Основное различие между IP (ионное осаждение) и PVD (физическое осаждение из паровой фазы) заключается в методе осаждения и участии ионов в процессе. IP - это особый тип PVD, в котором используются ионы для улучшения процесса осаждения, что дает такие преимущества, как более низкая температура осаждения и более высокая скорость, в то время как PVD охватывает более широкий спектр методов, в которых материалы испаряются, а затем конденсируются на подложке.
Объяснение IP (ионное осаждение):
Ионное осаждение - это вариант PVD, в котором ионы активно используются для помощи в процессе осаждения. Вместо того чтобы полагаться исключительно на электроны или фотоны для испарения материала мишени, как в традиционном PVD, ионное покрытие использует заряженные ионы для бомбардировки мишени. Эта ионная бомбардировка не только помогает испарить материал, но и повышает адгезию и плотность осажденной пленки. Использование ионов в этом процессе позволяет осаждать материалы, которые сложно испарить другими методами, а также позволяет работать при более низких температурах, что полезно для термочувствительных подложек.Объяснение PVD (Physical Vapor Deposition):
Физическое осаждение из паровой фазы - это общий термин, описывающий различные методы вакуумного напыления, которые могут использоваться для получения тонких пленок и покрытий. Процесс включает в себя перевод материала из твердой фазы в паровую, а затем обратно в тонкую пленку в твердой фазе. Типичные этапы PVD включают помещение материала в вакуумную камеру, откачивание воздуха из камеры для создания высоковакуумной среды, бомбардировку материала частицами (электронами, ионами или фотонами) для испарения, а затем конденсацию испаренного материала на подложку. Процессы PVD известны своей способностью создавать прочные, высококачественные покрытия и являются экологически чистыми благодаря вакуумной среде.
Сравнение и преимущества:
