Продукты Тепловое оборудование ПДКВД Колокольный резонатор MPCVD Машина для лаборатории и выращивания алмазов
Категории
Категории

Ярлык

Общайтесь с нами для быстрого и прямого общения.

Немедленный ответ в рабочие дни (в течение 8 часов в праздничные дни)

Колокольный резонатор MPCVD Машина для лаборатории и выращивания алмазов

ПДКВД

Колокольный резонатор MPCVD Машина для лаборатории и выращивания алмазов

Артикул : KTMP315

Цена может варьироваться в зависимости от спецификации и настройки


Мощность микроволн
Частота микроволн 2450 ± 15 МГц
Выходная мощность
1 ~ 10 кВт с плавной регулировкой
Утечка микроволн
≤2 МВт/см2
Выходной волноводный интерфейс
WR340, 430 со стандартным фланцем FD-340, 430
Держатель образца
Диаметр стола для образцов ≥ 70 мм, полезная площадь ≥ 64 мм.
ISO & CE icon

Доставка:

Свяжитесь с нами чтобы получить подробности о доставке. Наслаждайтесь Гарантия своевременной отправки.

MPCVD означает микроволновое плазменное химическое осаждение из паровой фазы. Компания выращивает качественные алмазные пленки в лабораториях с использованием углекислого газа и микроволновой плазмы.

Система MPCVD

MPCVD представляет собой систему для нанесения тонких пленок на подложку с использованием вакуумной камеры, микроволнового генератора и системы подачи газа. Плазма генерируется внутри камеры магнетроном или клистроном, генерирующим микроволны на частоте 2,45 ГГц. Система подачи газа имеет MFC, откалиброванные в станд. куб. сантиметрах в минуту, для управления потоком газа. Температура подложки контролируется плазмой и измеряется термопарой. Плазма нагревает подложку, и во время осаждения контролируется температура.

Приложения

Технология MPCVD показывает перспективы производства крупных высококачественных алмазов по низкой цене.

Уникальные свойства алмаза, такие как твердость, жесткость, высокая теплопроводность, низкое тепловое расширение, радиационная стойкость и химическая инертность, делают его ценным материалом. Однако высокая стоимость, ограниченный размер и трудности контроля примесей в природных и синтетических алмазах высокого давления и высоких температур ограничивают их применение.

MPCVD является основным оборудованием для выращивания алмазных драгоценных камней и пленок, которые могут быть как монокристаллическими, так и поликристаллическими. Полупроводниковая промышленность широко использует выращивание алмазной пленки для крупноразмерных алмазных подложек, а также в производстве алмазных режущих или буровых инструментов.

По сравнению с методом HPHT для выращивания алмазов, выращенных в лаборатории, микроволновый метод CVD более выгоден для выращивания крупных алмазов при меньших затратах, что делает его идеальным решением для полупроводниковых алмазов, выращивания оптических алмазов и крупных ювелирных алмазов.

Необработанные алмазы, выращенные методом MPCVD
Необработанные алмазы, выращенные методом MPCVD
В KinTek MPCVD Machine растут алмазы
В KinTek MPCVD Machine растут алмазы
В KinTek MPCVD Machine растут алмазы
В KinTek MPCVD Machine растут алмазы
В KinTek MPCVD Machine растут алмазы
В KinTek MPCVD Machine растут алмазы
В KinTek MPCVD Machine растут алмазы
В KinTek MPCVD Machine растут алмазы
В KinTek MPCVD Machine растут алмазы
В KinTek MPCVD Machine растут алмазы
В KinTek MPCVD Machine растут алмазы
В KinTek MPCVD Machine растут алмазы
В KinTek MPCVD Machine растут алмазы
В KinTek MPCVD Machine растут алмазы
Алмаз, выращенный на установке KINTEK MPCVD
Алмаз, выращенный на установке KINTEK MPCVD
Алмаз, выращенный на установке KINTEK MPCVD
Алмаз, выращенный на установке KINTEK MPCVD
Алмаз, выращенный на установке KINTEK MPCVD
Алмаз, выращенный на установке KINTEK MPCVD
Алмазы, выращенные методом MPCVD, после полировки
Алмазы, выращенные методом MPCVD, после полировки
Поликристаллический от KinTek MPCVD
Поликристаллический от KinTek MPCVD

Преимущества MPCVD

MPCVD — это метод синтеза алмазов, обладающий преимуществами по сравнению с HFCVD и DC-PJ CVD. Это позволяет избежать загрязнения и позволяет использовать несколько газов. Он обеспечивает плавную регулировку мощности микроволн и стабильный контроль температуры, что позволяет избежать потери затравочных кристаллов. MPCVD перспективен для промышленных применений из-за большой стабильной площади плазмы.

MPCVD производит более чистые алмазы, используя меньше энергии, чем HPHT. Это также позволяет производить более крупные алмазы.

Преимущества нашей системы MPCVD

Мы глубоко вовлечены в эту отрасль в течение многих лет, и в результате у нас есть обширная клиентская база, которая доверяет нашему оборудованию и использует его. Наше оборудование MPCVD стабильно работает более 40 000 часов, демонстрируя исключительную стабильность, надежность, воспроизводимость и экономичность. Другие преимущества нашей системы MPCVD включают:

  • Площадь выращивания субстрата 3 дюйма, макс. пакетная загрузка до 45 штук бриллиантов
  • 1-10 кВт регулируемая выходная мощность микроволн для меньшего потребления электроэнергии
  • Богатая опытная команда исследователей с передовой поддержкой рецептов выращивания алмазов
  • Эксклюзивная программа технической поддержки для команды специалистов по выращиванию алмазов Zero

Используя наши накопленные передовые технологии, мы внедрили несколько циклов модернизации и усовершенствований нашей системы MPCVD, что привело к значительному повышению эффективности и снижению затрат на оборудование. В результате наше оборудование MPCVD находится на переднем крае технологических достижений и предлагается по конкурентоспособной цене. Добро пожаловать, чтобы проконсультироваться с нами.

Моделирование KinTek MPCVD
Моделирование KinTek MPCVD

Рабочая обработка

Машина MPCVD регулирует расход каждого газового тракта и давление в полости при введении газов-реагентов (таких как CH4, H2, Ar, O2, N2 и т. д.) в полость под определенным давлением. После стабилизации воздушного потока твердотельный микроволновый генератор мощностью 6 кВт генерирует микроволны, которые затем вводятся в полость через волновод.

