Продукты Тепловое оборудование ПДКВД Колокольный резонатор MPCVD Машина для лаборатории и выращивания алмазов
Категории
Категории
Колокольный резонатор MPCVD Машина для лаборатории и выращивания алмазов

ПДКВД

Колокольный резонатор MPCVD Машина для лаборатории и выращивания алмазов

Артикул : KTMP315

Цена может варьироваться в зависимости от спецификации и настройки


Мощность микроволн
Частота микроволн 2450 ± 15 МГц
Выходная мощность
1 ~ 10 кВт с плавной регулировкой
Утечка микроволн
≤2 МВт/см2
Выходной волноводный интерфейс
WR340, 430 со стандартным фланцем FD-340, 430
Держатель образца
Диаметр стола для образцов ≥ 70 мм, полезная площадь ≥ 64 мм.
ISO & CE icon

Доставка:

Свяжитесь с нами чтобы получить подробности о доставке. Наслаждайтесь Гарантия своевременной отправки.

Оставить сообщение Быстрое получение цены Via Онлайн чат

MPCVD означает микроволновое плазменное химическое осаждение из паровой фазы. Компания выращивает качественные алмазные пленки в лабораториях с использованием углекислого газа и микроволновой плазмы.

Система MPCVD

MPCVD представляет собой систему для нанесения тонких пленок на подложку с использованием вакуумной камеры, микроволнового генератора и системы подачи газа. Плазма генерируется внутри камеры магнетроном или клистроном, генерирующим микроволны на частоте 2,45 ГГц. Система подачи газа имеет MFC, откалиброванные в станд. куб. сантиметрах в минуту, для управления потоком газа. Температура подложки контролируется плазмой и измеряется термопарой. Плазма нагревает подложку, и во время осаждения контролируется температура.

Приложения

Технология MPCVD показывает перспективы производства крупных высококачественных алмазов по низкой цене.

Уникальные свойства алмаза, такие как твердость, жесткость, высокая теплопроводность, низкое тепловое расширение, радиационная стойкость и химическая инертность, делают его ценным материалом. Однако высокая стоимость, ограниченный размер и трудности контроля примесей в природных и синтетических алмазах высокого давления и высоких температур ограничивают их применение.

MPCVD является основным оборудованием для выращивания алмазных драгоценных камней и пленок, которые могут быть как монокристаллическими, так и поликристаллическими. Полупроводниковая промышленность широко использует выращивание алмазной пленки для крупноразмерных алмазных подложек, а также в производстве алмазных режущих или буровых инструментов.

По сравнению с методом HPHT для выращивания алмазов, выращенных в лаборатории, микроволновый метод CVD более выгоден для выращивания крупных алмазов при меньших затратах, что делает его идеальным решением для полупроводниковых алмазов, выращивания оптических алмазов и крупных ювелирных алмазов.

Необработанные алмазы, выращенные методом MPCVD
Необработанные алмазы, выращенные методом MPCVD
В KinTek MPCVD Machine растут алмазы
В KinTek MPCVD Machine растут алмазы
В KinTek MPCVD Machine растут алмазы
В KinTek MPCVD Machine растут алмазы
В KinTek MPCVD Machine растут алмазы
В KinTek MPCVD Machine растут алмазы
В KinTek MPCVD Machine растут алмазы
В KinTek MPCVD Machine растут алмазы
В KinTek MPCVD Machine растут алмазы
В KinTek MPCVD Machine растут алмазы
В KinTek MPCVD Machine растут алмазы
В KinTek MPCVD Machine растут алмазы
В KinTek MPCVD Machine растут алмазы
В KinTek MPCVD Machine растут алмазы
Алмаз, выращенный на установке KINTEK MPCVD
Алмаз, выращенный на установке KINTEK MPCVD
Алмаз, выращенный на установке KINTEK MPCVD
Алмаз, выращенный на установке KINTEK MPCVD
Алмаз, выращенный на установке KINTEK MPCVD
Алмаз, выращенный на установке KINTEK MPCVD
Алмазы, выращенные методом MPCVD, после полировки
Алмазы, выращенные методом MPCVD, после полировки
Поликристаллический от KinTek MPCVD
Поликристаллический от KinTek MPCVD

Преимущества MPCVD

MPCVD — это метод синтеза алмазов, обладающий преимуществами по сравнению с HFCVD и DC-PJ CVD. Это позволяет избежать загрязнения и позволяет использовать несколько газов. Он обеспечивает плавную регулировку мощности микроволн и стабильный контроль температуры, что позволяет избежать потери затравочных кристаллов. MPCVD перспективен для промышленных применений из-за большой стабильной площади плазмы.

