 8 часов в праздничные дни)

Электронно-лучевое напыление покрытия бескислородного медного тигля

Детали осаждения тонкой пленки

Электронно-лучевое напыление покрытия бескислородного медного тигля

Артикул : KMS06

Цена может варьироваться в зависимости от спецификации и настройки


Материал
Бескислородная медь
Спецификация
35-50*17-25мм
ISO & CE icon

Доставка:

Свяжитесь с нами чтобы получить подробности о доставке. Наслаждайтесь Гарантия своевременной отправки.

Введение

Покрытие электронно-лучевым испарением. Тигель из бескислородной меди — это тип лабораторного оборудования, используемого для осаждения тонких пленок. Он использует электронный луч для испарения материала, который затем наносится на подложку. Этот процесс используется для создания тонких пленок металлов, диэлектриков и других материалов.

Тигель из бескислородной меди с электронно-лучевым испарением изготовлен из бескислородной меди, которая имеет высокую теплопроводность и устойчива к окислению. Это делает его идеальным для использования в условиях высоких температур. Тигель также охлаждается водой, чтобы предотвратить его перегрев.

Тигель из бескислородной меди с электронно-лучевым испарением представляет собой универсальное оборудование, которое можно использовать для различных применений. Он обычно используется в полупроводниковой промышленности, но его также можно использовать и в других отраслях, например, в оптической и медицинской промышленности.

Приложение

Покрытие электронно-лучевым испарением представляет собой процесс использования электронных лучей для испарения материалов в процессе осаждения тонких пленок, а затем их конденсации на подложке с образованием тонкой пленки. При использовании методов электронно-лучевого испарения используйте тигли из бескислородной меди, чтобы поддерживать бескислородную или обедненную кислородом среду и минимизировать риск загрязнения кислородом во время испарения. Это помогает гарантировать нанесение высококачественных пленок без нежелательных химических реакций или окисления. Тигли из бескислородной меди часто предпочтительнее при работе с чувствительными материалами или при нанесении тонких пленок, где требуется высокая чистота.

  • Полупроводниковая промышленность: Производство интегральных схем, полупроводниковых приборов и микроэлектроники.
  • Оптика и фотоника: Оптические покрытия и пленки для линз, зеркал, фильтров, волноводов и других оптических компонентов.
  • Солнечная энергия: электронно-лучевое испарение используется для изготовления тонкопленочных солнечных элементов, таких как солнечные элементы CIGS (селенид меди, индия, галлия) и CdTe (теллурид кадмия).
  • Технология отображения: испарение электронным лучом используется для производства тонких пленок для различных типов дисплеев, включая LCD (жидкокристаллический дисплей), OLED (органический светоизлучающий диод) и технологии микродисплеев.
  • Производство датчиков и электроники: электронно-лучевое испарение используется для производства тонких пленок для датчиков, электроники и интегральных схем.

Электронно-лучевое напыление на детали тигля из бескислородной меди

Покрытие электронно-лучевым испарением тигля из бескислородной меди деталь 1

Покрытие электронно-лучевым испарением тигля из бескислородной меди деталь 2

Покрытие электронно-лучевым испарением тигля из бескислородной меди деталь 3

Технические характеристики

Внешний диаметр и высота 35*17 мм 40*17 мм 45*22 мм 50*25 мм

Тигли, которые мы показываем, доступны в различных размерах, а нестандартные размеры доступны по запросу.

Функции

Покрытие электронно-лучевым испарением. Тигель из бескислородной меди оснащен подом с четырьмя карманами, который может содержать до четырех исходных материалов, что позволяет последовательно наносить четыре слоя материала без нарушения вакуума. Это позволяет легко наносить несколько разных слоев покрытия из разных целевых материалов, легко адаптируясь к различным методам маскировки отрывом.

Тигель имеет водяное охлаждение, чтобы предотвратить его нагрев за счет тепловой энергии, а непосредственный нагрев исходных материалов исключает риск теплового повреждения подложки. Это делает электронно-лучевое испарение идеальным для применений, где высокие температуры и износостойкость являются ключевыми, например, в аэрокосмической, автомобильной и режущей промышленности.

Электронно-лучевое испарение также используется для тонких оптических пленок, начиная от лазерной оптики, солнечных панелей, очков и архитектурного стекла, чтобы придать им желаемые проводящие, отражающие и пропускающие свойства.

FAQ

Что такое источники термического испарения?

