Знание Какие существуют методы синтеза графена? Объяснение 5 ключевых подходов
Аватар автора

Техническая команда · Kintek Solution

Обновлено 4 недели назад

Какие существуют методы синтеза графена? Объяснение 5 ключевых подходов

Синтез графена включает в себя два метода: "сверху вниз" и "снизу вверх".

Метод "сверху вниз" предполагает механическое отшелушивание графита.

Метод "снизу вверх" основан на химическом осаждении из паровой фазы (CVD).

CVD особенно примечателен тем, что позволяет получать высококачественные графеновые пленки большой площади, пригодные для промышленного применения.

Какие существуют методы синтеза графена? Объяснение 5 основных подходов

Какие существуют методы синтеза графена? Объяснение 5 ключевых подходов

1. Подход "сверху вниз": Механическое отшелушивание

Метод "сверху вниз", примером которого является механическое отшелушивание, предполагает отделение графеновых слоев от объемного графита.

Впервые эта техника была продемонстрирована Геймом и Новоселовым в 2004 году.

Хотя этот метод полезен для фундаментальных исследований благодаря высокому качеству получаемого графена, он не подходит для крупномасштабного производства из-за своей трудоемкости и малого размера получаемых графеновых хлопьев.

2. Подход "снизу вверх" - химическое осаждение из паровой фазы (CVD)

В настоящее время CVD является наиболее перспективной технологией для крупномасштабного синтеза высококачественного графена.

Процесс обычно включает в себя разложение углеводородного газа (например, метана) на поверхности металлического катализатора, такого как медь или никель, при высоких температурах.

Атомы углерода из разложившегося газа диффундируют в металл и при охлаждении осаждаются на поверхности в виде графена.

2.1 Никелевая подложка

В случае с никелем высокая температура позволяет атомам углерода диффундировать в никель.

При охлаждении эти атомы углерода мигрируют на поверхность и образуют графен.

Этот метод эффективен, но может привести к образованию многослойного графена и требует точного контроля скорости охлаждения для оптимизации качества и толщины графенового слоя.

2.2 Медная подложка

Медь используется чаще всего, так как она благоприятствует образованию однослойного графена.

Процесс CVD с использованием медных подложек включает в себя разложение метана на поверхности меди, где атомы углерода растворяются в меди, а затем разделяются и образуют графен при охлаждении.

Этот метод, впервые примененный Ли и др. в 2009 году, был использован в промышленных масштабах для крупномасштабного производства графеновых пленок.

3. Крупномасштабное и массовое производство

Метод CVD был дополнительно оптимизирован для крупномасштабного и массового производства с помощью таких технологий, как процессы "партия в партию" (B2B) и "рулон в рулон" (R2R).

Процесс B2B предполагает укладку или прокатку медной фольги для увеличения производительности.

Процесс R2R улучшает автоматизацию и масштабируемость, позволяя производить графеновые пленки практически неограниченной длины.

4. Применение и рынок

Если методом "сверху вниз" производятся в основном графеновые порошки и наночастицы, используемые в различных неэлектронных приложениях, то графен, выращенный методом CVD, в большей степени ориентирован на электронные приложения благодаря своему превосходному качеству и большим масштабам.

Ожидается, что рынок графена, особенно в виде порошков и наночастиц, будет значительно расти, и в ближайшее десятилетие его потенциальный доход превысит 600 миллионов долларов.

5. Промышленная актуальность CVD

В целом, синтез графена включает в себя как нисходящие, так и восходящие методы, при этом CVD является наиболее актуальным для промышленности благодаря своей масштабируемости и высокому качеству получаемого графена.

Этот метод имеет решающее значение для удовлетворения растущего спроса на графен в различных высокотехнологичных приложениях.

Продолжайте исследовать, обратитесь к нашим экспертам

Откройте для себя передовые технологии синтеза графена вместе с компанией KINTEK SOLUTION, вашим главным поставщиком лабораторного оборудования.

Воспользуйтесь мощью нашей передовой технологии CVD чтобы раскрыть потенциал графеновых пленок большой площади, идеально подходящих для промышленного применения.

Доверьтесь нам, чтобы предоставить высококачественные подложки и передовое оборудование. необходимые для крупномасштабного производства.

Повысьте уровень своих исследований и инноваций с помощью KINTEK SOLUTION - где точность сочетается с производительностью.

Свяжитесь с нами сегодня и войдите в мир непревзойденных графеновых решений!

Связанные товары

CVD-алмазное покрытие

CVD-алмазное покрытие

Алмазное покрытие CVD: превосходная теплопроводность, качество кристаллов и адгезия для режущих инструментов, трения и акустических применений.

