Знание Каков процесс синтеза графена? 5 ключевых этапов
Аватар автора

Техническая команда · Kintek Solution

Обновлено 4 недели назад

Каков процесс синтеза графена? 5 ключевых этапов

Процесс синтеза графена в основном включает химическое осаждение из паровой фазы (CVD).

Этот метод позволяет выращивать высококачественные графеновые пленки на различных подложках, в частности на переходных металлах, таких как никель и медь.

CVD-методу отдают предпочтение за его способность создавать однородные графеновые пленки большой площади, пригодные для промышленного применения.

В чем заключается процесс синтеза графена? Объяснение 5 ключевых этапов

Каков процесс синтеза графена? 5 ключевых этапов

1. Катализатор и субстрат

Процесс начинается с катализатора, обычно медного или никелевого, который используется в качестве подложки.

Выбор этих металлов обусловлен их способностью взаимодействовать с атомами углерода в процессе осаждения.

Медь, например, обладает низкой растворимостью углерода, что позволяет формировать монослойный графен за счет поверхностной адсорбции.

Никель обладает высокой растворимостью углерода, что способствует диффузии и сегрегации атомов углерода.

2. Газы-носители и исходный материал

Катализатор подвергается воздействию газов-носителей, обычно водорода или аргона, и исходного материала, например метана.

Эти газы вводятся в реакционную камеру, где они разлагаются при высоких температурах, высвобождая атомы углерода.

3. Условия роста

Температура, давление и продолжительность реакции - критические параметры, которые необходимо точно контролировать для обеспечения качества и однородности графеновой пленки.

Атомы углерода из разложившегося метана диффундируют в металлическую подложку, а затем осаждаются в виде графена в процессе охлаждения.

4. Охлаждение и перенос

После фазы роста система охлаждается, в результате чего графен формируется на поверхности металла.

Затем графен переносится на нужную подложку с помощью методов, предотвращающих загрязнение и повреждение хрупкой пленки.

5. Промышленные применения

Метод CVD, в частности с использованием медной фольги, был использован для крупномасштабного производства графеновых пленок.

Для оптимизации производительности и получения графеновых пленок большой ширины и длины были разработаны такие технологии, как серийное производство (B2B) и рулонное производство (R2R).

Продолжайте исследовать, проконсультируйтесь с нашими экспертами

Откройте для себя передовые технологии производства графена с помощью KINTEK SOLUTION - где точность сочетается с инновациями.

Наша специализированная технология химического осаждения из паровой фазы (CVD) меняет представление о синтезе высококачественных графеновых пленок, идеально подходящих для применения в промышленных масштабах.

Уделяя особое внимание передовым катализаторам, точным условиям роста и бесшовным технологиям переноса, мы являемся вашим основным поставщиком для расширения границ исследований и разработок графена.

Ощутите разницу с KINTEK SOLUTION и поднимите свои проекты на новый уровень - свяжитесь с нами прямо сейчас!

Связанные товары

CVD-алмазное покрытие

CVD-алмазное покрытие

Алмазное покрытие CVD: превосходная теплопроводность, качество кристаллов и адгезия для режущих инструментов, трения и акустических применений.

CVD-алмаз, легированный бором

CVD-алмаз, легированный бором

Алмаз, легированный CVD бором: универсальный материал, обеспечивающий индивидуальную электропроводность, оптическую прозрачность и исключительные тепловые свойства для применения в электронике, оптике, сенсорных и квантовых технологиях.

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Усовершенствуйте свой процесс нанесения покрытий с помощью оборудования для нанесения покрытий методом PECVD. Идеально подходит для производства светодиодов, силовых полупроводников, МЭМС и многого другого. Осаждает высококачественные твердые пленки при низких температурах.

CVD-алмаз для терморегулирования

CVD-алмаз для терморегулирования

CVD-алмаз для управления температурным режимом: высококачественный алмаз с теплопроводностью до 2000 Вт/мК, идеально подходящий для теплоотводов, лазерных диодов и приложений GaN на алмазе (GOD).