MPCVD производит более чистые алмазы, используя меньше энергии, чем HPHT. Это также позволяет производить более крупные алмазы.

Преимущества нашей системы MPCVD

Мы глубоко вовлечены в эту отрасль в течение многих лет, и в результате у нас есть обширная клиентская база, которая доверяет нашему оборудованию и использует его. Наше оборудование MPCVD стабильно работает более 40 000 часов, демонстрируя исключительную стабильность, надежность, воспроизводимость и экономичность. Другие преимущества нашей системы MPCVD включают:

  • Площадь выращивания субстрата 3 дюйма, макс. пакетная загрузка до 45 штук бриллиантов
  • 1-10 кВт регулируемая выходная мощность микроволн для меньшего потребления электроэнергии
  • Богатая опытная команда исследователей с передовой поддержкой рецептов выращивания алмазов
  • Эксклюзивная программа технической поддержки для команды специалистов по выращиванию алмазов Zero

Используя наши накопленные передовые технологии, мы внедрили несколько циклов модернизации и усовершенствований нашей системы MPCVD, что привело к значительному повышению эффективности и снижению затрат на оборудование. В результате наше оборудование MPCVD находится на переднем крае технологических достижений и предлагается по конкурентоспособной цене. Добро пожаловать, чтобы проконсультироваться с нами.

Моделирование KinTek MPCVD
Моделирование KinTek MPCVD

Рабочая обработка

Машина MPCVD регулирует расход каждого газового тракта и давление в полости при введении газов-реагентов (таких как CH4, H2, Ar, O2, N2 и т. д.) в полость под определенным давлением. После стабилизации воздушного потока твердотельный микроволновый генератор мощностью 6 кВт генерирует микроволны, которые затем вводятся в полость через волновод.

Реакционный газ переходит в плазменное состояние под действием микроволнового поля, образуя плазменный шар, парящий над алмазной подложкой. Высокая температура плазмы нагревает подложку до определенной температуры. Избыточное тепло, образующееся в полости, отводится блоком водяного охлаждения.

Чтобы обеспечить оптимальные условия роста в процессе выращивания монокристаллического алмаза методом MPCVD, мы корректируем такие факторы, как мощность, состав источника газа и давление в полости. Кроме того, поскольку плазменный шар не соприкасается со стенкой полости, в процессе роста алмаза отсутствуют примеси, что повышает качество алмаза.