Источники термического испарения - это устройства, используемые в системах термического испарения для нанесения тонких пленок на подложки. Они работают за счет нагрева материала (испарителя) до высоких температур, в результате чего он испаряется, а затем конденсируется на подложке, образуя тонкую пленку.

Что такое физическое осаждение из паровой фазы (PVD)?

Физическое осаждение из паровой фазы (PVD) — это метод осаждения тонких пленок путем испарения твердого материала в вакууме и последующего осаждения его на подложку. Покрытия PVD отличаются высокой прочностью, устойчивостью к царапинам и коррозии, что делает их идеальными для различных применений, от солнечных элементов до полупроводников. PVD также создает тонкие пленки, способные выдерживать высокие температуры. Однако PVD может быть дорогостоящим, и стоимость варьируется в зависимости от используемого метода. Например, испарение является дешевым методом PVD, а ионно-лучевое распыление довольно дорого. С другой стороны, магнетронное распыление более дорогое, но более масштабируемое.

Каковы основные типы источников термического испарения?

К основным типам источников термического испарения относятся резистивные источники испарения, электронно-лучевые источники испарения и вспышечные источники испарения. Каждый тип использует различные методы нагрева испарителя, такие как резистивный нагрев, электронно-лучевой нагрев или прямой контакт с горячей поверхностью.

Какие методы используются для нанесения тонких пленок?

Двумя основными методами, используемыми для нанесения тонких пленок, являются химическое осаждение из паровой фазы (CVD) и физическое осаждение из паровой фазы (PVD). CVD включает введение газов-реагентов в камеру, где они реагируют на поверхности пластины с образованием твердой пленки. PVD не включает химических реакций; вместо этого внутри камеры создаются пары составляющих материалов, которые затем конденсируются на поверхности пластины, образуя твердую пленку. Общие типы PVD включают осаждение испарением и осаждение распылением. Существует три типа методов напыления: термическое испарение, электронно-лучевое испарение и индуктивный нагрев.

Что такое магнетронное распыление?

Магнетронное напыление — это метод нанесения покрытия на основе плазмы, используемый для получения очень плотных пленок с превосходной адгезией, что делает его универсальным методом создания покрытий на материалах с высокой температурой плавления, которые не могут испаряться. Этот метод создает магнитно-удерживаемую плазму вблизи поверхности мишени, где положительно заряженные энергичные ионы сталкиваются с отрицательно заряженным материалом мишени, вызывая выброс или «распыление» атомов. Эти выброшенные атомы затем осаждаются на подложку или пластину для создания желаемого покрытия.

Что такое RF PECVD?

RF PECVD означает радиочастотное плазменное химическое осаждение из паровой фазы, которое представляет собой метод, используемый для приготовления поликристаллических пленок на подложке с использованием плазмы тлеющего разряда для воздействия на процесс во время химического осаждения из паровой фазы при низком давлении. Метод RF PECVD хорошо зарекомендовал себя для стандартной технологии кремниевых интегральных схем, где в качестве подложек обычно используются плоские пластины. Преимущество этого метода заключается в возможности дешевого изготовления пленки и высокой эффективности осаждения. Материалы также могут быть нанесены в виде пленок с переменным показателем преломления или в виде стопки нанопленок, каждая из которых имеет разные свойства.

Что такое мишень для распыления?

Мишень для распыления — это материал, используемый в процессе напыления, при котором материал мишени разбивается на мельчайшие частицы, образующие аэрозоль и покрывающие подложку, например кремниевую пластину. Мишени для распыления обычно представляют собой металлические элементы или сплавы, хотя доступны некоторые керамические мишени. Они бывают разных размеров и форм, при этом некоторые производители создают сегментированные мишени для более крупного распылительного оборудования. Мишени для распыления имеют широкий спектр применений в таких областях, как микроэлектроника, тонкопленочные солнечные элементы, оптоэлектроника и декоративные покрытия, благодаря их способности наносить тонкие пленки с высокой точностью и однородностью.

Как работают источники термического испарения?

Источники термического испарения работают путем пропускания электрического тока через резистивный материал, который нагревается до высоких температур. Это тепло передается испарителю, заставляя его плавиться и испаряться. Затем пар проходит через вакуумную камеру и конденсируется на подложке, образуя тонкую пленку.

Что такое оборудование для нанесения тонких пленок?

