Знание Что такое метод Pacvd?
Аватар автора

Техническая команда · Kintek Solution

Обновлено 1 неделю назад

Что такое метод Pacvd?

Химическое осаждение из плазмы (PACVD) - это метод химического осаждения из паровой фазы, в котором используется плазма для усиления химических реакций, необходимых для осаждения тонких пленок на поверхности. Этот метод характеризуется способностью работать при относительно низких температурах, что благоприятно для осаждения таких материалов, как алмазоподобный углерод (DLC), требующих точного контроля температуры. PACVD предполагает использование высокочастотной плазмы для подачи энергии, необходимой для химических реакций, что приводит к минимальному повышению температуры на заготовке.

Подробное объяснение:

  1. Механизм процесса:

  2. PACVD осуществляется путем введения газообразных материалов-предшественников в вакуумную камеру, оснащенную двумя плоскими электродами. Один из этих электродов подключается к источнику питания на радиочастоте (РЧ), что приводит к образованию плазмы. Эта плазма содержит высокоэнергетические электроны, которые способствуют химическим реакциям, расщепляя газы-предшественники до реактивных веществ. Затем реактивные вещества осаждаются на заготовке, образуя тонкую пленку.Контроль температуры:

  3. Одним из ключевых преимуществ PACVD является способность осаждать пленки при низких температурах, обычно около 200°C. Такая низкотемпературная работа очень важна для осаждения слоев DLC, которые известны своим низким коэффициентом трения и масштабируемой твердостью поверхности. Возможность работы при таких температурах также позволяет осаждать органические покрытия и особенно полезна в полупроводниковой промышленности, где температура подложки является критическим фактором.

  4. Сочетание с PVD:

    • PACVD часто сочетается с физическим осаждением из паровой фазы (PVD) для создания сложных архитектур слоев и облегчения легирования слоев DLC. Такое сочетание позволяет использовать сильные стороны обоих процессов, повышая универсальность и функциональность осажденных пленок.
    • Преимущества:Высокая износостойкость:
    • Пленки, осажденные методом PACVD, обладают высокой износостойкостью, что делает их пригодными для применения в областях, требующих долговечности.Низкий коэффициент трения:
  5. Пленки, осажденные методом PACVD, особенно пленки DLC, имеют низкий коэффициент трения, что благоприятно сказывается на снижении износа механических компонентов.Устойчивость к коррозии:

Эти покрытия также обладают хорошей устойчивостью к коррозии, что продлевает срок службы компонентов с покрытием в агрессивных средах.

Области применения:

Связанные товары

CVD-алмазное покрытие

CVD-алмазное покрытие

Алмазное покрытие CVD: превосходная теплопроводность, качество кристаллов и адгезия для режущих инструментов, трения и акустических применений.

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Усовершенствуйте свой процесс нанесения покрытий с помощью оборудования для нанесения покрытий методом PECVD. Идеально подходит для производства светодиодов, силовых полупроводников, МЭМС и многого другого. Осаждает высококачественные твердые пленки при низких температурах.

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

RF-PECVD - это аббревиатура от "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". С его помощью на германиевые и кремниевые подложки наносится пленка DLC (алмазоподобного углерода). Он используется в инфракрасном диапазоне длин волн 3-12um.

Печь для искрового плазменного спекания SPS-печь

Печь для искрового плазменного спекания SPS-печь

Откройте для себя преимущества печей искрового плазменного спекания для быстрой низкотемпературной подготовки материалов. Равномерный нагрев, низкая стоимость и экологичность.

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Узнайте о машине MPCVD с цилиндрическим резонатором - методе микроволнового плазмохимического осаждения из паровой фазы, который используется для выращивания алмазных камней и пленок в ювелирной и полупроводниковой промышленности. Узнайте о его экономически эффективных преимуществах по сравнению с традиционными методами HPHT.

Колокольный резонатор MPCVD Машина для лаборатории и выращивания алмазов

Колокольный резонатор MPCVD Машина для лаборатории и выращивания алмазов

Получите высококачественные алмазные пленки с помощью нашей машины MPCVD с резонатором Bell-jar Resonator, предназначенной для лабораторного выращивания и выращивания алмазов. Узнайте, как микроволновое плазменно-химическое осаждение из паровой фазы работает для выращивания алмазов с использованием углекислого газа и плазмы.

