Детали осаждения тонкой пленки
Электронно-лучевое напыление покрытия бескислородного медного тигля
Артикул : KMS06
Цена может варьироваться в зависимости от спецификации и настройки
- Материал
- Бескислородная медь
- Спецификация
- 35-50*17-25мм
Доставка:
Свяжитесь с нами чтобы получить подробности о доставке. Наслаждайтесь Гарантия своевременной отправки.
Запросить индивидуальное коммерческое предложение 👋
Получите цену сейчас! Оставить сообщение Быстрое получение цены Via Онлайн чатВведение
Покрытие электронно-лучевым испарением. Тигель из бескислородной меди — это тип лабораторного оборудования, используемого для осаждения тонких пленок. Он использует электронный луч для испарения материала, который затем наносится на подложку. Этот процесс используется для создания тонких пленок металлов, диэлектриков и других материалов.
Тигель из бескислородной меди с электронно-лучевым испарением изготовлен из бескислородной меди, которая имеет высокую теплопроводность и устойчива к окислению. Это делает его идеальным для использования в условиях высоких температур. Тигель также охлаждается водой, чтобы предотвратить его перегрев.
Тигель из бескислородной меди с электронно-лучевым испарением представляет собой универсальное оборудование, которое можно использовать для различных применений. Он обычно используется в полупроводниковой промышленности, но его также можно использовать и в других отраслях, например, в оптической и медицинской промышленности.
Приложение
Покрытие электронно-лучевым испарением представляет собой процесс использования электронных лучей для испарения материалов в процессе осаждения тонких пленок, а затем их конденсации на подложке с образованием тонкой пленки. При использовании методов электронно-лучевого испарения используйте тигли из бескислородной меди, чтобы поддерживать бескислородную или обедненную кислородом среду и минимизировать риск загрязнения кислородом во время испарения. Это помогает гарантировать нанесение высококачественных пленок без нежелательных химических реакций или окисления. Тигли из бескислородной меди часто предпочтительнее при работе с чувствительными материалами или при нанесении тонких пленок, где требуется высокая чистота.
- Полупроводниковая промышленность: Производство интегральных схем, полупроводниковых приборов и микроэлектроники.
- Оптика и фотоника: Оптические покрытия и пленки для линз, зеркал, фильтров, волноводов и других оптических компонентов.
- Солнечная энергия: электронно-лучевое испарение используется для изготовления тонкопленочных солнечных элементов, таких как солнечные элементы CIGS (селенид меди, индия, галлия) и CdTe (теллурид кадмия).
- Технология отображения: испарение электронным лучом используется для производства тонких пленок для различных типов дисплеев, включая LCD (жидкокристаллический дисплей), OLED (органический светоизлучающий диод) и технологии микродисплеев.
- Производство датчиков и электроники: электронно-лучевое испарение используется для производства тонких пленок для датчиков, электроники и интегральных схем.
Технические характеристики
| Внешний диаметр и высота | 35*17 мм | 40*17 мм | 45*22 мм | 50*25 мм |
Тигли, которые мы показываем, доступны в различных размерах, а нестандартные размеры доступны по запросу.
Функции
Покрытие электронно-лучевым испарением. Тигель из бескислородной меди оснащен подом с четырьмя карманами, который может содержать до четырех исходных материалов, что позволяет последовательно наносить четыре слоя материала без нарушения вакуума. Это позволяет легко наносить несколько разных слоев покрытия из разных целевых материалов, легко адаптируясь к различным методам маскировки отрывом.
Тигель имеет водяное охлаждение, чтобы предотвратить его нагрев за счет тепловой энергии, а непосредственный нагрев исходных материалов исключает риск теплового повреждения подложки. Это делает электронно-лучевое испарение идеальным для применений, где высокие температуры и износостойкость являются ключевыми, например, в аэрокосмической, автомобильной и режущей промышленности.
Электронно-лучевое испарение также используется для тонких оптических пленок, начиная от лазерной оптики, солнечных панелей, очков и архитектурного стекла, чтобы придать им желаемые проводящие, отражающие и пропускающие свойства.
FAQ
Что такое источники термического испарения?
Что такое физическое осаждение из паровой фазы (PVD)?
Каковы основные типы источников термического испарения?
Какие методы используются для нанесения тонких пленок?
Что такое магнетронное распыление?
Что такое RF PECVD?
Что такое мишень для распыления?