Оборудование для нанесения тонких пленок относится к инструментам и методам, используемым для создания и нанесения тонкопленочных покрытий на материал подложки. Эти покрытия могут быть изготовлены из различных материалов и иметь различные характеристики, которые могут улучшить или изменить характеристики подложки. Физическое осаждение из паровой фазы (PVD) — популярный метод, при котором твердый материал испаряется в вакууме, а затем наносится на подложку. Другие методы включают испарение и распыление. Оборудование для нанесения тонких пленок используется, в частности, в производстве оптоэлектронных устройств, медицинских имплантатов и прецизионной оптики.

Почему магнетронное распыление?

Магнетронное напыление предпочтительнее из-за его способности достигать высокой точности толщины пленки и плотности покрытий, превосходя методы испарения. Этот метод особенно подходит для создания металлических или изоляционных покрытий с особыми оптическими или электрическими свойствами. Кроме того, системы магнетронного распыления могут быть оснащены несколькими источниками магнетронов.

Как изготавливаются мишени для распыления?

Мишени для распыления изготавливаются с использованием различных производственных процессов в зависимости от свойств материала мишени и области его применения. К ним относятся вакуумная плавка и прокатка, горячее прессование, специальный процесс спекания под прессом, вакуумное горячее прессование и методы ковки. Большинство материалов мишеней для распыления могут быть изготовлены в широком диапазоне форм и размеров, причем наиболее распространенными являются круглые или прямоугольные формы. Мишени обычно изготавливают из металлических элементов или сплавов, но можно использовать и керамические мишени. Также доступны составные мишени для распыления, изготовленные из различных соединений, включая оксиды, нитриды, бориды, сульфиды, селениды, теллуриды, карбиды, кристаллические и композитные смеси.

Какие материалы обычно используются для изготовления испарительных тиглей?

Испарительные тигли обычно изготавливаются из таких материалов, как вольфрам, тантал, молибден, графит или керамические соединения. Эти материалы имеют высокие температуры плавления и хорошую теплопроводность, что делает их пригодными для высокотемпературных условий, необходимых во время испарения. Выбор материала тигля зависит от таких факторов, как материал испарителя, желаемые свойства пленки и параметры процесса.

В чем преимущества использования источников термического испарения?

К преимуществам источников термического испарения относятся высокая скорость осаждения, хорошая направленность, отличная однородность и совместимость с различными материалами. Кроме того, они относительно просты и доступны по цене, что делает их пригодными для широкого спектра приложений в области осаждения тонких пленок.

Что такое технология тонкопленочного осаждения?

Технология нанесения тонких пленок представляет собой процесс нанесения очень тонкой пленки материала толщиной от нескольких нанометров до 100 микрометров на поверхность подложки или на ранее нанесенные покрытия. Эта технология используется в производстве современной электроники, в том числе полупроводников, оптических устройств, солнечных батарей, компакт-дисков и дисководов. Двумя широкими категориями тонкопленочного осаждения являются химическое осаждение, когда химическое изменение приводит к химическому осаждению покрытия, и физическое осаждение из паровой фазы, когда материал высвобождается из источника и осаждается на подложку с использованием механических, электромеханических или термодинамических процессов.

Какие материалы используются для нанесения тонких пленок?

Для осаждения тонких пленок в качестве материалов обычно используются металлы, оксиды и соединения, каждый из которых имеет свои уникальные преимущества и недостатки. Металлы предпочтительнее из-за их долговечности и простоты нанесения, но они относительно дороги. Оксиды очень прочны, могут выдерживать высокие температуры и могут осаждаться при низких температурах, но могут быть хрупкими и сложными в работе. Соединения обладают прочностью и долговечностью, их можно наносить при низких температурах и придавать им особые свойства.

Выбор материала для тонкопленочного покрытия зависит от требований применения. Металлы идеально подходят для тепло- и электропроводности, а оксиды эффективны для защиты. Соединения могут быть адаптированы для удовлетворения конкретных потребностей. В конечном счете, лучший материал для конкретного проекта будет зависеть от конкретных потребностей приложения.

Для чего используется мишень для распыления?

Мишени для распыления используются в процессе, называемом распылением, для осаждения тонких пленок материала на подложку с использованием ионов для бомбардировки мишени. Эти мишени имеют широкий спектр применения в различных областях, включая микроэлектронику, тонкопленочные солнечные элементы, оптоэлектронику и декоративные покрытия. Они позволяют наносить тонкие пленки материалов на различные подложки с высокой точностью и однородностью, что делает их идеальным инструментом для производства прецизионных изделий. Мишени для распыления бывают разных форм и размеров и могут быть адаптированы для удовлетворения конкретных требований приложения.