Печь для графитизации пленки с высокой теплопроводностью

Печь для графитизации пленки с высокой теплопроводностью

Печь для графитизации пленки с высокой теплопроводностью имеет равномерную температуру, низкое энергопотребление и может работать непрерывно.

915MHz MPCVD алмазная машина

915MHz MPCVD алмазная машина

915MHz MPCVD Diamond Machine и его многокристальный эффективный рост, максимальная площадь может достигать 8 дюймов, максимальная эффективная площадь роста монокристалла может достигать 5 дюймов. Это оборудование в основном используется для производства поликристаллических алмазных пленок большого размера, роста длинных монокристаллов алмазов, низкотемпературного роста высококачественного графена и других материалов, для роста которых требуется энергия, предоставляемая микроволновой плазмой.

Вакуумная печь для горячего прессования

Вакуумная печь для горячего прессования

Откройте для себя преимущества вакуумной печи горячего прессования! Производство плотных тугоплавких металлов и соединений, керамики и композитов при высоких температурах и давлении.

Вакуумная трубчатая печь горячего прессования

Вакуумная трубчатая печь горячего прессования

Уменьшите давление формования и сократите время спекания с помощью вакуумной трубчатой печи для горячего прессования высокоплотных и мелкозернистых материалов. Идеально подходит для тугоплавких металлов.

Универсальная трубчатая печь CVD, изготовленная по индивидуальному заказу CVD-машина

Универсальная трубчатая печь CVD, изготовленная по индивидуальному заказу CVD-машина

Получите свою эксклюзивную печь CVD с универсальной печью KT-CTF16, изготовленной по индивидуальному заказу. Настраиваемые функции скольжения, вращения и наклона для точной реакции. Заказать сейчас!

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Фильера для нанесения наноалмазного композитного покрытия использует цементированный карбид (WC-Co) в качестве подложки, а для нанесения обычного алмаза и наноалмазного композитного покрытия на поверхность внутреннего отверстия пресс-формы используется метод химической паровой фазы (сокращенно CVD-метод).

Наклонная ротационная машина для трубчатой печи с плазменным осаждением (PECVD)

Наклонная ротационная машина для трубчатой печи с плазменным осаждением (PECVD)

Представляем нашу наклонную вращающуюся печь PECVD для точного осаждения тонких пленок. Наслаждайтесь автоматическим согласованием источника, программируемым ПИД-регулятором температуры и высокоточным управлением массовым расходомером MFC. Встроенные функции безопасности для вашего спокойствия.

Скользящая трубчатая печь PECVD с жидким газификатором PECVD машина

Скользящая трубчатая печь PECVD с жидким газификатором PECVD машина

Система KT-PE12 Slide PECVD: широкий диапазон мощностей, программируемый контроль температуры, быстрый нагрев/охлаждение с помощью скользящей системы, контроль массового расхода MFC и вакуумный насос.

лабораторный пресс для гранул для вакуумного ящика

лабораторный пресс для гранул для вакуумного ящика

Повысьте точность работы вашей лаборатории с помощью нашего лабораторного пресса для вакуумного бокса. Легко и точно прессуйте таблетки и порошки в вакуумной среде, уменьшая окисление и улучшая консистенцию. Компактный и простой в использовании, с цифровым манометром.

Ручной лабораторный пресс для гранул для вакуумной коробки

Ручной лабораторный пресс для гранул для вакуумной коробки

Лабораторный пресс для вакуумного бокса - это специализированное оборудование, предназначенное для использования в лабораторных условиях. Его основное назначение - прессование таблеток и порошков в соответствии с определенными требованиями.

Заготовки режущего инструмента

Заготовки режущего инструмента

Алмазные режущие инструменты CVD: превосходная износостойкость, низкое трение, высокая теплопроводность для обработки цветных металлов, керамики, композитов

CVD-алмаз для правки инструментов

CVD-алмаз для правки инструментов

Испытайте непревзойденные характеристики заготовок для алмазной обработки CVD: высокая теплопроводность, исключительная износостойкость и независимость от ориентации.

Заготовки для волочения алмазной проволоки CVD

Заготовки для волочения алмазной проволоки CVD

Заготовки для волочения алмазной проволоки CVD: превосходная твердость, стойкость к истиранию и применимость при волочении различных материалов. Идеально подходит для абразивной обработки, например обработки графита.


Оставьте ваше сообщение