Как работают источники термического испарения?
Что такое оборудование для нанесения тонких пленок?
Почему магнетронное распыление?
Как изготавливаются мишени для распыления?
Какие материалы обычно используются для изготовления испарительных тиглей?
В чем преимущества использования источников термического испарения?
Что такое технология тонкопленочного осаждения?
Какие материалы используются для нанесения тонких пленок?
Для осаждения тонких пленок в качестве материалов обычно используются металлы, оксиды и соединения, каждый из которых имеет свои уникальные преимущества и недостатки. Металлы предпочтительнее из-за их долговечности и простоты нанесения, но они относительно дороги. Оксиды очень прочны, могут выдерживать высокие температуры и могут осаждаться при низких температурах, но могут быть хрупкими и сложными в работе. Соединения обладают прочностью и долговечностью, их можно наносить при низких температурах и придавать им особые свойства.
Выбор материала для тонкопленочного покрытия зависит от требований применения. Металлы идеально подходят для тепло- и электропроводности, а оксиды эффективны для защиты. Соединения могут быть адаптированы для удовлетворения конкретных потребностей. В конечном счете, лучший материал для конкретного проекта будет зависеть от конкретных потребностей приложения.
Для чего используется мишень для распыления?
Каковы преимущества использования испарительных тиглей?
Для каких целей используются источники термического испарения?
Каковы методы достижения оптимального осаждения тонкой пленки?
Для получения тонких пленок с желаемыми свойствами необходимы высококачественные мишени для распыления и материалы для испарения. На качество этих материалов могут влиять различные факторы, такие как чистота, размер зерна и состояние поверхности.
Чистота мишеней для распыления или материалов для испарения играет решающую роль, поскольку примеси могут вызывать дефекты в полученной тонкой пленке. Размер зерна также влияет на качество тонкой пленки, при этом более крупные зерна приводят к ухудшению свойств пленки. Кроме того, состояние поверхности имеет решающее значение, так как шероховатая поверхность может привести к дефектам пленки.
Для достижения высочайшего качества мишеней для распыления и материалов для испарения крайне важно выбирать материалы, которые обладают высокой чистотой, малым размером зерна и гладкой поверхностью.
Использование тонкопленочного осаждения
Тонкие пленки на основе оксида цинка
Тонкие пленки ZnO находят применение в нескольких отраслях, таких как термическая, оптическая, магнитная и электрическая, но в основном они используются в покрытиях и полупроводниковых устройствах.
Тонкопленочные резисторы
Тонкопленочные резисторы имеют решающее значение для современных технологий и используются в радиоприемниках, печатных платах, компьютерах, радиочастотных устройствах, мониторах, беспроводных маршрутизаторах, модулях Bluetooth и приемниках сотовых телефонов.
Магнитные тонкие пленки
Тонкие магнитные пленки используются в электронике, хранении данных, радиочастотной идентификации, микроволновых устройствах, дисплеях, печатных платах и оптоэлектронике в качестве ключевых компонентов.
Оптические тонкие пленки
Оптические покрытия и оптоэлектроника являются стандартными областями применения тонких оптических пленок. Молекулярно-лучевая эпитаксия может производить оптоэлектронные тонкопленочные устройства (полупроводники), в которых эпитаксиальные пленки наносятся на подложку по одному атому за раз.
Полимерные тонкие пленки
Тонкие полимерные пленки используются в микросхемах памяти, солнечных элементах и электронных устройствах. Методы химического осаждения (CVD) обеспечивают точный контроль полимерных пленочных покрытий, включая соответствие и толщину покрытия.
Тонкопленочные батареи
Тонкопленочные батареи питают электронные устройства, такие как имплантируемые медицинские устройства, а литий-ионные батареи значительно продвинулись вперед благодаря использованию тонких пленок.
Тонкопленочные покрытия
Тонкопленочные покрытия улучшают химические и механические характеристики целевых материалов в различных отраслях промышленности и технологических областях. Некоторыми распространенными примерами являются антибликовые покрытия, анти-ультрафиолетовое или анти-инфракрасное покрытие, покрытие против царапин и поляризация линзы.
Тонкопленочные солнечные элементы
Тонкопленочные солнечные элементы необходимы для солнечной энергетики, позволяя производить относительно дешевую и чистую электроэнергию. Фотоэлектрические системы и тепловая энергия являются двумя основными применимыми технологиями.