Детали и детали

Микроволновая система

Микроволновая система

Реакционная камера

Реакционная камера

Система подачи газа

Система подачи газа

Вакуумная и сенсорная система

Вакуумная и сенсорная система

Технические характеристики

Микроволновая система
  • Частота микроволн 2450 ± 15 МГц,
  • Выходная мощность 1 ~ 10 кВт с плавной регулировкой
  • Стабильность выходной мощности микроволн: <±1%
  • Микроволновая утечка ≤2 МВт/см2
  • Интерфейс выходного волновода: WR340, 430 со стандартным фланцем FD-340, 430
  • Поток охлаждающей воды: 6-12 л/мин
  • Коэффициент стоячей волны системы: КСВ ≤ 1,5
  • Микроволновый ручной 3-контактный регулятор, полость возбуждения, мощная нагрузка
  • Входное питание: 380 В переменного тока/50 Гц ± 10%, трехфазное
Реакционная камера
  • Скорость вакуумной утечки <5 × 10-9 Па м3/с
  • Предельное давление менее 0,7 Па (стандартная установка с вакуумметром Пирани)
  • Повышение давления в камере не должно превышать 50 Па после 12 часов поддержания давления.
  • Режим работы реакционной камеры: режим TM021 или TM023
  • Тип полости: резонансная полость в виде бабочки, с максимальной несущей способностью 10 кВт, изготовленная из нержавеющей стали 304, с промежуточным слоем с водяным охлаждением и методом уплотнения кварцевой пластины высокой чистоты.
  • Режим забора воздуха: Верхний кольцевой равномерный забор воздуха
  • Вакуумное уплотнение: нижнее соединение основной камеры и дверцы впрыска уплотнены резиновыми кольцами, вакуумный насос и сильфон уплотнены KF, кварцевая пластина уплотнена металлическим C-образным кольцом, а остальные уплотнены CF.
  • Окно наблюдения и измерения температуры: 4 окна наблюдения
  • Порт загрузки образца перед камерой
  • Стабильный разряд в диапазоне давлений от 0,7 кПа до 30 кПа (давление мощности должно соответствовать)
Держатель образца
  • Диаметр стола для образцов ≥ 70 мм, полезная площадь ≥ 64 мм.
  • Платформа опорной плиты сэндвич-структура с водяным охлаждением
  • Держатель образца можно поднимать и опускать равномерно в полости с помощью электропривода.
Система подачи газа
  • Все металлические сварочные воздушные диски
  • Для всех внутренних газовых контуров оборудования должны использоваться соединения сваркой или VCR.
  • 5-канальный расходомер MFC, H2/CH4/O2/N/Ar. H2: 1000 см3/мин; CH4: 100 см3/мин; O2: 2 см3/мин; N2: 2 см3/мин; Ar: 10 см3
  • Рабочий пресс 0,05-0,3МПа, точность ±2%
  • Независимое управление пневматическим клапаном для каждого расходомера канала
Система охлаждения
  • 3 линии водяного охлаждения, мониторинг температуры и расхода в режиме реального времени.
  • Расход охлаждающей воды системы составляет ≤ 50 л/мин.
  • Давление охлаждающей воды составляет <4 кг, а температура воды на входе составляет 20-25 ℃.
Датчик температуры
  • Внешний инфракрасный термометр имеет диапазон температур 300-1400 ℃
  • Точность контроля температуры < 2 ℃ или 2%
Система контроля
  • Siemens smart 200 PLC и управление сенсорным экраном приняты.
  • Система имеет множество программ, которые могут реализовать автоматический баланс температуры роста, точный контроль давления воздуха роста, автоматическое повышение температуры, автоматическое снижение температуры и другие функции.
  • Стабильная работа оборудования и всесторонняя защита оборудования могут быть обеспечены за счет контроля расхода воды, температуры, давления и других параметров, а надежность и безопасность работы - за счет функциональной блокировки.
Дополнительная функция
  • Система мониторинга центра
  • Базовая мощность подложки

Предупреждения

Безопасность оператора – первостепенная задача! Пожалуйста, используйте оборудование с осторожностью. Работа с легковоспламеняющимися, взрывоопасными или токсичными газами очень опасна, операторы должны принять все необходимые меры предосторожности перед запуском оборудования. Работа с избыточным давлением внутри реакторов или камер опасна, оператор должен строго соблюдать технику безопасности. Следует также соблюдать особую осторожность при работе с материалами, реагирующими с воздухом, особенно в условиях вакуума. Утечка может привести к попаданию воздуха в аппарат и вызвать бурную реакцию.

Создан для вас

KinTek предоставляет специализированные услуги и оборудование для клиентов по всему миру, наша специализированная командная работа и богатый опыт инженеров способны выполнить индивидуальные требования к аппаратному и программному оборудованию, а также помочь нашим клиентам создать эксклюзивное и индивидуальное оборудование и решение!

Не могли бы вы поделиться своими идеями с нами, наши инженеры готовы для вас прямо сейчас!

FAQ

Что такое алмазный станок CVD?

Алмазный станок CVD — это устройство, используемое для производства синтетических алмазов с помощью процесса, называемого химическим осаждением из паровой фазы (CVD). Этот процесс включает осаждение химических паров для создания алмаза, свойства которого эквивалентны природным алмазам. Алмазные CVD-алмазные станки, в том числе термические CVD-филаменты, плазменные CVD-технологии, CVD-пламенные CVD-алмазы и т. д. Полученные CVD-алмазы используются в производстве режущих инструментов благодаря их высокой твердости и длительному сроку службы, что делает их важным и экономичный инструмент для резки цветных металлов.

Какие типы машин для выращивания алмазов доступны?

Для выращивания искусственных алмазов доступно несколько машин, в том числе CVD с горячей нитью, CVD с плазмой постоянного тока в плазме, химическое осаждение из паровой фазы с усилением микроволновой плазмы (MPCVD) и CVD с микроплазмой (MPCVD). Среди них MPCVD широко используется из-за его однородного нагрева микроволновой печью. Кроме того, скорость роста алмаза можно увеличить за счет увеличения плотности плазмы, а для повышения скорости роста алмаза можно добавить азот. Для получения плоской поверхности могут использоваться различные методы полировки, в том числе механическая и химико-механическая полировка. Рост алмаза большого размера может быть достигнут за счет мозаичного роста или гетероэпитаксиального роста.