Реакционный газ переходит в плазменное состояние под действием микроволнового поля, образуя плазменный шар, парящий над алмазной подложкой. Высокая температура плазмы нагревает подложку до определенной температуры. Избыточное тепло, образующееся в полости, отводится блоком водяного охлаждения.

Чтобы обеспечить оптимальные условия роста в процессе выращивания монокристаллического алмаза методом MPCVD, мы корректируем такие факторы, как мощность, состав источника газа и давление в полости. Кроме того, поскольку плазменный шар не соприкасается со стенкой полости, в процессе роста алмаза отсутствуют примеси, что повышает качество алмаза.

Детали и детали

Микроволновая система

Микроволновая система

Реакционная камера

Реакционная камера

Система подачи газа

Система подачи газа

Вакуумная и сенсорная система

Вакуумная и сенсорная система

Технические характеристики

Микроволновая система
  • Частота микроволн 2450 ± 15 МГц,
  • Выходная мощность 1 ~ 10 кВт с плавной регулировкой
  • Стабильность выходной мощности микроволн: <±1%
  • Микроволновая утечка ≤2 МВт/см2
  • Интерфейс выходного волновода: WR340, 430 со стандартным фланцем FD-340, 430
  • Поток охлаждающей воды: 6-12 л/мин
  • Коэффициент стоячей волны системы: КСВ ≤ 1,5
  • Микроволновый ручной 3-контактный регулятор, полость возбуждения, мощная нагрузка
  • Входное питание: 380 В переменного тока/50 Гц ± 10%, трехфазное
Реакционная камера
  • Скорость вакуумной утечки <5 × 10-9 Па м3/с
  • Предельное давление менее 0,7 Па (стандартная установка с вакуумметром Пирани)
  • Повышение давления в камере не должно превышать 50 Па после 12 часов поддержания давления.
  • Режим работы реакционной камеры: режим TM021 или TM023
  • Тип полости: резонансная полость в виде бабочки, с максимальной несущей способностью 10 кВт, изготовленная из нержавеющей стали 304, с промежуточным слоем с водяным охлаждением и методом уплотнения кварцевой пластины высокой чистоты.
  • Режим забора воздуха: Верхний кольцевой равномерный забор воздуха
  • Вакуумное уплотнение: нижнее соединение основной камеры и дверцы впрыска уплотнены резиновыми кольцами, вакуумный насос и сильфон уплотнены KF, кварцевая пластина уплотнена металлическим C-образным кольцом, а остальные уплотнены CF.
  • Окно наблюдения и измерения температуры: 4 окна наблюдения
  • Порт загрузки образца перед камерой
  • Стабильный разряд в диапазоне давлений от 0,7 кПа до 30 кПа (давление мощности должно соответствовать)
Держатель образца
  • Диаметр стола для образцов ≥ 70 мм, полезная площадь ≥ 64 мм.
  • Платформа опорной плиты сэндвич-структура с водяным охлаждением
  • Держатель образца можно поднимать и опускать равномерно в полости с помощью электропривода.
Система подачи газа
  • Все металлические сварочные воздушные диски
  • Для всех внутренних газовых контуров оборудования должны использоваться соединения сваркой или VCR.
  • 5-канальный расходомер MFC, H2/CH4/O2/N/Ar. H2: 1000 см3/мин; CH4: 100 см3/мин; O2: 2 см3/мин; N2: 2 см3/мин; Ar: 10 см3
  • Рабочий пресс 0,05-0,3МПа, точность ±2%
  • Независимое управление пневматическим клапаном для каждого расходомера канала
Система охлаждения
  • 3 линии водяного охлаждения, мониторинг температуры и расхода в режиме реального времени.
  • Расход охлаждающей воды системы составляет ≤ 50 л/мин.
  • Давление охлаждающей воды составляет <4 кг, а температура воды на входе составляет 20-25 ℃.
Датчик температуры
  • Внешний инфракрасный термометр имеет диапазон температур 300-1400 ℃
  • Точность контроля температуры < 2 ℃ или 2%
Система контроля
  • Siemens smart 200 PLC и управление сенсорным экраном приняты.
  • Система имеет множество программ, которые могут реализовать автоматический баланс температуры роста, точный контроль давления воздуха роста, автоматическое повышение температуры, автоматическое снижение температуры и другие функции.
  • Стабильная работа оборудования и всесторонняя защита оборудования могут быть обеспечены за счет контроля расхода воды, температуры, давления и других параметров, а надежность и безопасность работы - за счет функциональной блокировки.
Дополнительная функция
  • Система мониторинга центра
  • Базовая мощность подложки

Предупреждения

Безопасность оператора – первостепенная задача! Пожалуйста, используйте оборудование с осторожностью. Работа с легковоспламеняющимися, взрывоопасными или токсичными газами очень опасна, операторы должны принять все необходимые меры предосторожности перед запуском оборудования. Работа с избыточным давлением внутри реакторов или камер опасна, оператор должен строго соблюдать технику безопасности. Следует также соблюдать особую осторожность при работе с материалами, реагирующими с воздухом, особенно в условиях вакуума. Утечка может привести к попаданию воздуха в аппарат и вызвать бурную реакцию.

Создан для вас

KinTek предоставляет специализированные услуги и оборудование для клиентов по всему миру, наша специализированная командная работа и богатый опыт инженеров способны выполнить индивидуальные требования к аппаратному и программному оборудованию, а также помочь нашим клиентам создать эксклюзивное и индивидуальное оборудование и решение!

Не могли бы вы поделиться своими идеями с нами, наши инженеры готовы для вас прямо сейчас!

FAQ

Какие материалы может резать алмазная машина?

Алмазные отрезные станки предназначены для резки различных материалов, включая керамику, кристаллы, стекло, металлы, горные породы, термоэлектрические материалы, инфракрасные оптические материалы, композитные материалы и биомедицинские материалы. Они особенно эффективны для резки хрупких материалов с высокой точностью.

Что такое печь CVD?

Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) — это технология, в которой используются различные источники энергии, такие как нагрев, возбуждение плазмы или световое излучение, для химической реакции газообразных или парообразных химических веществ на газовой фазе или на границе газ-твердое тело с образованием твердых отложений в реакторе с помощью химическая реакция. Проще говоря, два или более газообразных сырья вводятся в реакционную камеру, а затем они реагируют друг с другом с образованием нового материала и его осаждением на поверхности подложки.

