Знание Почему графен выращивают на меди?
Аватар автора

Техническая команда · Kintek Solution

Обновлено 1 неделю назад

Почему графен выращивают на меди?

Графен выращивается на меди в первую очередь благодаря низкой растворимости углерода в меди, что позволяет использовать поверхностный механизм роста, в результате которого получаются высококачественные графеновые листы большой площади. Этот метод особенно эффективен в процессах химического осаждения из паровой фазы (CVD), где медь выступает в качестве катализатора и подложки.

Подробное объяснение:

  1. Низкая растворимость меди в углероде: Медь обладает низкой растворимостью углерода по сравнению с другими переходными металлами, такими как никель. Это свойство очень важно, поскольку оно позволяет использовать поверхностный механизм роста графена. В процессах CVD, когда медь подвергается воздействию газообразных углеводородов при высоких температурах, атомы углерода из углеводородов не растворяются в меди, а образуют графеновые слои на поверхности. Это приводит к образованию графена непосредственно на поверхности меди без значительного внедрения в металлическую подложку.

  2. Механизм поверхностного роста: Поверхностный механизм роста на меди выгоден тем, что обычно приводит к уменьшению количества дефектов и более высокому качеству графена. Поскольку графен формируется непосредственно на поверхности, на него меньше влияют примеси или дефекты, которые могут возникнуть при взаимодействии с основным металлом. В отличие от никеля, который обладает высокой растворимостью углерода и приводит к механизму, при котором углерод диффундирует в основной металл, а затем осаждается в виде графена при охлаждении, что часто приводит к образованию многослойного графена с большим количеством дефектов.

  3. Производство графена на больших площадях: Медным подложкам также отдается предпочтение, поскольку они позволяют производить графеновые листы большой площади. Использование медных корпусов в качестве подложек обеспечивает большую площадку для осаждения графена, и благодаря тщательному контролю параметров CVD-процесса, таких как температура и давление, исследователи смогли вырастить монокристаллические графеновые листы размером до 2 мм. Такая масштабируемость важна для практических применений, особенно в электронике и фотонике, где требуются большие и однородные графеновые пленки.

  4. Снижение трудностей переноса: Выращивание графена непосредственно на меди также может уменьшить некоторые проблемы, связанные с переносом графена с подложки для роста на другие подложки для изготовления устройств. Прямой рост на меди может быть выгоден в тех случаях, когда медь может оставаться частью конечной структуры устройства, уменьшая необходимость переноса и потенциально улучшая общую производительность и надежность устройства.

  5. Улучшенная обработка поверхности: Исследователи также разработали методы дальнейшего повышения качества графена, выращенного на меди, путем обработки медной подложки перед процессом CVD. Это может включать химическую обработку, которая снижает каталитическую активность, увеличивает размер зерна меди и изменяет морфологию поверхности, чтобы способствовать росту графена с меньшим количеством дефектов.

В целом, рост графена на меди обусловлен низкой растворимостью углерода в этом металле, что поддерживает механизм роста на поверхности, который позволяет получать высококачественный графен большой площади. Этот метод особенно эффективен в процессах CVD и предлагает значительные преимущества с точки зрения масштабируемости и потенциала для прямой интеграции в электронные устройства.

Откройте для себя передовые преимущества графена на медных подложках от KINTEK SOLUTION для ваших научных и промышленных нужд! Благодаря точным CVD-процессам мы используем исключительную низкую растворимость углерода в меди для беспрецедентного роста на поверхности, в результате чего получаем высококачественные графеновые листы без дефектов. Не упустите наши возможности по производству графена на больших площадях и снижению трудностей переноса для беспрепятственной интеграции в ваши приложения. Повысьте уровень своих графеновых исследований с помощью KINTEK SOLUTION уже сегодня!

Связанные товары

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Технология, в основном используемая в области силовой электроники. Это графитовая пленка, изготовленная из исходного углеродного материала путем осаждения материала с использованием электронно-лучевой технологии.

Электронно-лучевое напыление покрытия бескислородного медного тигля

Электронно-лучевое напыление покрытия бескислородного медного тигля

При использовании методов электронно-лучевого испарения использование тиглей из бескислородной меди сводит к минимуму риск загрязнения кислородом в процессе испарения.

Углеродно-графитовая пластина - изостатическая

Углеродно-графитовая пластина - изостатическая

Изостатический углеродный графит прессуется из графита высокой чистоты. Это отличный материал для изготовления сопел ракет, материалов для замедления и отражающих материалов для графитовых реакторов.

Медная пена

Медная пена

Медная пена обладает хорошей теплопроводностью и может широко использоваться для теплопроводности и отвода тепла двигателей/электроприборов и электронных компонентов.

Тигель для выпаривания графита

Тигель для выпаривания графита

Сосуды для высокотемпературных применений, где материалы выдерживаются при чрезвычайно высоких температурах для испарения, что позволяет наносить тонкие пленки на подложки.

Электронно-лучевой тигель

Электронно-лучевой тигель

В контексте испарения с помощью электронного луча тигель представляет собой контейнер или держатель источника, используемый для хранения и испарения материала, который должен быть нанесен на подложку.

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Узнайте о машине MPCVD с цилиндрическим резонатором - методе микроволнового плазмохимического осаждения из паровой фазы, который используется для выращивания алмазных камней и пленок в ювелирной и полупроводниковой промышленности. Узнайте о его экономически эффективных преимуществах по сравнению с традиционными методами HPHT.

Мишень для распыления углерода высокой чистоты (C) / порошок / проволока / блок / гранула

Мишень для распыления углерода высокой чистоты (C) / порошок / проволока / блок / гранула

Ищете недорогие углеродные (C) материалы для нужд вашей лаборатории? Не смотрите дальше! Наши искусно изготовленные и изготовленные по индивидуальному заказу материалы бывают различных форм, размеров и чистоты. Выбирайте мишени для распыления, материалы для покрытий, порошки и многое другое.

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Фильера для нанесения наноалмазного композитного покрытия использует цементированный карбид (WC-Co) в качестве подложки, а для нанесения обычного алмаза и наноалмазного композитного покрытия на поверхность внутреннего отверстия пресс-формы используется метод химической паровой фазы (сокращенно CVD-метод).

Печь для графитизации пленки с высокой теплопроводностью

Печь для графитизации пленки с высокой теплопроводностью

Печь для графитизации пленки с высокой теплопроводностью имеет равномерную температуру, низкое энергопотребление и может работать непрерывно.

Лодка из углеграфита - лабораторная трубчатая печь с крышкой

Лодка из углеграфита - лабораторная трубчатая печь с крышкой

Крытые углеграфитовые лодочные лабораторные трубчатые печи представляют собой специализированные сосуды или сосуды из графитового материала, предназначенные для работы в условиях экстремально высоких температур и химически агрессивных сред.

CVD-алмазное покрытие

CVD-алмазное покрытие

Алмазное покрытие CVD: превосходная теплопроводность, качество кристаллов и адгезия для режущих инструментов, трения и акустических применений.

CVD-алмаз, легированный бором

CVD-алмаз, легированный бором

Алмаз, легированный CVD бором: универсальный материал, обеспечивающий индивидуальную электропроводность, оптическую прозрачность и исключительные тепловые свойства для применения в электронике, оптике, сенсорных и квантовых технологиях.


Оставьте ваше сообщение