Каковы преимущества использования испарительных тиглей?

Испарительные тигли дают ряд преимуществ в процессах осаждения тонких пленок. Они обеспечивают контролируемую среду для испарения материалов, позволяя точно контролировать толщину и однородность пленки. Тигли выдерживают высокие температуры и обеспечивают эффективную теплопередачу, обеспечивая постоянную скорость испарения. Они доступны в различных размерах и формах для использования с различными системами испарения и конфигурациями подложек. Испарительные тигли также позволяют наносить широкий спектр материалов, включая металлы, полупроводники и керамику. Их можно легко загружать и разгружать, что позволяет быстро менять материалы или корректировать технологический процесс. В целом, испарительные тигли являются важным инструментом в методах осаждения тонких пленок, обеспечивая универсальность, надежность и воспроизводимость.

Для каких целей используются источники термического испарения?

Источники термического испарения используются в различных областях, таких как производство оптических покрытий, полупроводниковых устройств и различных типов тонких пленок. Они особенно полезны в тех отраслях, где требуется точный контроль над осаждением материалов на подложки.

Каковы методы достижения оптимального осаждения тонкой пленки?

Для получения тонких пленок с желаемыми свойствами необходимы высококачественные мишени для распыления и материалы для испарения. На качество этих материалов могут влиять различные факторы, такие как чистота, размер зерна и состояние поверхности.

Чистота мишеней для распыления или материалов для испарения играет решающую роль, поскольку примеси могут вызывать дефекты в полученной тонкой пленке. Размер зерна также влияет на качество тонкой пленки, при этом более крупные зерна приводят к ухудшению свойств пленки. Кроме того, состояние поверхности имеет решающее значение, так как шероховатая поверхность может привести к дефектам пленки.

Для достижения высочайшего качества мишеней для распыления и материалов для испарения крайне важно выбирать материалы, которые обладают высокой чистотой, малым размером зерна и гладкой поверхностью.

Использование тонкопленочного осаждения

Тонкие пленки на основе оксида цинка

Тонкие пленки ZnO находят применение в нескольких отраслях, таких как термическая, оптическая, магнитная и электрическая, но в основном они используются в покрытиях и полупроводниковых устройствах.

Тонкопленочные резисторы

Тонкопленочные резисторы имеют решающее значение для современных технологий и используются в радиоприемниках, печатных платах, компьютерах, радиочастотных устройствах, мониторах, беспроводных маршрутизаторах, модулях Bluetooth и приемниках сотовых телефонов.

Магнитные тонкие пленки

Тонкие магнитные пленки используются в электронике, хранении данных, радиочастотной идентификации, микроволновых устройствах, дисплеях, печатных платах и оптоэлектронике в качестве ключевых компонентов.

Оптические тонкие пленки

Оптические покрытия и оптоэлектроника являются стандартными областями применения тонких оптических пленок. Молекулярно-лучевая эпитаксия может производить оптоэлектронные тонкопленочные устройства (полупроводники), в которых эпитаксиальные пленки наносятся на подложку по одному атому за раз.

Полимерные тонкие пленки

Тонкие полимерные пленки используются в микросхемах памяти, солнечных элементах и электронных устройствах. Методы химического осаждения (CVD) обеспечивают точный контроль полимерных пленочных покрытий, включая соответствие и толщину покрытия.

Тонкопленочные батареи

Тонкопленочные батареи питают электронные устройства, такие как имплантируемые медицинские устройства, а литий-ионные батареи значительно продвинулись вперед благодаря использованию тонких пленок.

Тонкопленочные покрытия

Тонкопленочные покрытия улучшают химические и механические характеристики целевых материалов в различных отраслях промышленности и технологических областях. Некоторыми распространенными примерами являются антибликовые покрытия, анти-ультрафиолетовое или анти-инфракрасное покрытие, покрытие против царапин и поляризация линзы.

Тонкопленочные солнечные элементы

Тонкопленочные солнечные элементы необходимы для солнечной энергетики, позволяя производить относительно дешевую и чистую электроэнергию. Фотоэлектрические системы и тепловая энергия являются двумя основными применимыми технологиями.

Что такое распыляющие мишени для электроники?