Что такое распыляющие мишени для электроники?
Как следует обращаться с испарительными тиглями и обслуживать их?
Факторы и параметры, влияющие на осаждение тонких пленок
Скорость осаждения:
Скорость производства пленки, обычно измеряемая по толщине, деленной на время, имеет решающее значение для выбора технологии, подходящей для конкретного применения. Умеренные скорости осаждения достаточны для тонких пленок, в то время как для толстых необходимы высокие скорости осаждения. Важно найти баланс между скоростью и точным контролем толщины пленки.
Единообразие:
Однородность пленки по подложке известна как однородность, которая обычно относится к толщине пленки, но также может относиться к другим свойствам, таким как показатель преломления. Важно иметь хорошее представление о приложении, чтобы избежать недостаточного или чрезмерного определения единообразия.
Возможность заполнения:
Способность заполнения или ступенчатое покрытие относится к тому, насколько хорошо процесс осаждения охватывает топографию подложки. Используемый метод осаждения (например, CVD, PVD, IBD или ALD) оказывает значительное влияние на покрытие и заполнение ступеней.
Характеристики фильма:
Характеристики пленки зависят от требований приложения, которые можно разделить на фотонные, оптические, электронные, механические или химические. Большинство фильмов должны соответствовать требованиям более чем в одной категории.
Температура процесса:
На характеристики пленки существенно влияет температура процесса, которая может быть ограничена областью применения.
Повреждать:
Каждая технология осаждения может повредить материал, на который наносится осаждение, при этом более мелкие элементы более подвержены повреждению процесса. Загрязнение, УФ-излучение и ионная бомбардировка входят в число потенциальных источников повреждений. Крайне важно понимать ограничения материалов и инструментов.
Каково время жизни мишени для распыления?
4.8
out of
5
Prompt delivery. Well-packaged and protected.
4.9
out of
5
Amazing quality, works like a charm. Worth every penny!
4.7
out of
5
Durable and long-lasting. Highly recommended!
4.6
out of
5
Great value for money. Exceeded my expectations.
4.8
out of
5
Top-notch quality. Highly satisfied with my purchase.
4.9
out of
5
State-of-the-art technology. Works flawlessly.
4.7
out of
5
Easy to use and maintain. Made my work so much easier.
4.6
out of
5
Reliable and efficient. Highly recommend it to others.
4.8
out of
5
Great addition to my lab. Highly satisfied with the results.
4.9
out of
5
Excellent product. Meets all my requirements.
4.7
out of
5
User-friendly interface. Makes my work more efficient.
PDF - Электронно-лучевое напыление покрытия бескислородного медного тигля
СкачатьКаталог Детали Осаждения Тонкой Пленки
СкачатьКаталог Испарительный Тигель
СкачатьКаталог Источники Термического Испарения
СкачатьКаталог Оборудование Для Нанесения Тонких Пленок
СкачатьКаталог Тонкопленочные Материалы Для Осаждения
СкачатьКаталог Рф Пэвд
СкачатьКаталог Мишени Для Распыления
СкачатьЗАПРОС ЦИТАТЫ
Наша профессиональная команда ответит вам в течение одного рабочего дня. Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!
Связанные товары
В контексте испарения с помощью электронного луча тигель представляет собой контейнер или держатель источника, используемый для хранения и испарения материала, который должен быть нанесен на подложку.
Испарение электронного луча покрывая вольфрамовый тигель/тигель молибдена
Вольфрамовые и молибденовые тигли широко используются в процессах электронно-лучевого испарения благодаря их превосходным термическим и механическим свойствам.
Тигель из токопроводящего нитрида бора с электронно-лучевым напылением (тигель BN)
Высокочистый и гладкий токопроводящий тигель из нитрида бора для покрытия методом электронно-лучевого испарения с высокой температурой и термоциклированием.
Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения
Технология, в основном используемая в области силовой электроники. Это графитовая пленка, изготовленная из исходного углеродного материала путем осаждения материала с использованием электронно-лучевой технологии.
Покрытие электронно-лучевым напылением/золочение/вольфрамовый тигель/молибденовый тигель
Эти тигли действуют как контейнеры для золотого материала, испаряемого пучком электронного испарения, точно направляя электронный луч для точного осаждения.
Глинозем (Al2O3) керамический тигель полукруглой лодки с крышкой
Тигли представляют собой емкости, широко используемые для плавления и обработки различных материалов, а тигли в форме полукруглых лодочек подходят для особых требований плавки и обработки. Их типы и использование зависят от материала и формы.