Каковы преимущества выращенных в лаборатории бриллиантов?

Преимущества выращенных в лаборатории бриллиантов включают в себя знание их происхождения, более низкую цену, более безвредное для окружающей среды и возможность более легкого создания цветных бриллиантов. Выращенные в лаборатории бриллианты почти на 100% уверены в своем происхождении, что делает их свободными от конфликтов, эксплуатации детей или войн. Они также как минимум на 20% дешевле природных бриллиантов того же размера, чистоты и огранки. Алмазы, выращенные в лаборатории, более экологичны, поскольку не требуют добычи и требуют меньшего воздействия на окружающую среду. Наконец, синтетические цветные бриллианты легче производить в широком диапазоне цветов, и они значительно дешевле по цене.

Каков основной принцип ССЗ?

Основной принцип химического осаждения из паровой фазы (CVD) заключается в воздействии на подложку одного или нескольких летучих прекурсоров, которые вступают в реакцию или разлагаются на ее поверхности, образуя тонкопленочный осадок. Этот процесс можно использовать для различных применений, таких как создание рисунка на пленках, изоляционных материалах и проводящих металлических слоях. CVD — универсальный процесс, с помощью которого можно синтезировать покрытия, порошки, волокна, нанотрубки и монолитные компоненты. Он также способен производить большинство металлов и металлических сплавов и их соединений, полупроводников и неметаллических систем. Осаждение твердого вещества на нагретой поверхности в результате химической реакции в паровой фазе характеризует процесс CVD.

Какова цена машины для выращивания CVD?

Цена машины для выращивания CVD может широко варьироваться в зависимости от размера и сложности устройства. Небольшие настольные модели, предназначенные для исследований и разработок, могут стоить около 50 000 долларов, тогда как машины промышленного масштаба, способные производить большое количество высококачественных бриллиантов, могут стоить более 200 000 долларов. Однако цена на бриллианты, полученные методом CVD, как правило, ниже, чем на добытые бриллианты, что делает их более доступными для потребителей.

Какие существуют типы метода CVD?

Различные типы методов CVD включают CVD при атмосферном давлении (APCVD), CVD при низком давлении (LPCVD), CVD в сверхвысоком вакууме, CVD с использованием аэрозолей, CVD с прямым впрыском жидкости, CVD с горячей стенкой, CVD с холодной стенкой, CVD с микроволновой плазмой, плазмо- улучшенное CVD (PECVD), удаленное CVD с усилением плазмы, низкоэнергетическое CVD с усилением плазмы, CVD атомного слоя, CVD горения и CVD горячей нити. Эти методы различаются механизмом запуска химических реакций и условиями проведения.
Посмотреть больше часто задаваемых вопросов по этому продукту

4.7

out of

5

The speed of delivery was great, and the equipment arrived in perfect condition. It's been a pleasure working with KINTEK SOLUTION.

Arvid Gustaffson

4.8

out of

5

The value for money is unbeatable. KINTEK SOLUTION provides high-quality equipment at a reasonable price.

Bjarke Jensen

4.9

out of

5

The quality of the equipment is top-notch. It's clear that KINTEK SOLUTION uses only the best materials and construction methods.

Carina Petersen

4.9

out of

5

The durability of the equipment is exceptional. It's built to last and withstand the rigors of daily use in a lab setting.

Ditlev Rasmussen

4.8

out of

5

The technological advancement of the equipment is impressive. KINTEK SOLUTION is always at the forefront of innovation, providing cutting-edge solutions.

Emil Mortensen

4.7

out of

5

The speed of delivery was exceptional. The equipment arrived well before the estimated delivery date.

Freja Olsen

4.9

out of

5

The value for money is outstanding. The equipment is worth every penny, and it's clear that KINTEK SOLUTION cares about providing customers with a great deal.

Gabriel Nielsen

4.8

out of

5

The quality of the equipment is superb. It's evident that KINTEK SOLUTION uses only the highest quality materials and construction methods.

Helle Pedersen

4.7

out of

5

The durability of the equipment is remarkable. It's built to withstand the rigors of daily use in a lab setting and shows no signs of wear or tear.