Мишени для распыления в электронике представляют собой тонкие диски или листы материалов, таких как алюминий, медь и титан, которые используются для нанесения тонких пленок на кремниевые пластины для создания электронных устройств, таких как транзисторы, диоды и интегральные схемы. Эти мишени используются в процессе, называемом распылением, при котором атомы материала мишени физически выбрасываются с поверхности и осаждаются на подложку путем бомбардировки мишени ионами. Напыляемые мишени для электроники имеют важное значение в производстве микроэлектроники и обычно требуют высокой точности и однородности для обеспечения качества устройств.

Как следует обращаться с испарительными тиглями и обслуживать их?

С испарительными тиглями следует обращаться и обслуживать их с осторожностью, чтобы обеспечить их долговечность и производительность. Тигли следует тщательно очищать перед каждым использованием, чтобы удалить остатки материала от предыдущих отложений. Избегайте использования абразивных материалов, которые могут повредить поверхность тигля. Во время загрузки и разгрузки обращайтесь с тиглями чистыми перчатками или специальными инструментами, чтобы предотвратить загрязнение. Когда тигли не используются, храните их в сухом и чистом помещении во избежание коррозии или разрушения. Регулярная проверка тиглей на наличие трещин, дефектов или признаков износа важна для предотвращения неожиданных сбоев в процессе выпаривания. Следуйте рекомендациям производителя в отношении любых конкретных процедур технического обслуживания, таких как отжиг или обработка поверхности, чтобы продлить срок службы тигля.

Факторы и параметры, влияющие на осаждение тонких пленок

Скорость осаждения:

Скорость производства пленки, обычно измеряемая по толщине, деленной на время, имеет решающее значение для выбора технологии, подходящей для конкретного применения. Умеренные скорости осаждения достаточны для тонких пленок, в то время как для толстых необходимы высокие скорости осаждения. Важно найти баланс между скоростью и точным контролем толщины пленки.

Единообразие:

Однородность пленки по подложке известна как однородность, которая обычно относится к толщине пленки, но также может относиться к другим свойствам, таким как показатель преломления. Важно иметь хорошее представление о приложении, чтобы избежать недостаточного или чрезмерного определения единообразия.

Возможность заполнения:

Способность заполнения или ступенчатое покрытие относится к тому, насколько хорошо процесс осаждения охватывает топографию подложки. Используемый метод осаждения (например, CVD, PVD, IBD или ALD) оказывает значительное влияние на покрытие и заполнение ступеней.

Характеристики фильма:

Характеристики пленки зависят от требований приложения, которые можно разделить на фотонные, оптические, электронные, механические или химические. Большинство фильмов должны соответствовать требованиям более чем в одной категории.

Температура процесса:

На характеристики пленки существенно влияет температура процесса, которая может быть ограничена областью применения.

Повреждать:

Каждая технология осаждения может повредить материал, на который наносится осаждение, при этом более мелкие элементы более подвержены повреждению процесса. Загрязнение, УФ-излучение и ионная бомбардировка входят в число потенциальных источников повреждений. Крайне важно понимать ограничения материалов и инструментов.

Каково время жизни мишени для распыления?

Срок службы мишени для распыления зависит от таких факторов, как состав материала, чистота и конкретное применение, для которого она используется. Как правило, мишени могут длиться от нескольких сотен до нескольких тысяч часов распыления, но это может сильно варьироваться в зависимости от конкретных условий каждого запуска. Надлежащее обращение и техническое обслуживание также могут продлить срок службы мишени. Кроме того, использование вращающихся мишеней для распыления может увеличить время работы и снизить вероятность появления дефектов, что делает их более экономичным вариантом для крупносерийных процессов.
Посмотреть больше часто задаваемых вопросов по этому продукту

4.8

out of

5

Prompt delivery. Well-packaged and protected.

Henry Gooding

4.9

out of

5

Amazing quality, works like a charm. Worth every penny!

Yvette Armstrong

4.7

out of

5

Durable and long-lasting. Highly recommended!

Maria Rodriguez

4.6

out of

5

Great value for money. Exceeded my expectations.

Oliver Chen

4.8

out of

5

Top-notch quality. Highly satisfied with my purchase.

Isabella Johnson

4.9

out of

5

State-of-the-art technology. Works flawlessly.

Elijah Smith

4.7

out of

5

Easy to use and maintain. Made my work so much easier.

Sophia Patel

4.6

out of

5

Reliable and efficient. Highly recommend it to others.

William Jones

4.8

out of

5

Great addition to my lab. Highly satisfied with the results.

