Знание В чем разница между плазменным азотированием и азотированием?
Аватар автора

Техническая команда · Kintek Solution

Обновлено 1 неделю назад

В чем разница между плазменным азотированием и азотированием?

Основное отличие плазменного азотирования от обычного заключается в методе введения азота в материал и в результирующих свойствах обработанной поверхности. Плазменное азотирование - это современный процесс низкого давления, в котором для введения азота в материал используется световой разряд высокой ионизации (плазма), в то время как в традиционных методах азотирования, таких как газовое азотирование и азотирование в ванне, для достижения того же эффекта используются различные газовые смеси или солевые ванны.

Процесс плазменного азотирования:

Плазменное азотирование - это термохимический процесс, который происходит в смеси газов, включающей азот, водород и, по желанию, углерод. Процесс происходит при низком давлении, и вокруг детали образуется световой разряд с высокой степенью ионизации (плазма). Эта плазма позволяет напрямую заряжать ионы на поверхности, что приводит к образованию богатых азотом нитридов. Реактивный азот, выделяющийся из этих нитридов, улучшает поверхностные свойства материала. Этот процесс очень настраиваемый, так как газовую смесь можно регулировать для достижения различной толщины слоя и распределения твердости.Традиционные методы азотирования:

  1. При газовом азотировании для введения азота в материал используется газообразный аммиак, а при азотировании в ванне - соляная ванна с цианистыми солями. Эти методы обычно требуют более высоких температур и более длительного времени обработки по сравнению с плазменным азотированием. Они также имеют ограничения по диапазону обрабатываемых материалов и контролю над конечными свойствами поверхности.Преимущества плазменного азотирования:
  2. Скорость: Плазменное азотирование происходит быстрее, чем обычные методы азотирования, что сокращает время обработки.
  3. Контроль: Плазменное азотирование позволяет лучше контролировать состав, структуру и свойства поверхности конечного продукта благодаря точному контролю температуры и состава атмосферы.
  4. Воздействие на окружающую среду: Этот метод более экологичен, так как не требует применения вредных химикатов, таких как аммиак или цианистые соли.

Диапазон температур:

  1. Плазменное азотирование можно проводить при более низких температурах (до 350°C), что минимизирует деформацию и сохраняет прочность материала.Недостатки плазменного азотирования:
  2. Чистота поверхности: Процесс требует очень чистых поверхностей для предотвращения нестабильной дуги во время нагрева.
  3. Ремонт компонентов: Детали могут потребовать ремонта, чтобы избежать перегрева.
  4. Ограничения по партиям: Компоненты одинакового размера не могут быть обработаны в одной партии из-за соотношения мощности и площади.

Первоначальная стоимость:

Первоначальная стоимость оборудования для плазменного азотирования высока.

Связанные товары

Мишень для распыления нитрида титана (TiN) / порошок / проволока / блок / гранула

Мишень для распыления нитрида титана (TiN) / порошок / проволока / блок / гранула

Ищете доступные по цене материалы на основе нитрида титана (TiN) для своей лаборатории? Наш опыт заключается в производстве индивидуальных материалов различных форм и размеров для удовлетворения ваших уникальных потребностей. Мы предлагаем широкий спектр спецификаций и размеров мишеней для распыления, покрытий и многого другого.

Керамические детали из нитрида бора (BN)

Керамические детали из нитрида бора (BN)

Нитрид бора ((BN) представляет собой соединение с высокой температурой плавления, высокой твердостью, высокой теплопроводностью и высоким удельным электрическим сопротивлением. Его кристаллическая структура похожа на графен и тверже алмаза.

Мишень для распыления нитрида бора (BN) / порошок / проволока / блок / гранула

Мишень для распыления нитрида бора (BN) / порошок / проволока / блок / гранула

Покупайте материалы на основе нитрида бора для нужд вашей лаборатории по разумным ценам. Мы адаптируем материалы в соответствии с вашими требованиями с различной чистотой, формами и размерами. Выберите из широкого спектра спецификаций и размеров.

Мишень для распыления нитрида алюминия (AlN) / порошок / проволока / блок / гранула

Мишень для распыления нитрида алюминия (AlN) / порошок / проволока / блок / гранула

Высококачественные материалы из нитрида алюминия (AlN) различных форм и размеров для лабораторного использования по доступным ценам. Ознакомьтесь с нашим ассортиментом мишеней для распыления, покрытий, порошков и многого другого. Доступны индивидуальные решения.