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Узнайте о машине MPCVD с цилиндрическим резонатором - методе микроволнового плазмохимического осаждения из паровой фазы, который используется для выращивания алмазных камней и пленок в ювелирной и полупроводниковой промышленности. Узнайте о его экономически эффективных преимуществах по сравнению с традиционными методами HPHT.

Экспериментальная печь для графитации IGBT

Экспериментальная печь для графитации IGBT

Экспериментальная печь графитации IGBT — специальное решение для университетов и исследовательских институтов, отличающееся высокой эффективностью нагрева, удобством использования и точным контролем температуры.

Тигель для выпаривания графита

Тигель для выпаривания графита

Сосуды для высокотемпературных применений, где материалы выдерживаются при чрезвычайно высоких температурах для испарения, что позволяет наносить тонкие пленки на подложки.

Углеродно-графитовая пластина - изостатическая

Углеродно-графитовая пластина - изостатическая

Изостатический углеродный графит прессуется из графита высокой чистоты. Это отличный материал для изготовления сопел ракет, материалов для замедления и отражающих материалов для графитовых реакторов.

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Технология, в основном используемая в области силовой электроники. Это графитовая пленка, изготовленная из исходного углеродного материала путем осаждения материала с использованием электронно-лучевой технологии.

Горизонтальная высокотемпературная печь графитации

Горизонтальная высокотемпературная печь графитации

Горизонтальная печь графитации. В конструкции печи этого типа нагревательные элементы расположены горизонтально, что обеспечивает равномерный нагрев образца. Он хорошо подходит для графитации больших или объемных образцов, требующих точного контроля температуры и однородности.

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

RF-PECVD - это аббревиатура от "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". С его помощью на германиевые и кремниевые подложки наносится пленка DLC (алмазоподобного углерода). Он используется в инфракрасном диапазоне длин волн 3-12um.

Печь для графитизации пленки с высокой теплопроводностью

Печь для графитизации пленки с высокой теплопроводностью

Печь для графитизации пленки с высокой теплопроводностью имеет равномерную температуру, низкое энергопотребление и может работать непрерывно.

Печь непрерывной графитации

Печь непрерывной графитации

Печь высокотемпературной графитации — профессиональное оборудование для графитационной обработки углеродных материалов. Это ключевое оборудование для производства высококачественной графитовой продукции. Он имеет высокую температуру, высокую эффективность и равномерный нагрев. Подходит для различных высокотемпературных обработок и графитации. Он широко используется в металлургии, электронной, аэрокосмической и т. д. промышленности.

Большая вертикальная печь графитации

Большая вертикальная печь графитации

Большая вертикальная высокотемпературная печь для графитации — это тип промышленной печи, используемой для графитации углеродных материалов, таких как углеродное волокно и технический углерод. Это высокотемпературная печь, которая может достигать температуры до 3100°C.

Сверхвысокотемпературная печь графитации

Сверхвысокотемпературная печь графитации

В печи для сверхвысокой температуры графитации используется среднечастотный индукционный нагрев в вакууме или среде инертного газа. Индукционная катушка создает переменное магнитное поле, индуцирующее вихревые токи в графитовом тигле, которые нагреваются и излучают тепло к заготовке, доводя ее до нужной температуры. Эта печь в основном используется для графитации и спекания углеродных материалов, материалов из углеродного волокна и других композитных материалов.

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Фильера для нанесения наноалмазного композитного покрытия использует цементированный карбид (WC-Co) в качестве подложки, а для нанесения обычного алмаза и наноалмазного композитного покрытия на поверхность внутреннего отверстия пресс-формы используется метод химической паровой фазы (сокращенно CVD-метод).

Печь для графитизации негативного материала

Печь для графитизации негативного материала

Печь графитации для производства аккумуляторов имеет равномерную температуру и низкое энергопотребление. Печь для графитации материалов отрицательных электродов: эффективное решение для графитации при производстве аккумуляторов и расширенные функции для повышения производительности аккумуляторов.


Оставьте ваше сообщение