Emma Brown

4.9

out of

5

Excellent product. Meets all my requirements.

Michael Davis

4.7

out of

5

User-friendly interface. Makes my work more efficient.

Isabella Garcia

PDF - Электронно-лучевое напыление покрытия бескислородного медного тигля

Скачать

Каталог Детали Осаждения Тонкой Пленки

Скачать

Каталог Испарительный Тигель

Скачать

Каталог Источники Термического Испарения

Скачать

Каталог Оборудование Для Нанесения Тонких Пленок

Скачать

Каталог Тонкопленочные Материалы Для Осаждения

Скачать

Каталог Рф Пэвд

Скачать

Каталог Мишени Для Распыления

Скачать

ЗАПРОС ЦИТАТЫ

Наша профессиональная команда ответит вам в течение одного рабочего дня. Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!

Связанные товары

Электронно-лучевой тигель

Электронно-лучевой тигель

В контексте испарения с помощью электронного луча тигель представляет собой контейнер или держатель источника, используемый для хранения и испарения материала, который должен быть нанесен на подложку.

Испарение электронного луча покрывая вольфрамовый тигель/тигель молибдена

Испарение электронного луча покрывая вольфрамовый тигель/тигель молибдена

Вольфрамовые и молибденовые тигли широко используются в процессах электронно-лучевого испарения благодаря их превосходным термическим и механическим свойствам.

Тигель из токопроводящего нитрида бора с электронно-лучевым напылением (тигель BN)

Тигель из токопроводящего нитрида бора с электронно-лучевым напылением (тигель BN)

Высокочистый и гладкий токопроводящий тигель из нитрида бора для покрытия методом электронно-лучевого испарения с высокой температурой и термоциклированием.

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Технология, в основном используемая в области силовой электроники. Это графитовая пленка, изготовленная из исходного углеродного материала путем осаждения материала с использованием электронно-лучевой технологии.

Покрытие электронно-лучевым напылением/золочение/вольфрамовый тигель/молибденовый тигель

Покрытие электронно-лучевым напылением/золочение/вольфрамовый тигель/молибденовый тигель

Эти тигли действуют как контейнеры для золотого материала, испаряемого пучком электронного испарения, точно направляя электронный луч для точного осаждения.

Глинозем (Al2O3) керамический тигель полукруглой лодки с крышкой

Глинозем (Al2O3) керамический тигель полукруглой лодки с крышкой

Тигли представляют собой емкости, широко используемые для плавления и обработки различных материалов, а тигли в форме полукруглых лодочек подходят для особых требований плавки и обработки. Их типы и использование зависят от материала и формы.

Тигель для выпаривания графита

Тигель для выпаривания графита

Сосуды для высокотемпературных применений, где материалы выдерживаются при чрезвычайно высоких температурах для испарения, что позволяет наносить тонкие пленки на подложки.

Набор керамических испарительных лодочек

Набор керамических испарительных лодочек

Его можно использовать для осаждения из паровой фазы различных металлов и сплавов. Большинство металлов можно полностью испарить без потерь. Испарительные корзины многоразовые.

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Усовершенствуйте свой процесс нанесения покрытий с помощью оборудования для нанесения покрытий методом PECVD. Идеально подходит для производства светодиодов, силовых полупроводников, МЭМС и многого другого. Осаждает высококачественные твердые пленки при низких температурах.

Полусферическая нижняя вольфрамовая/молибденовая испарительная лодка

Полусферическая нижняя вольфрамовая/молибденовая испарительная лодка

Используется для золочения, серебряного покрытия, платины, палладия, подходит для небольшого количества тонкопленочных материалов. Уменьшите отходы пленочных материалов и уменьшите тепловыделение.

Керамический тигель из глинозема (Al2O3) для лабораторной муфельной печи

Керамический тигель из глинозема (Al2O3) для лабораторной муфельной печи

Керамические тигли из глинозема используются в некоторых материалах и инструментах для плавки металлов, а тигли с плоским дном подходят для плавки и обработки больших партий материалов с лучшей стабильностью и однородностью.

Испарительная лодочка из алюминированной керамики

Испарительная лодочка из алюминированной керамики

Сосуд для нанесения тонких пленок; имеет керамический корпус с алюминиевым покрытием для повышения термической эффективности и химической стойкости. что делает его пригодным для различных приложений.