Ida Jensen

4.9

out of

5

The technological advancement of the equipment is groundbreaking. KINTEK SOLUTION is always pushing the boundaries of innovation, and their equipment is a testament to their commitment to excellence.

Jens Hansen

4.8

out of

5

The speed of delivery was lightning fast. The equipment arrived within days of placing the order, which was incredibly convenient.

Karen Andersen

4.9

out of

5

The value for money is exceptional. The equipment is incredibly affordable, especially considering the high quality and advanced features it offers.

Lars Petersen

4.7

out of

5

The quality of the equipment is impeccable. It's clear that KINTEK SOLUTION takes pride in their craftsmanship, and the equipment is built to the highest standards.

Mette Rasmussen

4.8

out of

5

The durability of the equipment is outstanding. It's built to last, and I'm confident that it will provide years of reliable service.

Nils Olsen

4.9

out of

5

The technological advancement of the equipment is awe-inspiring. KINTEK SOLUTION is at the forefront of innovation, and their equipment is a testament to their commitment to pushing the boundaries of technology.

Ole Jensen

4.8

out of

5

The speed of delivery was commendable. The equipment arrived within the promised timeframe, which allowed us to start using it right away.

Pernille Hansen

4.9

out of

5

The value for money is unbeatable. The equipment is incredibly affordable, especially considering the advanced features and high quality it offers.

Rasmus Petersen

4.7

out of

5

The quality of the equipment is exceptional. It's clear that KINTEK SOLUTION uses only the best materials and construction methods, resulting in a durable and reliable product.

Sofie Olsen

4.8

out of

5

The durability of the equipment is impressive. It's built to withstand the rigors of daily use in a lab setting, and I'm confident that it will last for many years to come.

Thomas Jensen

4.9

out of

5

The technological advancement of the equipment is remarkable. KINTEK SOLUTION is constantly innovating and pushing the boundaries of technology, and their equipment is a testament to their commitment to excellence.

Ulla Hansen

PDF - Колокольный резонатор MPCVD Машина для лаборатории и выращивания алмазов

Скачать

Каталог Пдквд

Скачать

Каталог Cvd Алмазная Машина

Скачать

Каталог Выращенный В Лаборатории Алмазный Станок

Скачать

Каталог Cvd-Машина

Скачать

ЗАПРОС ЦИТАТЫ

Наша профессиональная команда ответит вам в течение одного рабочего дня. Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!

Связанные товары

Трубчатая печь CVD с разделенной камерой и вакуумной станцией CVD машины

Трубчатая печь CVD с разделенной камерой и вакуумной станцией CVD машины

Эффективная двухкамерная CVD-печь с вакуумной станцией для интуитивной проверки образцов и быстрого охлаждения. Максимальная температура до 1200℃ с точным управлением с помощью массового расходомера MFC.

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

RF-PECVD - это аббревиатура от "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". С его помощью на германиевые и кремниевые подложки наносится пленка DLC (алмазоподобного углерода). Он используется в инфракрасном диапазоне длин волн 3-12um.

Наклонная ротационная машина для трубчатой печи с плазменным осаждением (PECVD)

Наклонная ротационная машина для трубчатой печи с плазменным осаждением (PECVD)

Представляем нашу наклонную вращающуюся печь PECVD для точного осаждения тонких пленок. Наслаждайтесь автоматическим согласованием источника, программируемым ПИД-регулятором температуры и высокоточным управлением массовым расходомером MFC. Встроенные функции безопасности для вашего спокойствия.

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Фильера для нанесения наноалмазного композитного покрытия использует цементированный карбид (WC-Co) в качестве подложки, а для нанесения обычного алмаза и наноалмазного композитного покрытия на поверхность внутреннего отверстия пресс-формы используется метод химической паровой фазы (сокращенно CVD-метод).

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Усовершенствуйте свой процесс нанесения покрытий с помощью оборудования для нанесения покрытий методом PECVD. Идеально подходит для производства светодиодов, силовых полупроводников, МЭМС и многого другого. Осаждает высококачественные твердые пленки при низких температурах.

5 л перегонки по короткому пути

5 л перегонки по короткому пути

Испытайте эффективную и высококачественную перегонку 5 л с коротким путем с нашей прочной посудой из боросиликатного стекла, быстро нагревающейся колбой и тонким подгоночным устройством. С легкостью извлекайте и очищайте целевые смешанные жидкости в условиях высокого вакуума. Узнайте больше о его преимуществах прямо сейчас!