Печь CVD представляет собой комбинированную систему печей с высокотемпературной трубчатой печью, блоком управления газами и вакуумным блоком, она широко используется для экспериментов и производства композитных материалов, процессов микроэлектроники, полупроводниковой оптоэлектроники, использования солнечной энергии, оптоволоконной связи, сверхпроводников. технология, поле защитного покрытия.

Что такое CVD (химическое осаждение из паровой фазы) и каковы его основные преимущества?

CVD, или химическое осаждение из паровой фазы, - это процесс, при котором материалы осаждаются на подложку из паровой фазы. К основным преимуществам процесса относятся возможность нанесения покрытий на поверхности с ограниченным доступом, широкий спектр материалов для покрытий (металлы, сплавы и керамика), очень низкий уровень пористости, высокая чистота и экономичность производства при больших партиях.

Что такое метод PECVD?

PECVD (химическое осаждение из паровой фазы с плазменным усилением) — это процесс, используемый в производстве полупроводников для нанесения тонких пленок на микроэлектронные устройства, фотогальванические элементы и панели дисплеев. В PECVD прекурсор вводится в реакционную камеру в газообразном состоянии, и с помощью плазменных реакционноспособных сред прекурсор диссоциирует при гораздо более низких температурах, чем при CVD. Системы PECVD обеспечивают превосходную однородность пленки, низкотемпературную обработку и высокую производительность. Они используются в самых разных областях и будут играть все более важную роль в полупроводниковой промышленности, поскольку спрос на передовые электронные устройства продолжает расти.

Что такое алмазный станок CVD?

Алмазный станок CVD — это устройство, используемое для производства синтетических алмазов с помощью процесса, называемого химическим осаждением из паровой фазы (CVD). Этот процесс включает осаждение химических паров для создания алмаза, свойства которого эквивалентны природным алмазам. Алмазные CVD-алмазные станки, в том числе термические CVD-филаменты, плазменные CVD-технологии, CVD-пламенные CVD-алмазы и т. д. Полученные CVD-алмазы используются в производстве режущих инструментов благодаря их высокой твердости и длительному сроку службы, что делает их важным и экономичный инструмент для резки цветных металлов.

Какие типы машин для выращивания алмазов доступны?

Для выращивания искусственных алмазов доступно несколько машин, в том числе CVD с горячей нитью, CVD с плазмой постоянного тока в плазме, химическое осаждение из паровой фазы с усилением микроволновой плазмы (MPCVD) и CVD с микроплазмой (MPCVD). Среди них MPCVD широко используется из-за его однородного нагрева микроволновой печью. Кроме того, скорость роста алмаза можно увеличить за счет увеличения плотности плазмы, а для повышения скорости роста алмаза можно добавить азот. Для получения плоской поверхности могут использоваться различные методы полировки, в том числе механическая и химико-механическая полировка. Рост алмаза большого размера может быть достигнут за счет мозаичного роста или гетероэпитаксиального роста.

Что такое МпкВД?

MPCVD расшифровывается как Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition и представляет собой процесс осаждения тонких пленок на поверхность. Он использует вакуумную камеру, микроволновый генератор и систему подачи газа для создания плазмы, состоящей из реагирующих химических веществ и необходимых катализаторов. MPCVD широко используется в сети ANFF для осаждения слоев алмаза с использованием метана и водорода для выращивания нового алмаза на подложке с алмазными затравками. Это многообещающая технология производства недорогих высококачественных крупных алмазов, которая широко используется в полупроводниковой и алмазообрабатывающей промышленности.

Что такое RF PECVD?

RF PECVD означает радиочастотное плазменное химическое осаждение из паровой фазы, которое представляет собой метод, используемый для приготовления поликристаллических пленок на подложке с использованием плазмы тлеющего разряда для воздействия на процесс во время химического осаждения из паровой фазы при низком давлении. Метод RF PECVD хорошо зарекомендовал себя для стандартной технологии кремниевых интегральных схем, где в качестве подложек обычно используются плоские пластины. Преимущество этого метода заключается в возможности дешевого изготовления пленки и высокой эффективности осаждения. Материалы также могут быть нанесены в виде пленок с переменным показателем преломления или в виде стопки нанопленок, каждая из которых имеет разные свойства.

По какому принципу работает алмазный отрезной станок?

В машинах для алмазной резки используется механизм непрерывной резки алмазным канатом. Этот механизм обеспечивает точную резку материалов, перемещая алмазную проволоку вниз с постоянной скоростью, в то время как материал закреплен на рабочем столе. Кроме того, станок может поворачивать верстак на 360 градусов для получения различных углов резки.

Какие методы используются для нанесения тонких пленок?

Двумя основными методами, используемыми для нанесения тонких пленок, являются химическое осаждение из паровой фазы (CVD) и физическое осаждение из паровой фазы (PVD). CVD включает введение газов-реагентов в камеру, где они реагируют на поверхности пластины с образованием твердой пленки. PVD не включает химических реакций; вместо этого внутри камеры создаются пары составляющих материалов, которые затем конденсируются на поверхности пластины, образуя твердую пленку. Общие типы PVD включают осаждение испарением и осаждение распылением. Существует три типа методов напыления: термическое испарение, электронно-лучевое испарение и индуктивный нагрев.

Как работает печь CVD?

Печь CVD состоит из блока высокотемпературной трубчатой печи, блока точного управления источником реагирующего газа, вакуумной насосной станции и соответствующих сборочных частей.

Вакуумный насос предназначен для удаления воздуха из реакционной трубы и обеспечения отсутствия нежелательных газов внутри реакционной трубы, после чего трубчатая печь нагреет реакционную трубу до заданной температуры, после чего блок точного управления источником реакционного газа может вводить различные газы с заданным соотношением в трубку печи для химической реакции, химическое осаждение из паровой фазы будет образовываться в печи CVD.

Каковы некоторые распространенные области применения материалов CVD?

Материалы CVD используются в различных областях, таких как режущие инструменты, акустические системы, инструменты для правки, фильеры для волочения проволоки, терморегулирование, электроника, оптика, сенсоры, квантовые технологии и многое другое. Они ценятся за превосходную теплопроводность, долговечность и работоспособность в различных условиях.

Для чего используется PECVD?

PECVD (плазменное химическое осаждение из паровой фазы) широко используется в полупроводниковой промышленности для изготовления интегральных схем, а также в фотоэлектрической, трибологической, оптической и биомедицинской областях. Он используется для осаждения тонких пленок для микроэлектронных устройств, фотогальванических элементов и панелей дисплея. PECVD может производить уникальные соединения и пленки, которые невозможно создать только с помощью обычных методов CVD, а также пленки, демонстрирующие высокую стойкость к растворителям и коррозии, а также химическую и термическую стабильность. Он также используется для производства гомогенных органических и неорганических полимеров на больших поверхностях и алмазоподобного углерода (DLC) для трибологических применений.

Каковы преимущества выращенных в лаборатории бриллиантов?

Преимущества выращенных в лаборатории бриллиантов включают в себя знание их происхождения, более низкую цену, более безвредное для окружающей среды и возможность более легкого создания цветных бриллиантов. Выращенные в лаборатории бриллианты почти на 100% уверены в своем происхождении, что делает их свободными от конфликтов, эксплуатации детей или войн. Они также как минимум на 20% дешевле природных бриллиантов того же размера, чистоты и огранки. Алмазы, выращенные в лаборатории, более экологичны, поскольку не требуют добычи и требуют меньшего воздействия на окружающую среду. Наконец, синтетические цветные бриллианты легче производить в широком диапазоне цветов, и они значительно дешевле по цене.

Что такое машина Mpcvd?

Установка MPCVD (микроволновое плазменно-химическое осаждение из паровой фазы) представляет собой лабораторное оборудование, используемое для выращивания высококачественных алмазных пленок. Он использует углеродсодержащий газ и микроволновую плазму для создания плазменного шара над алмазной подложкой, который нагревает ее до определенной температуры. Плазменный шар не соприкасается со стенкой полости, что делает процесс роста алмаза свободным от примесей и повышает качество алмаза. Система MPVD состоит из вакуумной камеры, микроволнового генератора и системы подачи газа, которая регулирует подачу газа в камеру.

Каков основной принцип ССЗ?

Основной принцип химического осаждения из паровой фазы (CVD) заключается в воздействии на подложку одного или нескольких летучих прекурсоров, которые вступают в реакцию или разлагаются на ее поверхности, образуя тонкопленочный осадок. Этот процесс можно использовать для различных применений, таких как создание рисунка на пленках, изоляционных материалах и проводящих металлических слоях. CVD — универсальный процесс, с помощью которого можно синтезировать покрытия, порошки, волокна, нанотрубки и монолитные компоненты. Он также способен производить большинство металлов и металлических сплавов и их соединений, полупроводников и неметаллических систем. Осаждение твердого вещества на нагретой поверхности в результате химической реакции в паровой фазе характеризует процесс CVD.

PACVD - это PECVD?

Да, PACVD (химическое осаждение из паровой фазы с плазменным усилением) — это еще один термин для PECVD (химическое осаждение из паровой фазы с плазменным усилением). В этом процессе используется энергичная плазма, сформированная в электрическом поле, для активации реакции CVD при более низких температурах, чем при термическом CVD, что делает его идеальным для подложек или осаждаемых пленок с низким тепловым балансом. Варьируя плазму, можно дополнительно контролировать свойства осаждаемой пленки. Большинство процессов PECVD проводятся при низком давлении для стабилизации плазмы разряда.

Каковы преимущества использования алмазной машины для резки?

К преимуществам станков для алмазной резки относятся высокая точность резки, непрерывная работа без ручной регулировки и возможность резки как больших, так и малых образцов с высокой точностью размеров. Кроме того, они оснащены пневматической системой натяжения, обеспечивающей стабильное и надежное усилие натяжения, и системой программного управления PLC, обеспечивающей простое и быстрое управление.

Что такое оборудование для нанесения тонких пленок?

Оборудование для нанесения тонких пленок относится к инструментам и методам, используемым для создания и нанесения тонкопленочных покрытий на материал подложки. Эти покрытия могут быть изготовлены из различных материалов и иметь различные характеристики, которые могут улучшить или изменить характеристики подложки. Физическое осаждение из паровой фазы (PVD) — популярный метод, при котором твердый материал испаряется в вакууме, а затем наносится на подложку. Другие методы включают испарение и распыление. Оборудование для нанесения тонких пленок используется, в частности, в производстве оптоэлектронных устройств, медицинских имплантатов и прецизионной оптики.

Какой газ используется в процессе CVD?

В процессе CVD можно использовать огромные источники газа, общие химические реакции CVD включают пиролиз, фотолиз, восстановление, окисление, окислительно-восстановительный процесс, поэтому газы, участвующие в этих химических реакциях, могут использоваться в процессе CVD.

В качестве примера возьмем выращивание CVD-графена. Газы, используемые в процессе CVD, будут CH4, H2, O2 и N2.

Какие типы материалов CVD доступны?

Существует несколько типов CVD-материалов, включая CVD-алмазные покрытия, CVD-алмазные купола, CVD-алмаз для правки инструментов, CVD-алмазные заготовки для волочения проволоки, CVD-алмазные заготовки для режущих инструментов, CVD-алмаз, легированный бором, CVD-алмаз для терморегулирования и другие. Каждый тип предназначен для конкретных применений.

Каковы преимущества PECVD?

Основными преимуществами PECVD являются его способность работать при более низких температурах осаждения, обеспечивая лучшее соответствие и ступенчатое покрытие на неровных поверхностях, более жесткий контроль процесса тонкопленочного осаждения и высокие скорости осаждения. PECVD позволяет успешно применять его в ситуациях, когда обычные температуры CVD могут потенциально повредить устройство или подложку, на которую наносится покрытие. Работая при более низкой температуре, PECVD создает меньшее напряжение между слоями тонкой пленки, обеспечивая высокоэффективные электрические характеристики и соединение в соответствии с очень высокими стандартами.

Какова цена машины для выращивания CVD?

Цена машины для выращивания CVD может широко варьироваться в зависимости от размера и сложности устройства. Небольшие настольные модели, предназначенные для исследований и разработок, могут стоить около 50 000 долларов, тогда как машины промышленного масштаба, способные производить большое количество высококачественных бриллиантов, могут стоить более 200 000 долларов. Однако цена на бриллианты, полученные методом CVD, как правило, ниже, чем на добытые бриллианты, что делает их более доступными для потребителей.

Каковы преимущества Mpcvd?

MPCVD имеет несколько преимуществ по сравнению с другими методами производства алмазов, таких как более высокая чистота, меньшее потребление энергии и возможность производить более крупные алмазы.

Какие существуют типы метода CVD?

Различные типы методов CVD включают CVD при атмосферном давлении (APCVD), CVD при низком давлении (LPCVD), CVD в сверхвысоком вакууме, CVD с использованием аэрозолей, CVD с прямым впрыском жидкости, CVD с горячей стенкой, CVD с холодной стенкой, CVD с микроволновой плазмой, плазмо- улучшенное CVD (PECVD), удаленное CVD с усилением плазмы, низкоэнергетическое CVD с усилением плазмы, CVD атомного слоя, CVD горения и CVD горячей нити. Эти методы различаются механизмом запуска химических реакций и условиями проведения.

Какие типы машин для алмазной резки существуют?

Существует несколько типов машин для алмазной резки, включая высокоточные машины для резки алмазной проволоки, верстачные алмазные однопроволочные машины для круговой резки и высокоточные автоматические машины для резки алмазной проволоки. Каждый тип предназначен для решения конкретных задач, таких как прецизионная резка сверхтонких пластин или резка различных хрупких кристаллов с высокой твердостью.

Что такое технология тонкопленочного осаждения?

Технология нанесения тонких пленок представляет собой процесс нанесения очень тонкой пленки материала толщиной от нескольких нанометров до 100 микрометров на поверхность подложки или на ранее нанесенные покрытия. Эта технология используется в производстве современной электроники, в том числе полупроводников, оптических устройств, солнечных батарей, компакт-дисков и дисководов. Двумя широкими категориями тонкопленочного осаждения являются химическое осаждение, когда химическое изменение приводит к химическому осаждению покрытия, и физическое осаждение из паровой фазы, когда материал высвобождается из источника и осаждается на подложку с использованием механических, электромеханических или термодинамических процессов.

В чем преимущество системы CVD?

  • При необходимости может быть изготовлен широкий ассортимент пленок: металлическая пленка, неметаллическая пленка и пленка из многокомпонентного сплава. В то же время он позволяет получать качественные кристаллы, которые трудно получить другими методами, такими как GaN, BP и др.
  • Скорость формирования пленки высокая, обычно несколько микрон в минуту или даже сотни микрон в минуту. Возможно одновременное нанесение большого количества однородных по составу покрытий, что несравнимо с другими методами получения пленок, такими как жидкофазная эпитаксия (ЖФЭ) и молекулярно-лучевая эпитаксия (МЛЭ).
  • Рабочие условия выполняются при нормальном давлении или низком вакууме, поэтому покрытие имеет хорошую дифракцию, а детали сложной формы могут быть равномерно покрыты, что намного превосходит PVD.
  • Благодаря взаимной диффузии реакционного газа, продукта реакции и подложки можно получить покрытие с хорошей адгезионной прочностью, что имеет решающее значение для получения пленок с упрочнением поверхности, таких как износостойкие и антикоррозионные пленки.
  • Некоторые пленки растут при температуре намного ниже температуры плавления материала пленки. В условиях низкотемпературного роста реакционный газ и стенки реактора, а также содержащиеся в них примеси практически не вступают в реакцию, поэтому можно получить пленку высокой чистоты и хорошей кристалличности.
  • Химическое осаждение из паровой фазы позволяет получить гладкую поверхность осаждения. Это связано с тем, что по сравнению с LPE химическое осаждение из паровой фазы (CVD) выполняется при высоком насыщении, с высокой скоростью зародышеобразования, высокой плотностью зародышеобразования и однородным распределением по всей плоскости, что приводит к макроскопически гладкой поверхности. В то же время при химическом осаждении из газовой фазы средний свободный пробег молекул (атомов) намного больше, чем при ЖФЭ, поэтому пространственное распределение молекул является более равномерным, что способствует формированию гладкой поверхности осаждения.
  • Низкие радиационные повреждения, что является необходимым условием для изготовления металлооксидных полупроводников (МОП) и других устройств.

Как CVD-алмаз повышает производительность режущих инструментов?

CVD-алмаз улучшает режущие инструменты, обеспечивая превосходную износостойкость, низкое трение и высокую теплопроводность. Это делает их идеальными для обработки цветных материалов, керамики и композитов, обеспечивая более длительный срок службы инструмента и лучшую производительность.

В чем разница между ALD и PECVD?

ALD — это процесс осаждения тонких пленок, который обеспечивает атомарное разрешение по толщине слоя, превосходную однородность поверхностей с высоким соотношением сторон и слоев без точечных отверстий. Это достигается непрерывным образованием атомарных слоев в самоограничивающейся реакции. PECVD, с другой стороны, включает смешивание исходного материала с одним или несколькими летучими прекурсорами с использованием плазмы для химического взаимодействия и разрушения исходного материала. В процессах используется тепло с более высоким давлением, что приводит к более воспроизводимой пленке, где толщина пленки может регулироваться по времени/мощности. Эти пленки более стехиометричны, плотнее и позволяют выращивать изоляционные пленки более высокого качества.

Алмазы CVD настоящие или поддельные?

Алмазы CVD — это настоящие бриллианты, а не подделка. Их выращивают в лаборатории с помощью процесса, называемого химическим осаждением из паровой фазы (CVD). В отличие от природных алмазов, которые добывают из-под земли, алмазы CVD создаются с использованием передовых технологий в лабораториях. Эти алмазы на 100% состоят из углерода и представляют собой чистейшую форму алмазов, известную как алмазы типа IIa. Они обладают теми же оптическими, тепловыми, физическими и химическими свойствами, что и природные алмазы. Единственное отличие состоит в том, что алмазы CVD создаются в лаборатории, а не добываются из земли.

Как алмазная машина обеспечивает высокую точность резки?

Машины для алмазной резки обеспечивают высокую точность резки благодаря нескольким особенностям, таким как механизм непрерывной резки алмазной проволоки, пневматическая система натяжения для стабильного усилия натяжения и система программного управления PLC для точной работы. Кроме того, станки позволяют вручную или с помощью программы поворачивать рабочий стол, обеспечивая точные углы резки.

Что означает PECVD?

PECVD — это технология, использующая плазму для активации реакционного газа, стимулирования химической реакции на поверхности подложки или в приповерхностном пространстве и создания твердой пленки. Основной принцип технологии плазмохимического осаждения из паровой фазы заключается в том, что под действием ВЧ или постоянного электрического поля исходный газ ионизируется с образованием плазмы, низкотемпературная плазма используется в качестве источника энергии, соответствующее количество реакционного газа вводится, а плазменный разряд используется для активации реакционного газа и осуществления химического осаждения из паровой фазы.

По способу получения плазмы ее можно разделить на ВЧ-плазму, плазму постоянного тока и микроволновую плазму CVD и т. д.

Почему алмазные купола CVD подходят для высокопроизводительных акустических систем?

Купола из алмаза CVD подходят для высокопроизводительных акустических систем благодаря исключительному качеству звука, долговечности и способности работать с мощностью. Изготовленные по технологии DC Arc Plasma Jet, они обеспечивают превосходные акустические характеристики для аудиосистем высокого класса.

В чем разница между PECVD и напылением?

PECVD и напыление являются методами физического осаждения из паровой фазы, используемыми для осаждения тонких пленок. PECVD — это диффузионный газовый процесс, который позволяет получать тонкие пленки очень высокого качества, а напыление — это осаждение в пределах прямой видимости. PECVD обеспечивает лучшее покрытие на неровных поверхностях, таких как траншеи, стены, и обеспечивает высокое соответствие, а также позволяет создавать уникальные составы и пленки. С другой стороны, напыление подходит для нанесения тонких слоев из нескольких материалов и идеально подходит для создания многослойных и многоступенчатых систем покрытий. PECVD в основном используется в полупроводниковой промышленности, трибологии, оптике и биомедицине, в то время как напыление в основном используется для диэлектрических материалов и трибологических приложений.

Какова область применения алмазного отрезного станка?

Алмазные отрезные станки широко используются в различных отраслях промышленности для резки материалов различной твердости. Они особенно подходят для обработки драгоценных материалов большого размера и могут работать с такими материалами, как керамика, кристаллы, стекло, металлы, горные породы, термоэлектрические материалы, инфракрасные оптические материалы, композитные материалы и биомедицинские материалы.

В чем разница между ССЗ и PECVD?

Отличие PECVD от традиционной технологии CVD заключается в том, что плазма содержит большое количество высокоэнергетических электронов, которые могут обеспечить энергию активации, необходимую в процессе химического осаждения из паровой фазы, тем самым изменяя режим энергоснабжения реакционной системы. Поскольку температура электронов в плазме достигает 10000 К, столкновение между электронами и молекулами газа может способствовать разрыву химических связей и рекомбинации молекул реакционного газа с образованием более активных химических групп, в то время как вся реакционная система поддерживает более низкую температуру.

Таким образом, по сравнению с процессом CVD, PECVD может выполнять тот же процесс химического осаждения из паровой фазы при более низкой температуре.

Как CVD-алмаз улучшает терморегулирование в электронных устройствах?

CVD-алмаз улучшает терморегулирование в электронных устройствах, предлагая высококачественный алмаз с теплопроводностью до 2000 Вт/мК. Это делает его идеальным для использования в теплораспределителях, лазерных диодах и системах GaN on Diamond (GOD), эффективно рассеивающих тепло и повышающих производительность устройств.
Посмотреть больше часто задаваемых вопросов по этому продукту

4.7

out of

5

The speed of delivery was great, and the equipment arrived in perfect condition. It's been a pleasure working with KINTEK SOLUTION.

Arvid Gustaffson

4.8

out of

5

The value for money is unbeatable. KINTEK SOLUTION provides high-quality equipment at a reasonable price.

Bjarke Jensen

4.9

out of

5

The quality of the equipment is top-notch. It's clear that KINTEK SOLUTION uses only the best materials and construction methods.

Carina Petersen

4.9

out of

5

The durability of the equipment is exceptional. It's built to last and withstand the rigors of daily use in a lab setting.

Ditlev Rasmussen

4.8

out of

5

The technological advancement of the equipment is impressive. KINTEK SOLUTION is always at the forefront of innovation, providing cutting-edge solutions.

Emil Mortensen

4.7

out of

5

The speed of delivery was exceptional. The equipment arrived well before the estimated delivery date.

Freja Olsen

4.9

out of

5

The value for money is outstanding. The equipment is worth every penny, and it's clear that KINTEK SOLUTION cares about providing customers with a great deal.

Gabriel Nielsen

4.8

out of

5

The quality of the equipment is superb. It's evident that KINTEK SOLUTION uses only the highest quality materials and construction methods.

Helle Pedersen

4.7

out of

5

The durability of the equipment is remarkable. It's built to withstand the rigors of daily use in a lab setting and shows no signs of wear or tear.

Ida Jensen

4.9

out of

5

The technological advancement of the equipment is groundbreaking. KINTEK SOLUTION is always pushing the boundaries of innovation, and their equipment is a testament to their commitment to excellence.

Jens Hansen

4.8

out of

5

The speed of delivery was lightning fast. The equipment arrived within days of placing the order, which was incredibly convenient.

Karen Andersen

4.9

out of

5

The value for money is exceptional. The equipment is incredibly affordable, especially considering the high quality and advanced features it offers.

Lars Petersen

4.7

out of

5

The quality of the equipment is impeccable. It's clear that KINTEK SOLUTION takes pride in their craftsmanship, and the equipment is built to the highest standards.

Mette Rasmussen

4.8

out of

5

The durability of the equipment is outstanding. It's built to last, and I'm confident that it will provide years of reliable service.

Nils Olsen

4.9

out of

5

The technological advancement of the equipment is awe-inspiring. KINTEK SOLUTION is at the forefront of innovation, and their equipment is a testament to their commitment to pushing the boundaries of technology.

Ole Jensen

4.8

out of

5

The speed of delivery was commendable. The equipment arrived within the promised timeframe, which allowed us to start using it right away.

Pernille Hansen

4.9

out of

5

The value for money is unbeatable. The equipment is incredibly affordable, especially considering the advanced features and high quality it offers.