Лабораторный тигель из глинозема (Al2O3) с цилиндрической крышкой

Лабораторный тигель из глинозема (Al2O3) с цилиндрической крышкой

Цилиндрические тигли Цилиндрические тигли являются одной из наиболее распространенных форм тиглей, подходящей для плавки и обработки широкого спектра материалов, они просты в обращении и чистке.

Молибден/Вольфрам/Тантал Испарительная Лодка

Молибден/Вольфрам/Тантал Испарительная Лодка

Лодочные источники испарения используются в системах термического испарения и подходят для осаждения различных металлов, сплавов и материалов. Испарительные лодочки доступны из вольфрама, тантала и молибдена различной толщины, что обеспечивает совместимость с различными источниками энергии. В качестве контейнера используется для вакуумного испарения материалов. Их можно использовать для осаждения тонких пленок различных материалов или спроектировать так, чтобы они были совместимы с такими методами, как изготовление электронным лучом.

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

RF-PECVD - это аббревиатура от "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". С его помощью на германиевые и кремниевые подложки наносится пленка DLC (алмазоподобного углерода). Он используется в инфракрасном диапазоне длин волн 3-12um.

Испарительная лодочка из молибдена, вольфрама и тантала — специальная форма

Испарительная лодочка из молибдена, вольфрама и тантала — специальная форма

Вольфрамовая испарительная лодка идеально подходит для производства вакуумных покрытий, а также для спекания в печах или вакуумного отжига. Мы предлагаем вольфрамовые испарительные лодочки, которые долговечны и надежны, имеют длительный срок службы и обеспечивают равномерное и равномерное распространение расплавленного металла.

Оптическая кварцевая пластина JGS1/JGS2/JGS3

Оптическая кварцевая пластина JGS1/JGS2/JGS3

Кварцевая пластина — прозрачный, прочный и универсальный компонент, широко используемый в различных отраслях промышленности. Изготовлен из кристалла кварца высокой чистоты, обладает отличной термической и химической стойкостью.

Наклонная ротационная машина для трубчатой печи с плазменным осаждением (PECVD)

Наклонная ротационная машина для трубчатой печи с плазменным осаждением (PECVD)

Представляем нашу наклонную вращающуюся печь PECVD для точного осаждения тонких пленок. Наслаждайтесь автоматическим согласованием источника, программируемым ПИД-регулятором температуры и высокоточным управлением массовым расходомером MFC. Встроенные функции безопасности для вашего спокойствия.

Испарительный тигель для органических веществ

Испарительный тигель для органических веществ

Тигель для выпаривания органических веществ, называемый тиглем для выпаривания, представляет собой контейнер для выпаривания органических растворителей в лабораторных условиях.

Тигли из глинозема (Al2O3) с покрытием для термического анализа / ТГА / ДТА

Тигли из глинозема (Al2O3) с покрытием для термического анализа / ТГА / ДТА

Сосуды для термического анализа ТГА/ДТА изготовлены из оксида алюминия (корунда или оксида алюминия). Он может выдерживать высокие температуры и подходит для анализа материалов, требующих высокотемпературных испытаний.

Универсальная трубчатая печь CVD, изготовленная по индивидуальному заказу CVD-машина

Универсальная трубчатая печь CVD, изготовленная по индивидуальному заказу CVD-машина

Получите свою эксклюзивную печь CVD с универсальной печью KT-CTF16, изготовленной по индивидуальному заказу. Настраиваемые функции скольжения, вращения и наклона для точной реакции. Заказать сейчас!

Полка для очистки проводящей стеклянной подложки из ПТФЭ

Полка для очистки проводящей стеклянной подложки из ПТФЭ

Полка для очистки проводящей стеклянной подложки из ПТФЭ используется в качестве носителя квадратной кремниевой пластины солнечного элемента, чтобы обеспечить эффективное и беззагрязняющее обращение в процессе очистки.

Защитная трубка из оксида алюминия (Al2O3) — высокая температура

Защитная трубка из оксида алюминия (Al2O3) — высокая температура

Защитная трубка из оксида алюминия, также известная как высокотемпературная корундовая трубка или защитная трубка для термопары, представляет собой керамическую трубку, в основном изготовленную из глинозема (оксида алюминия).

Трубчатая печь CVD с разделенной камерой и вакуумной станцией CVD машины

Трубчатая печь CVD с разделенной камерой и вакуумной станцией CVD машины

Эффективная двухкамерная CVD-печь с вакуумной станцией для интуитивной проверки образцов и быстрого охлаждения. Максимальная температура до 1200℃ с точным управлением с помощью массового расходомера MFC.