Тигель для выпаривания графита
Сосуды для высокотемпературных применений, где материалы выдерживаются при чрезвычайно высоких температурах для испарения, что позволяет наносить тонкие пленки на подложки.
Набор керамических испарительных лодочек
Его можно использовать для осаждения из паровой фазы различных металлов и сплавов. Большинство металлов можно полностью испарить без потерь. Испарительные корзины многоразовые.
Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия
Усовершенствуйте свой процесс нанесения покрытий с помощью оборудования для нанесения покрытий методом PECVD. Идеально подходит для производства светодиодов, силовых полупроводников, МЭМС и многого другого. Осаждает высококачественные твердые пленки при низких температурах.
Полусферическая нижняя вольфрамовая/молибденовая испарительная лодка
Используется для золочения, серебряного покрытия, платины, палладия, подходит для небольшого количества тонкопленочных материалов. Уменьшите отходы пленочных материалов и уменьшите тепловыделение.
Керамический тигель из глинозема (Al2O3) для лабораторной муфельной печи
Керамические тигли из глинозема используются в некоторых материалах и инструментах для плавки металлов, а тигли с плоским дном подходят для плавки и обработки больших партий материалов с лучшей стабильностью и однородностью.
Испарительная лодочка из алюминированной керамики
Сосуд для нанесения тонких пленок; имеет керамический корпус с алюминиевым покрытием для повышения термической эффективности и химической стойкости. что делает его пригодным для различных приложений.
Лабораторный тигель из глинозема (Al2O3) с цилиндрической крышкой
Цилиндрические тигли Цилиндрические тигли являются одной из наиболее распространенных форм тиглей, подходящей для плавки и обработки широкого спектра материалов, они просты в обращении и чистке.
Молибден/Вольфрам/Тантал Испарительная Лодка
Лодочные источники испарения используются в системах термического испарения и подходят для осаждения различных металлов, сплавов и материалов. Испарительные лодочки доступны из вольфрама, тантала и молибдена различной толщины, что обеспечивает совместимость с различными источниками энергии. В качестве контейнера используется для вакуумного испарения материалов. Их можно использовать для осаждения тонких пленок различных материалов или спроектировать так, чтобы они были совместимы с такими методами, как изготовление электронным лучом.
Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы
RF-PECVD - это аббревиатура от "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". С его помощью на германиевые и кремниевые подложки наносится пленка DLC (алмазоподобного углерода). Он используется в инфракрасном диапазоне длин волн 3-12um.
Испарительная лодочка из молибдена, вольфрама и тантала — специальная форма
Вольфрамовая испарительная лодка идеально подходит для производства вакуумных покрытий, а также для спекания в печах или вакуумного отжига. Мы предлагаем вольфрамовые испарительные лодочки, которые долговечны и надежны, имеют длительный срок службы и обеспечивают равномерное и равномерное распространение расплавленного металла.
Оптическая кварцевая пластина JGS1/JGS2/JGS3
Кварцевая пластина — прозрачный, прочный и универсальный компонент, широко используемый в различных отраслях промышленности. Изготовлен из кристалла кварца высокой чистоты, обладает отличной термической и химической стойкостью.
Наклонная ротационная машина для трубчатой печи с плазменным осаждением (PECVD)
Представляем нашу наклонную вращающуюся печь PECVD для точного осаждения тонких пленок. Наслаждайтесь автоматическим согласованием источника, программируемым ПИД-регулятором температуры и высокоточным управлением массовым расходомером MFC. Встроенные функции безопасности для вашего спокойствия.
Испарительный тигель для органических веществ
Тигель для выпаривания органических веществ, называемый тиглем для выпаривания, представляет собой контейнер для выпаривания органических растворителей в лабораторных условиях.
Тигли из глинозема (Al2O3) с покрытием для термического анализа / ТГА / ДТА
Сосуды для термического анализа ТГА/ДТА изготовлены из оксида алюминия (корунда или оксида алюминия). Он может выдерживать высокие температуры и подходит для анализа материалов, требующих высокотемпературных испытаний.
Универсальная трубчатая печь CVD, изготовленная по индивидуальному заказу CVD-машина
Получите свою эксклюзивную печь CVD с универсальной печью KT-CTF16, изготовленной по индивидуальному заказу. Настраиваемые функции скольжения, вращения и наклона для точной реакции. Заказать сейчас!