Rasmus Petersen

4.7

out of

5

The quality of the equipment is exceptional. It's clear that KINTEK SOLUTION uses only the best materials and construction methods, resulting in a durable and reliable product.

Sofie Olsen

4.8

out of

5

The durability of the equipment is impressive. It's built to withstand the rigors of daily use in a lab setting, and I'm confident that it will last for many years to come.

Thomas Jensen

4.9

out of

5

The technological advancement of the equipment is remarkable. KINTEK SOLUTION is constantly innovating and pushing the boundaries of technology, and their equipment is a testament to their commitment to excellence.

Ulla Hansen

PDF - Колокольный резонатор MPCVD Машина для лаборатории и выращивания алмазов

Скачать

Каталог Пдквд

Скачать

Каталог Пвд Машина

Скачать

Каталог Cvd Алмазная Машина

Скачать

Каталог Выращенный В Лаборатории Алмазный Станок

Скачать

Каталог Машина Mpcvd

Скачать

Каталог Cvd-Машина

Скачать

Каталог Рф Пэвд

Скачать

Каталог Паквд

Скачать

Каталог Алмазная Машина Для Резки

Скачать

Каталог Оборудование Для Нанесения Тонких Пленок

Скачать

Каталог Хвд Печь

Скачать

Каталог Материалы Cvd

Скачать

ЗАПРОС ЦИТАТЫ

Наша профессиональная команда ответит вам в течение одного рабочего дня. Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!

Связанные товары

915MHz MPCVD алмазная машина

915MHz MPCVD алмазная машина

915MHz MPCVD Diamond Machine и его многокристальный эффективный рост, максимальная площадь может достигать 8 дюймов, максимальная эффективная площадь роста монокристалла может достигать 5 дюймов. Это оборудование в основном используется для производства поликристаллических алмазных пленок большого размера, роста длинных монокристаллов алмазов, низкотемпературного роста высококачественного графена и других материалов, для роста которых требуется энергия, предоставляемая микроволновой плазмой.

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Узнайте о машине MPCVD с цилиндрическим резонатором - методе микроволнового плазмохимического осаждения из паровой фазы, который используется для выращивания алмазных камней и пленок в ювелирной и полупроводниковой промышленности. Узнайте о его экономически эффективных преимуществах по сравнению с традиционными методами HPHT.

CVD-алмаз, легированный бором

CVD-алмаз, легированный бором

Алмаз, легированный CVD бором: универсальный материал, обеспечивающий индивидуальную электропроводность, оптическую прозрачность и исключительные тепловые свойства для применения в электронике, оптике, сенсорных и квантовых технологиях.

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Фильера для нанесения наноалмазного композитного покрытия использует цементированный карбид (WC-Co) в качестве подложки, а для нанесения обычного алмаза и наноалмазного композитного покрытия на поверхность внутреннего отверстия пресс-формы используется метод химической паровой фазы (сокращенно CVD-метод).

Высокоточный станок для резки алмазной проволокой

Высокоточный станок для резки алмазной проволокой

Высокоточный станок для резки алмазной проволокой — это универсальный и точный режущий инструмент, разработанный специально для исследователей материалов. В нем используется механизм непрерывной резки алмазным канатом, обеспечивающий точную резку хрупких материалов, таких как керамика, кристаллы, стекло, металлы, камни и различные другие материалы.

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Усовершенствуйте свой процесс нанесения покрытий с помощью оборудования для нанесения покрытий методом PECVD. Идеально подходит для производства светодиодов, силовых полупроводников, МЭМС и многого другого. Осаждает высококачественные твердые пленки при низких температурах.

Алмазные купола CVD

Алмазные купола CVD

Откройте для себя алмазные купола CVD — идеальное решение для высокопроизводительных громкоговорителей. Изготовленные с использованием технологии DC Arc Plasma Jet, эти купольные колонки обеспечивают исключительное качество звука, долговечность и мощность.

CVD-алмаз для терморегулирования

CVD-алмаз для терморегулирования

CVD-алмаз для управления температурным режимом: высококачественный алмаз с теплопроводностью до 2000 Вт/мК, идеально подходящий для теплоотводов, лазерных диодов и приложений GaN на алмазе (GOD).

CVD-алмазное покрытие

CVD-алмазное покрытие

Алмазное покрытие CVD: превосходная теплопроводность, качество кристаллов и адгезия для режущих инструментов, трения и акустических применений.

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

RF-PECVD - это аббревиатура от "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". С его помощью на германиевые и кремниевые подложки наносится пленка DLC (алмазоподобного углерода). Он используется в инфракрасном диапазоне длин волн 3-12um.

12-дюймовый/24-дюймовый высокоточный автоматический станок для резки алмазной проволоки

12-дюймовый/24-дюймовый высокоточный автоматический станок для резки алмазной проволоки

Высокоточный автоматический станок для резки алмазной проволокой представляет собой универсальный режущий инструмент, который использует алмазную проволоку для резки широкого спектра материалов, включая проводящие и непроводящие материалы, керамику, стекло, камни, драгоценные камни, нефрит, метеориты, монокристаллический кремний, карбид кремния, поликристаллический кремний, огнеупорный кирпич, эпоксидные плиты и ферритовые тела. Он особенно подходит для резки различных хрупких кристаллов высокой твердости, высокой стоимости и легко ломается.

Наклонная ротационная машина для трубчатой печи с плазменным осаждением (PECVD)

Наклонная ротационная машина для трубчатой печи с плазменным осаждением (PECVD)

Представляем нашу наклонную вращающуюся печь PECVD для точного осаждения тонких пленок. Наслаждайтесь автоматическим согласованием источника, программируемым ПИД-регулятором температуры и высокоточным управлением массовым расходомером MFC. Встроенные функции безопасности для вашего спокойствия.

Дисковая / чашечная вибромельница

Дисковая / чашечная вибромельница

Дисковая вибрационная мельница подходит для неразрушающего дробления и тонкого измельчения образцов с большими размерами частиц и может быстро подготовить образцы с аналитической тонкостью и чистотой.

CVD-алмаз для правки инструментов

CVD-алмаз для правки инструментов

Испытайте непревзойденные характеристики заготовок для алмазной обработки CVD: высокая теплопроводность, исключительная износостойкость и независимость от ориентации.

