Знание Что такое метод термического испарения? 5 ключевых моментов, которые необходимо знать
Аватар автора

Техническая команда · Kintek Solution

Обновлено 4 недели назад

Что такое метод термического испарения? 5 ключевых моментов, которые необходимо знать

Термическое испарение - это метод, используемый для создания тонких пленок на поверхностях.

При этом материал нагревается до превращения в пар.

Затем этот пар образует тонкий слой на близлежащей поверхности.

Процесс происходит в среде с очень низким давлением, обычно менее 10^-5 торр.

Этот метод известен своей простотой, низким энергопотреблением и бережным отношением к природе.

5 ключевых моментов, которые необходимо знать о термическом испарении

Что такое метод термического испарения? 5 ключевых моментов, которые необходимо знать

1. Нагрев материала

Процесс начинается с нагревания твердого материала.

Для этого часто используется резистивная лодка.

Материал нагревается до высокой температуры, при которой он начинает кипеть или сублимироваться.

Эта высокая температура необходима для преодоления давления паров материала и начала процесса испарения.

2. Испарение в вакууме

Испарение происходит в высоковакуумной камере.

Вакуумная среда имеет решающее значение.

Он не позволяет парам вступать в реакцию с другими атомами или рассеиваться на них.

Таким образом, пар попадает непосредственно на подложку.

3. Осаждение на подложку

Испаренный материал образует поток пара.

Этот поток проходит через камеру и оседает на подложке.

Затем пар конденсируется, образуя тонкую пленку.

Эта пленка может быть однородной и хорошо приклеиваться благодаря контролируемой среде и прямому пути пара.

4. Повторяемость и рост

Процесс можно повторять многократно.

Каждый цикл способствует зарождению и росту пленки.

Это повышает качество и однородность пленки.

5. Применение и материалы

Термическое испарение используется как в лабораторных, так и в промышленных условиях.

Оно используется для нанесения различных материалов.

К ним относятся такие металлы, как алюминий, серебро, никель и хром.

Его универсальность и способность осаждать широкий спектр материалов делают его популярным выбором для нанесения тонких пленок.

Продолжайте исследовать, обратитесь к нашим экспертам

Повысьте уровень исследований и производства тонких пленок с помощью передовых систем термического испарения KINTEK SOLUTION.

Оцените простоту и мягкость нашей технологии PVD, разработанной для обеспечения точности и эффективности.

Не упустите возможность воспользоваться нашими лучшими в отрасли продуктами, которые дают возможность ученым и инженерам по всему миру.

Запросите коммерческое предложение сегодня и шагните в будущее материаловедения вместе с KINTEK SOLUTION!

Связанные товары

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Усовершенствуйте свой процесс нанесения покрытий с помощью оборудования для нанесения покрытий методом PECVD. Идеально подходит для производства светодиодов, силовых полупроводников, МЭМС и многого другого. Осаждает высококачественные твердые пленки при низких температурах.

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

RF-PECVD - это аббревиатура от "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". С его помощью на германиевые и кремниевые подложки наносится пленка DLC (алмазоподобного углерода). Он используется в инфракрасном диапазоне длин волн 3-12um.

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Технология, в основном используемая в области силовой электроники. Это графитовая пленка, изготовленная из исходного углеродного материала путем осаждения материала с использованием электронно-лучевой технологии.

0,5-1 л роторный испаритель

0,5-1 л роторный испаритель

Ищете надежный и эффективный роторный испаритель? Наш роторный испаритель объемом 0,5-1 л использует нагрев при постоянной температуре и тонкопленочное испарение для выполнения ряда операций, включая удаление и разделение растворителей. Благодаря высококачественным материалам и функциям безопасности он идеально подходит для лабораторий фармацевтической, химической и биологической промышленности.

2-5 л роторный испаритель

2-5 л роторный испаритель

Эффективно удаляйте низкокипящие растворители с помощью роторного испарителя KT 2-5L. Идеально подходит для химических лабораторий в фармацевтической, химической и биологической промышленности.

испарительная лодка для органических веществ

испарительная лодка для органических веществ

Испарительная лодочка для органических веществ является важным инструментом для точного и равномерного нагрева при осаждении органических материалов.

Электронно-лучевое напыление покрытия бескислородного медного тигля

Электронно-лучевое напыление покрытия бескислородного медного тигля

При использовании методов электронно-лучевого испарения использование тиглей из бескислородной меди сводит к минимуму риск загрязнения кислородом в процессе испарения.

0,5-4 л роторный испаритель

0,5-4 л роторный испаритель

Эффективно разделяйте «низкокипящие» растворители с помощью роторного испарителя объемом 0,5–4 л. Разработан с использованием высококачественных материалов, вакуумного уплотнения Telfon+Viton и клапанов из ПТФЭ для работы без загрязнения.

Испарительный тигель для органических веществ

Испарительный тигель для органических веществ

Тигель для выпаривания органических веществ, называемый тиглем для выпаривания, представляет собой контейнер для выпаривания органических растворителей в лабораторных условиях.

Испарительная лодочка из алюминированной керамики

Испарительная лодочка из алюминированной керамики

Сосуд для нанесения тонких пленок; имеет керамический корпус с алюминиевым покрытием для повышения термической эффективности и химической стойкости. что делает его пригодным для различных приложений.

Тигель для выпаривания графита

Тигель для выпаривания графита

Сосуды для высокотемпературных применений, где материалы выдерживаются при чрезвычайно высоких температурах для испарения, что позволяет наносить тонкие пленки на подложки.

Набор керамических испарительных лодочек

Набор керамических испарительных лодочек

Его можно использовать для осаждения из паровой фазы различных металлов и сплавов. Большинство металлов можно полностью испарить без потерь. Испарительные корзины многоразовые.

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Фильера для нанесения наноалмазного композитного покрытия использует цементированный карбид (WC-Co) в качестве подложки, а для нанесения обычного алмаза и наноалмазного композитного покрытия на поверхность внутреннего отверстия пресс-формы используется метод химической паровой фазы (сокращенно CVD-метод).

CVD-алмазное покрытие

CVD-алмазное покрытие

Алмазное покрытие CVD: превосходная теплопроводность, качество кристаллов и адгезия для режущих инструментов, трения и акустических применений.

CVD-алмаз для терморегулирования

CVD-алмаз для терморегулирования

CVD-алмаз для управления температурным режимом: высококачественный алмаз с теплопроводностью до 2000 Вт/мК, идеально подходящий для теплоотводов, лазерных диодов и приложений GaN на алмазе (GOD).


Оставьте ваше сообщение

Ярлык

Общайтесь с нами для быстрого и прямого общения.

Немедленный ответ в рабочие дни (в течение 8 часов в праздничные дни)