Знание Что такое камера для напыления?
Аватар автора

Техническая команда · Kintek Solution

Обновлено 1 неделю назад

Что такое камера для напыления?

Камера для напыления - это специализированная вакуумная среда, предназначенная для процесса напыления, который представляет собой метод осаждения тонких пленок на материал подложки путем выброса атомов из материала-мишени в результате бомбардировки высокоэнергетическими частицами. Камера оборудована для поддержания высокого вакуума, введения распыляющего газа, например аргона, и контроля давления для облегчения процесса осаждения.

Резюме ответа:

Напылительная камера - это высоковакуумное устройство, используемое для осаждения тонких пленок на подложки с помощью процесса, называемого напылением. Этот процесс включает в себя бомбардировку материала мишени частицами ионизированного газа, в результате чего атомы из мишени выбрасываются и осаждаются на подложку, образуя тонкую, однородную и прочную пленку.

  1. Подробное объяснение:Высоковакуумная среда:

  2. Сначала из камеры напыления откачивают воздух до высокого вакуума, чтобы свести к минимуму присутствие фоновых газов. Высокий вакуум очень важен, поскольку он уменьшает загрязнение и позволяет точно контролировать процесс напыления. Базовое давление в камере обычно очень низкое, часто в диапазоне от микро- до нано-торр, в зависимости от конкретных требований процесса напыления.

  3. Введение газа для напыления:

  4. После достижения необходимого уровня вакуума в камеру вводится напыляющий газ, обычно аргон. Аргон обычно используется потому, что он инертен и не вступает в реакцию с большинством материалов. Давление аргона тщательно контролируется, чтобы поддерживать оптимальные условия для напыления. Газ ионизируется в камере, обычно с помощью высоковольтного электрического поля, в результате чего образуется плазма.Бомбардировка и осаждение:

  5. Ионизированные атомы аргона (ионы аргона) под действием электрического поля ускоряются по направлению к материалу мишени (источнику атомов, подлежащих осаждению). Когда эти высокоэнергетические ионы сталкиваются с мишенью, они вытесняют атомы с ее поверхности. Затем эти смещенные атомы проходят через вакуум и оседают на подложке, которая обычно устанавливается на держателе внутри камеры. Держатель подложки разработан таким образом, чтобы обеспечить точное позиционирование и перемещение подложки для контроля картины и однородности осаждения.

Подготовка и обработка подложки:

Перед началом процесса напыления подложка подготавливается и надежно закрепляется на держателе. Затем держатель помещается в камеру блокировки нагрузки, которая помогает поддерживать вакуум в основной камере напыления. После того как из камеры блокировки нагрузки откачивается воздух, соответствующий вакууму в основной камере, подложка переносится в зону напыления.

Связанные товары

Печь для искрового плазменного спекания SPS-печь

Печь для искрового плазменного спекания SPS-печь

Откройте для себя преимущества печей искрового плазменного спекания для быстрой низкотемпературной подготовки материалов. Равномерный нагрев, низкая стоимость и экологичность.

Трубчатая печь CVD с разделенной камерой и вакуумной станцией CVD машины

Трубчатая печь CVD с разделенной камерой и вакуумной станцией CVD машины

Эффективная двухкамерная CVD-печь с вакуумной станцией для интуитивной проверки образцов и быстрого охлаждения. Максимальная температура до 1200℃ с точным управлением с помощью массового расходомера MFC.

Вакуумная индукционная плавильная прядильная система Дуговая плавильная печь

Вакуумная индукционная плавильная прядильная система Дуговая плавильная печь

С легкостью создавайте метастабильные материалы с помощью нашей системы вакуумного прядения расплава. Идеально подходит для исследований и экспериментальных работ с аморфными и микрокристаллическими материалами. Закажите сейчас для эффективных результатов.

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Усовершенствуйте свой процесс нанесения покрытий с помощью оборудования для нанесения покрытий методом PECVD. Идеально подходит для производства светодиодов, силовых полупроводников, МЭМС и многого другого. Осаждает высококачественные твердые пленки при низких температурах.