Заготовки режущего инструмента

Заготовки режущего инструмента

Алмазные режущие инструменты CVD: превосходная износостойкость, низкое трение, высокая теплопроводность для обработки цветных металлов, керамики, композитов

Электронно-лучевое напыление покрытия бескислородного медного тигля

Электронно-лучевое напыление покрытия бескислородного медного тигля

При использовании методов электронно-лучевого испарения использование тиглей из бескислородной меди сводит к минимуму риск загрязнения кислородом в процессе испарения.

Трубчатая печь CVD с разделенной камерой и вакуумной станцией CVD машины

Трубчатая печь CVD с разделенной камерой и вакуумной станцией CVD машины

Эффективная двухкамерная CVD-печь с вакуумной станцией для интуитивной проверки образцов и быстрого охлаждения. Максимальная температура до 1200℃ с точным управлением с помощью массового расходомера MFC.

Заготовки для волочения алмазной проволоки CVD

Заготовки для волочения алмазной проволоки CVD

Заготовки для волочения алмазной проволоки CVD: превосходная твердость, стойкость к истиранию и применимость при волочении различных материалов. Идеально подходит для абразивной обработки, например обработки графита.

Мульти зоны нагрева CVD трубчатая печь CVD машина

Мульти зоны нагрева CVD трубчатая печь CVD машина

Печь KT-CTF14 с несколькими зонами нагрева CVD - точный контроль температуры и потока газа для передовых приложений. Максимальная температура до 1200℃, 4-канальный массовый расходомер MFC и 7-дюймовый TFT-контроллер с сенсорным экраном.

Оптические окна

Оптические окна

Алмазные оптические окна: исключительная широкополосная инфракрасная прозрачность, отличная теплопроводность и низкое рассеяние в инфракрасном диапазоне, для окон с мощными ИК-лазерами и микроволновыми окнами.

Скользящая трубчатая печь PECVD с жидким газификатором PECVD машина

Скользящая трубчатая печь PECVD с жидким газификатором PECVD машина

Система KT-PE12 Slide PECVD: широкий диапазон мощностей, программируемый контроль температуры, быстрый нагрев/охлаждение с помощью скользящей системы, контроль массового расхода MFC и вакуумный насос.

Универсальная трубчатая печь CVD, изготовленная по индивидуальному заказу CVD-машина

Универсальная трубчатая печь CVD, изготовленная по индивидуальному заказу CVD-машина

Получите свою эксклюзивную печь CVD с универсальной печью KT-CTF16, изготовленной по индивидуальному заказу. Настраиваемые функции скольжения, вращения и наклона для точной реакции. Заказать сейчас!

Связанные статьи

Как получить монокристаллический алмаз высокого качества с помощью MPCVD

Как получить монокристаллический алмаз высокого качества с помощью MPCVD

Микроволновое плазмохимическое осаждение из газовой фазы (MPCVD) является популярным методом получения высококачественных монокристаллов алмаза.

Узнать больше
Процесс изготовления CVD-алмаза на машине MPCVD

Процесс изготовления CVD-алмаза на машине MPCVD

Алмазные станки CVD приобрели большое значение в различных отраслях промышленности и научных исследованиях.

Узнать больше
Достижения в системах MPCVD для монокристаллических алмазов большого размера

Достижения в системах MPCVD для монокристаллических алмазов большого размера

Достижения в системах MPCVD позволили производить более крупные и высококачественные монокристаллические алмазы, предлагая многообещающий потенциал для будущих применений.

Узнать больше
Печь CVD для выращивания углеродных нанотрубок

Печь CVD для выращивания углеродных нанотрубок

Технология печи химического осаждения из паровой фазы (CVD) является широко используемым методом выращивания углеродных нанотрубок.

Узнать больше
Химическое осаждение из паровой фазы с расширенной плазмой (PECVD): Исчерпывающее руководство

Химическое осаждение из паровой фазы с расширенной плазмой (PECVD): Исчерпывающее руководство

Узнайте все, что вам нужно знать о плазменном химическом осаждении из паровой фазы (PECVD) - технологии осаждения тонких пленок, используемой в полупроводниковой промышленности. Изучите ее принципы, области применения и преимущества.

Узнать больше
Понимание PECVD: руководство по химическому осаждению из паровой фазы с плазменным усилением

Понимание PECVD: руководство по химическому осаждению из паровой фазы с плазменным усилением

PECVD — полезный метод для создания тонкопленочных покрытий, поскольку он позволяет наносить самые разные материалы, включая оксиды, нитриды и карбиды.

Узнать больше
Введение в химическое осаждение из паровой фазы (CVD)

Введение в химическое осаждение из паровой фазы (CVD)

Химическое осаждение из паровой фазы, или CVD, представляет собой процесс нанесения покрытия, который включает использование газообразных реагентов для получения тонких пленок и покрытий высокого качества.

Узнать больше
CVD-машины для нанесения тонких пленок

CVD-машины для нанесения тонких пленок

Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) — широко используемый метод осаждения тонких пленок на различные подложки.

Узнать больше
Комплексное руководство по MPCVD: синтез алмазов и их применение

Комплексное руководство по MPCVD: синтез алмазов и их применение

Изучите основы, преимущества и применение микроволнового плазменного химического осаждения из паровой фазы (MPCVD) в синтезе алмазов. Узнайте о его уникальных возможностях и о его сравнении с другими методами выращивания алмазов.

Узнать больше
Руководство для начинающих по машинам MPCVD

Руководство для начинающих по машинам MPCVD

MPCVD (микроволновое плазменное химическое осаждение из паровой фазы) — это процесс, используемый для осаждения тонких пленок материала на подложку с использованием плазмы, генерируемой микроволнами.

Узнать больше
Преимущества и недостатки химического осаждения из паровой фазы (CVD)

Преимущества и недостатки химического осаждения из паровой фазы (CVD)

Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) - это универсальный метод осаждения тонких пленок, широко используемый в различных отраслях промышленности. Изучите ее преимущества, недостатки и потенциальные новые применения.

Узнать больше
Печь PECVD Маломощное и низкотемпературное решение для мягких материалов

Печь PECVD Маломощное и низкотемпературное решение для мягких материалов

Печи PECVD (химическое осаждение из паровой фазы с плазменным усилением) стали популярным решением для осаждения тонких пленок на поверхности мягких материалов.

Узнать больше