Полка для очистки проводящей стеклянной подложки из ПТФЭ
Полка для очистки проводящей стеклянной подложки из ПТФЭ используется в качестве носителя квадратной кремниевой пластины солнечного элемента, чтобы обеспечить эффективное и беззагрязняющее обращение в процессе очистки.
Защитная трубка из оксида алюминия (Al2O3) — высокая температура
Защитная трубка из оксида алюминия, также известная как высокотемпературная корундовая трубка или защитная трубка для термопары, представляет собой керамическую трубку, в основном изготовленную из глинозема (оксида алюминия).
Трубчатая печь CVD с разделенной камерой и вакуумной станцией CVD машины
Эффективная двухкамерная CVD-печь с вакуумной станцией для интуитивной проверки образцов и быстрого охлаждения. Максимальная температура до 1200℃ с точным управлением с помощью массового расходомера MFC.
915MHz MPCVD Diamond Machine и его многокристальный эффективный рост, максимальная площадь может достигать 8 дюймов, максимальная эффективная площадь роста монокристалла может достигать 5 дюймов. Это оборудование в основном используется для производства поликристаллических алмазных пленок большого размера, роста длинных монокристаллов алмазов, низкотемпературного роста высококачественного графена и других материалов, для роста которых требуется энергия, предоставляемая микроволновой плазмой.
Связанные статьи
Сравнительное исследование методов испарения и распыления при осаждении тонких пленок
Двумя наиболее распространенными методами, используемыми для осаждения тонких пленок, являются испарение и распыление.
Понимание электроосаждения с помощью электрохимических электродов
Электроосаждение — это процесс осаждения металла или неметаллического материала на поверхность с помощью электрического тока.
Понимание электролизеров и их роли в очистке меди и гальванике
Электролизеры играют решающую роль в различных промышленных процессах, включая очистку меди и гальванотехнику. Эти клетки используют внешний источник энергии для запуска химических реакций, приводящих к разложению веществ. В процессе электролиза электрический ток пропускают через жидкость или раствор, содержащий ионы, вызывая их расщепление.
Передовые методы оценки покрытий с помощью электролитических ячеек
Ознакомьтесь с полным руководством по оценке покрытий с помощью электролитических ячеек, охватывающим гальванические, золь-гель методы и методы мокрой химии. Углубите свое понимание свойств и применения металлических покрытий.
Вакуумная плавильная печь: исчерпывающее руководство по вакуумной индукционной плавке
Узнайте о тонкостях вакуумных индукционных плавильных печей, их компонентах, работе, преимуществах и областях применения. Узнайте, как эти печи революционизируют обработку металлов и позволяют добиться исключительных свойств материалов.
Покрытие электронно-лучевым испарением: Преимущества, недостатки и области применения
Подробный обзор плюсов и минусов покрытия электронно-лучевым испарением и его различных применений в промышленности.
Понимание электродов и электрохимических ячеек
Электрод — это точка, где ток входит в электролит и выходит из него. Это проводник, используемый для соединения с неметаллической частью цепи. Электроды могут быть изготовлены из таких материалов, как золото, платина, углерод, графит или металл. Они служат поверхностью для окислительно-восстановительных реакций в электрохимических ячейках. Существуют различные типы электродов, включая анод и катод.
Выбор материалов для вакуумного покрытия: Ключевые факторы и соображения
Рекомендации по выбору подходящих материалов для вакуумного покрытия с учетом области применения, свойств материала, методов осаждения, экономичности, совместимости с подложкой и безопасности.
Технология вакуумного нанесения покрытий: Развитие и применение
Рассматриваются эволюция, методы и области применения технологии вакуумного нанесения покрытий с акцентом на PVD и ее влияние на промышленные инструменты и пресс-формы.
Процессы осаждения тонких пленок в производстве полупроводников
Обзор методов осаждения тонких пленок с упором на процессы химического осаждения из паровой фазы (CVD) и физического осаждения из паровой фазы (PVD) в производстве полупроводников.
Понимание технологии напыления
Подробный обзор технологии напыления, ее механизмов, типов и областей применения.
Методы нанесения покрытий для выращивания монокристаллических пленок
Обзор различных методов нанесения покрытий, таких как CVD, PVD и эпитаксия, для выращивания монокристаллических пленок.