Вакуумная трубчатая печь горячего прессования

Вакуумная трубчатая печь горячего прессования

Уменьшите давление формования и сократите время спекания с помощью вакуумной трубчатой печи для горячего прессования высокоплотных и мелкозернистых материалов. Идеально подходит для тугоплавких металлов.

Колокольный резонатор MPCVD Машина для лаборатории и выращивания алмазов

Колокольный резонатор MPCVD Машина для лаборатории и выращивания алмазов

Получите высококачественные алмазные пленки с помощью нашей машины MPCVD с резонатором Bell-jar Resonator, предназначенной для лабораторного выращивания и выращивания алмазов. Узнайте, как микроволновое плазменно-химическое осаждение из паровой фазы работает для выращивания алмазов с использованием углекислого газа и плазмы.

Электронно-лучевой тигель

Электронно-лучевой тигель

В контексте испарения с помощью электронного луча тигель представляет собой контейнер или держатель источника, используемый для хранения и испарения материала, который должен быть нанесен на подложку.

4-дюймовая камера из нержавеющей стали, полностью автоматический лабораторный гомогенизатор клея

4-дюймовая камера из нержавеющей стали, полностью автоматический лабораторный гомогенизатор клея

Полностью автоматический лабораторный гомогенизатор клея с 4-дюймовой камерой из нержавеющей стали представляет собой компактное и устойчивое к коррозии устройство, предназначенное для использования в перчаточных боксах. Он оснащен прозрачной крышкой с постоянным крутящим моментом и встроенной внутренней полостью для открытия формы для легкой разборки, очистки и замены.

Небольшая вакуумная печь для спекания вольфрамовой проволоки

Небольшая вакуумная печь для спекания вольфрамовой проволоки

Небольшая вакуумная печь для спекания вольфрамовой проволоки представляет собой компактную экспериментальную вакуумную печь, специально разработанную для университетов и научно-исследовательских институтов. Печь оснащена корпусом, сваренным на станке с ЧПУ, и вакуумными трубами, обеспечивающими герметичную работу. Быстроразъемные электрические соединения облегчают перемещение и отладку, а стандартный электрический шкаф управления безопасен и удобен в эксплуатации.

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Узнайте о машине MPCVD с цилиндрическим резонатором - методе микроволнового плазмохимического осаждения из паровой фазы, который используется для выращивания алмазных камней и пленок в ювелирной и полупроводниковой промышленности. Узнайте о его экономически эффективных преимуществах по сравнению с традиционными методами HPHT.

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

RF-PECVD - это аббревиатура от "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". С его помощью на германиевые и кремниевые подложки наносится пленка DLC (алмазоподобного углерода). Он используется в инфракрасном диапазоне длин волн 3-12um.

Вакуумная печь для спекания под давлением

Вакуумная печь для спекания под давлением

Вакуумные печи для спекания под давлением предназначены для высокотемпературного горячего прессования при спекании металлов и керамики. Его расширенные функции обеспечивают точный контроль температуры, надежное поддержание давления, а прочная конструкция обеспечивает бесперебойную работу.

Печь для спекания под давлением воздуха 9,8 МПа

Печь для спекания под давлением воздуха 9,8 МПа

Печь для спекания под давлением воздуха — это высокотехнологичное оборудование, обычно используемое для спекания современных керамических материалов. Он сочетает в себе методы вакуумного спекания и спекания под давлением для получения керамики высокой плотности и высокой прочности.

Мишень для распыления карбида бора (BC) / порошок / проволока / блок / гранула

Мишень для распыления карбида бора (BC) / порошок / проволока / блок / гранула

Получите высококачественные материалы из карбида бора по разумным ценам для нужд вашей лаборатории. Мы изготавливаем материалы BC различной чистоты, формы и размера, включая мишени для распыления, покрытия, порошки и многое другое.

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Технология, в основном используемая в области силовой электроники. Это графитовая пленка, изготовленная из исходного углеродного материала путем осаждения материала с использованием электронно-лучевой технологии.

Электронно-лучевое напыление покрытия бескислородного медного тигля

Электронно-лучевое напыление покрытия бескислородного медного тигля

При использовании методов электронно-лучевого испарения использование тиглей из бескислородной меди сводит к минимуму риск загрязнения кислородом в процессе испарения.


Оставьте ваше сообщение