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

RF-PECVD - это аббревиатура от "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". С его помощью на германиевые и кремниевые подложки наносится пленка DLC (алмазоподобного углерода). Он используется в инфракрасном диапазоне длин волн 3-12um.

Керамическая пластина из нитрида бора (BN)

Керамическая пластина из нитрида бора (BN)

Керамические пластины из нитрида бора (BN) не используют воду для смачивания алюминия и могут обеспечить всестороннюю защиту поверхности материалов, которые непосредственно контактируют с расплавленными сплавами алюминия, магния, цинка и их шлаком.

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Усовершенствуйте свой процесс нанесения покрытий с помощью оборудования для нанесения покрытий методом PECVD. Идеально подходит для производства светодиодов, силовых полупроводников, МЭМС и многого другого. Осаждает высококачественные твердые пленки при низких температурах.

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Фильера для нанесения наноалмазного композитного покрытия использует цементированный карбид (WC-Co) в качестве подложки, а для нанесения обычного алмаза и наноалмазного композитного покрытия на поверхность внутреннего отверстия пресс-формы используется метод химической паровой фазы (сокращенно CVD-метод).

Керамический лист из нитрида кремния (SiC) Прецизионная обработка керамики

Керамический лист из нитрида кремния (SiC) Прецизионная обработка керамики

Пластина из нитрида кремния является широко используемым керамическим материалом в металлургической промышленности из-за его однородных характеристик при высоких температурах.

Керамическая трубка из нитрида бора (BN)

Керамическая трубка из нитрида бора (BN)

Нитрид бора (BN) известен своей высокой термической стабильностью, отличными электроизоляционными свойствами и смазывающими свойствами.

Тигель с нитридом бора (BN) - спеченный порошок фосфора

Тигель с нитридом бора (BN) - спеченный порошок фосфора

Тигель из спеченного порошка фосфора из нитрида бора (BN) имеет гладкую поверхность, плотную, не загрязняющую окружающую среду и длительный срок службы.

Тигель из токопроводящего нитрида бора с электронно-лучевым напылением (тигель BN)

Тигель из токопроводящего нитрида бора с электронно-лучевым напылением (тигель BN)

Высокочистый и гладкий токопроводящий тигель из нитрида бора для покрытия методом электронно-лучевого испарения с высокой температурой и термоциклированием.

Вакуумная трубчатая печь горячего прессования

Вакуумная трубчатая печь горячего прессования

Уменьшите давление формования и сократите время спекания с помощью вакуумной трубчатой печи для горячего прессования высокоплотных и мелкозернистых материалов. Идеально подходит для тугоплавких металлов.

Наклонная ротационная машина для трубчатой печи с плазменным осаждением (PECVD)

Наклонная ротационная машина для трубчатой печи с плазменным осаждением (PECVD)

Представляем нашу наклонную вращающуюся печь PECVD для точного осаждения тонких пленок. Наслаждайтесь автоматическим согласованием источника, программируемым ПИД-регулятором температуры и высокоточным управлением массовым расходомером MFC. Встроенные функции безопасности для вашего спокойствия.

Заготовки режущего инструмента

Заготовки режущего инструмента

Алмазные режущие инструменты CVD: превосходная износостойкость, низкое трение, высокая теплопроводность для обработки цветных металлов, керамики, композитов

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Узнайте о машине MPCVD с цилиндрическим резонатором - методе микроволнового плазмохимического осаждения из паровой фазы, который используется для выращивания алмазных камней и пленок в ювелирной и полупроводниковой промышленности. Узнайте о его экономически эффективных преимуществах по сравнению с традиционными методами HPHT.

CVD-алмазное покрытие

CVD-алмазное покрытие

Алмазное покрытие CVD: превосходная теплопроводность, качество кристаллов и адгезия для режущих инструментов, трения и акустических применений.

Керамический лист из нитрида алюминия (AlN)

Керамический лист из нитрида алюминия (AlN)

Нитрид алюминия (AlN) обладает хорошей совместимостью с кремнием. Он не только используется в качестве добавки для спекания или армирующей фазы для конструкционной керамики, но и по своим характеристикам намного превосходит оксид алюминия.

CVD-алмаз для правки инструментов

CVD-алмаз для правки инструментов

Испытайте непревзойденные характеристики заготовок для алмазной обработки CVD: высокая теплопроводность, исключительная износостойкость и независимость от ориентации.


Оставьте ваше сообщение

Ярлык

Общайтесь с нами для быстрого и прямого общения.

Немедленный ответ в рабочие дни (в течение 8 часов в праздничные дни)