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Усовершенствуйте свой процесс нанесения покрытий с помощью оборудования для нанесения покрытий методом PECVD. Идеально подходит для производства светодиодов, силовых полупроводников, МЭМС и многого другого. Осаждает высококачественные твердые пленки при низких температурах.

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Фильера для нанесения наноалмазного композитного покрытия использует цементированный карбид (WC-Co) в качестве подложки, а для нанесения обычного алмаза и наноалмазного композитного покрытия на поверхность внутреннего отверстия пресс-формы используется метод химической паровой фазы (сокращенно CVD-метод).

Экспериментальная печь для графитации IGBT

Экспериментальная печь для графитации IGBT

Экспериментальная печь графитации IGBT — специальное решение для университетов и исследовательских институтов, отличающееся высокой эффективностью нагрева, удобством использования и точным контролем температуры.

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Технология, в основном используемая в области силовой электроники. Это графитовая пленка, изготовленная из исходного углеродного материала путем осаждения материала с использованием электронно-лучевой технологии.

Углеродно-графитовая пластина - изостатическая

Углеродно-графитовая пластина - изостатическая

Изостатический углеродный графит прессуется из графита высокой чистоты. Это отличный материал для изготовления сопел ракет, материалов для замедления и отражающих материалов для графитовых реакторов.

Сверхвысокотемпературная печь графитации

Сверхвысокотемпературная печь графитации

В печи для сверхвысокой температуры графитации используется среднечастотный индукционный нагрев в вакууме или среде инертного газа. Индукционная катушка создает переменное магнитное поле, индуцирующее вихревые токи в графитовом тигле, которые нагреваются и излучают тепло к заготовке, доводя ее до нужной температуры. Эта печь в основном используется для графитации и спекания углеродных материалов, материалов из углеродного волокна и других композитных материалов.

Печь для графитизации пленки с высокой теплопроводностью

Печь для графитизации пленки с высокой теплопроводностью

Печь для графитизации пленки с высокой теплопроводностью имеет равномерную температуру, низкое энергопотребление и может работать непрерывно.

Горизонтальная высокотемпературная печь графитации

Горизонтальная высокотемпературная печь графитации

Горизонтальная печь графитации. В конструкции печи этого типа нагревательные элементы расположены горизонтально, что обеспечивает равномерный нагрев образца. Он хорошо подходит для графитации больших или объемных образцов, требующих точного контроля температуры и однородности.

CVD-алмаз, легированный бором

CVD-алмаз, легированный бором

Алмаз, легированный CVD бором: универсальный материал, обеспечивающий индивидуальную электропроводность, оптическую прозрачность и исключительные тепловые свойства для применения в электронике, оптике, сенсорных и квантовых технологиях.

CVD-алмаз для терморегулирования

CVD-алмаз для терморегулирования

CVD-алмаз для управления температурным режимом: высококачественный алмаз с теплопроводностью до 2000 Вт/мК, идеально подходящий для теплоотводов, лазерных диодов и приложений GaN на алмазе (GOD).

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Узнайте о машине MPCVD с цилиндрическим резонатором - методе микроволнового плазмохимического осаждения из паровой фазы, который используется для выращивания алмазных камней и пленок в ювелирной и полупроводниковой промышленности. Узнайте о его экономически эффективных преимуществах по сравнению с традиционными методами HPHT.

Тигель для выпаривания графита

Тигель для выпаривания графита

Сосуды для высокотемпературных применений, где материалы выдерживаются при чрезвычайно высоких температурах для испарения, что позволяет наносить тонкие пленки на подложки.

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

RF-PECVD - это аббревиатура от "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". С его помощью на германиевые и кремниевые подложки наносится пленка DLC (алмазоподобного углерода). Он используется в инфракрасном диапазоне длин волн 3-12um.

Печь для графитизации негативного материала

Печь для графитизации негативного материала

Печь графитации для производства аккумуляторов имеет равномерную температуру и низкое энергопотребление. Печь для графитации материалов отрицательных электродов: эффективное решение для графитации при производстве аккумуляторов и расширенные функции для повышения производительности аккумуляторов.

Печь непрерывной графитации

Печь непрерывной графитации

Печь высокотемпературной графитации — профессиональное оборудование для графитационной обработки углеродных материалов. Это ключевое оборудование для производства высококачественной графитовой продукции. Он имеет высокую температуру, высокую эффективность и равномерный нагрев. Подходит для различных высокотемпературных обработок и графитации. Он широко используется в металлургии, электронной, аэрокосмической и т. д. промышленности.

Большая вертикальная печь графитации

Большая вертикальная печь графитации

Большая вертикальная высокотемпературная печь для графитации — это тип промышленной печи, используемой для графитации углеродных материалов, таких как углеродное волокно и технический углерод. Это высокотемпературная печь, которая может достигать температуры до 3100°C.


Оставьте ваше сообщение