915MHz MPCVD алмазная машина

915MHz MPCVD алмазная машина

915MHz MPCVD Diamond Machine и его многокристальный эффективный рост, максимальная площадь может достигать 8 дюймов, максимальная эффективная площадь роста монокристалла может достигать 5 дюймов. Это оборудование в основном используется для производства поликристаллических алмазных пленок большого размера, роста длинных монокристаллов алмазов, низкотемпературного роста высококачественного графена и других материалов, для роста которых требуется энергия, предоставляемая микроволновой плазмой.

Связанные статьи

Сравнительное исследование методов испарения и распыления при осаждении тонких пленок

Сравнительное исследование методов испарения и распыления при осаждении тонких пленок

Двумя наиболее распространенными методами, используемыми для осаждения тонких пленок, являются испарение и распыление.

Узнать больше
Понимание электроосаждения с помощью электрохимических электродов

Понимание электроосаждения с помощью электрохимических электродов

Электроосаждение — это процесс осаждения металла или неметаллического материала на поверхность с помощью электрического тока.

Узнать больше
Понимание электролизеров и их роли в очистке меди и гальванике

Понимание электролизеров и их роли в очистке меди и гальванике

Электролизеры играют решающую роль в различных промышленных процессах, включая очистку меди и гальванотехнику. Эти клетки используют внешний источник энергии для запуска химических реакций, приводящих к разложению веществ. В процессе электролиза электрический ток пропускают через жидкость или раствор, содержащий ионы, вызывая их расщепление.

Узнать больше
Передовые методы оценки покрытий с помощью электролитических ячеек

Передовые методы оценки покрытий с помощью электролитических ячеек

Ознакомьтесь с полным руководством по оценке покрытий с помощью электролитических ячеек, охватывающим гальванические, золь-гель методы и методы мокрой химии. Углубите свое понимание свойств и применения металлических покрытий.

Узнать больше
Вакуумная плавильная печь: исчерпывающее руководство по вакуумной индукционной плавке

Вакуумная плавильная печь: исчерпывающее руководство по вакуумной индукционной плавке

Узнайте о тонкостях вакуумных индукционных плавильных печей, их компонентах, работе, преимуществах и областях применения. Узнайте, как эти печи революционизируют обработку металлов и позволяют добиться исключительных свойств материалов.

Узнать больше
Понимание электродов и электрохимических ячеек

Понимание электродов и электрохимических ячеек

Электрод — это точка, где ток входит в электролит и выходит из него. Это проводник, используемый для соединения с неметаллической частью цепи. Электроды могут быть изготовлены из таких материалов, как золото, платина, углерод, графит или металл. Они служат поверхностью для окислительно-восстановительных реакций в электрохимических ячейках. Существуют различные типы электродов, включая анод и катод.

Узнать больше
Выбор материалов для вакуумного покрытия: Ключевые факторы и соображения

Выбор материалов для вакуумного покрытия: Ключевые факторы и соображения

Рекомендации по выбору подходящих материалов для вакуумного покрытия с учетом области применения, свойств материала, методов осаждения, экономичности, совместимости с подложкой и безопасности.

Узнать больше
Процессы осаждения тонких пленок в производстве полупроводников

Процессы осаждения тонких пленок в производстве полупроводников

Обзор методов осаждения тонких пленок с упором на процессы химического осаждения из паровой фазы (CVD) и физического осаждения из паровой фазы (PVD) в производстве полупроводников.

Узнать больше
Понимание технологии напыления

Понимание технологии напыления

Подробный обзор технологии напыления, ее механизмов, типов и областей применения.

Узнать больше
Управление цветом и применение пленок испаренного оксида кремния

Управление цветом и применение пленок испаренного оксида кремния

Изучение изменения цвета, методов контроля и практического применения тонких пленок оксида кремния.

Узнать больше
Учет особенностей нанесения испарительного покрытия на гибкие подложки

Учет особенностей нанесения испарительного покрытия на гибкие подложки

Ключевые факторы успешного нанесения испарительного покрытия на гибкие материалы, обеспечивающие качество и производительность.

Узнать больше
Понимание различий и использования напыления постоянного тока, МП и ВЧ для получения тонких пленок

Понимание различий и использования напыления постоянного тока, МП и ВЧ для получения тонких пленок

В этой статье рассказывается о различиях и применении методов напыления на постоянном токе, МП и ВЧ для получения тонких пленок.

Узнать больше