20 л перегонки по короткому пути

20 л перегонки по короткому пути

Эффективно извлекайте и очищайте смешанные жидкости с помощью нашей 20-литровой системы дистилляции с коротким путем. Высокий вакуум и низкотемпературный нагрев для оптимальных результатов.

Вакуумная индукционная плавильная прядильная система Дуговая плавильная печь

Вакуумная индукционная плавильная прядильная система Дуговая плавильная печь

С легкостью создавайте метастабильные материалы с помощью нашей системы вакуумного прядения расплава. Идеально подходит для исследований и экспериментальных работ с аморфными и микрокристаллическими материалами. Закажите сейчас для эффективных результатов.

Связанные статьи

Как получить монокристаллический алмаз высокого качества с помощью MPCVD

Как получить монокристаллический алмаз высокого качества с помощью MPCVD

Микроволновое плазмохимическое осаждение из газовой фазы (MPCVD) является популярным методом получения высококачественных монокристаллов алмаза.

Узнать больше
Процесс изготовления CVD-алмаза на машине MPCVD

Процесс изготовления CVD-алмаза на машине MPCVD

Алмазные станки CVD приобрели большое значение в различных отраслях промышленности и научных исследованиях.

Узнать больше
Достижения в системах MPCVD для монокристаллических алмазов большого размера

Достижения в системах MPCVD для монокристаллических алмазов большого размера

Достижения в системах MPCVD позволили производить более крупные и высококачественные монокристаллические алмазы, предлагая многообещающий потенциал для будущих применений.

Узнать больше
Печь CVD для выращивания углеродных нанотрубок

Печь CVD для выращивания углеродных нанотрубок

Технология печи химического осаждения из паровой фазы (CVD) является широко используемым методом выращивания углеродных нанотрубок.

Узнать больше
Химическое осаждение из паровой фазы с расширенной плазмой (PECVD): Исчерпывающее руководство

Химическое осаждение из паровой фазы с расширенной плазмой (PECVD): Исчерпывающее руководство

Узнайте все, что вам нужно знать о плазменном химическом осаждении из паровой фазы (PECVD) - технологии осаждения тонких пленок, используемой в полупроводниковой промышленности. Изучите ее принципы, области применения и преимущества.

Узнать больше
Понимание PECVD: руководство по химическому осаждению из паровой фазы с плазменным усилением

Понимание PECVD: руководство по химическому осаждению из паровой фазы с плазменным усилением

PECVD — полезный метод для создания тонкопленочных покрытий, поскольку он позволяет наносить самые разные материалы, включая оксиды, нитриды и карбиды.

Узнать больше
Введение в химическое осаждение из паровой фазы (CVD)

Введение в химическое осаждение из паровой фазы (CVD)

Химическое осаждение из паровой фазы, или CVD, представляет собой процесс нанесения покрытия, который включает использование газообразных реагентов для получения тонких пленок и покрытий высокого качества.

Узнать больше
CVD-машины для нанесения тонких пленок

CVD-машины для нанесения тонких пленок

Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) — широко используемый метод осаждения тонких пленок на различные подложки.

Узнать больше
Комплексное руководство по MPCVD: синтез алмазов и их применение

Комплексное руководство по MPCVD: синтез алмазов и их применение

Изучите основы, преимущества и применение микроволнового плазменного химического осаждения из паровой фазы (MPCVD) в синтезе алмазов. Узнайте о его уникальных возможностях и о его сравнении с другими методами выращивания алмазов.

Узнать больше
Руководство для начинающих по машинам MPCVD

Руководство для начинающих по машинам MPCVD

MPCVD (микроволновое плазменное химическое осаждение из паровой фазы) — это процесс, используемый для осаждения тонких пленок материала на подложку с использованием плазмы, генерируемой микроволнами.

Узнать больше
Преимущества и недостатки химического осаждения из паровой фазы (CVD)

Преимущества и недостатки химического осаждения из паровой фазы (CVD)

Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) - это универсальный метод осаждения тонких пленок, широко используемый в различных отраслях промышленности. Изучите ее преимущества, недостатки и потенциальные новые применения.

Узнать больше
Печь PECVD Маломощное и низкотемпературное решение для мягких материалов

Печь PECVD Маломощное и низкотемпературное решение для мягких материалов

Печи PECVD (химическое осаждение из паровой фазы с плазменным усилением) стали популярным решением для осаждения тонких пленок на поверхности мягких материалов.

Узнать больше