При напылении аргон ионизируется в процессе электрического разряда в вакуумной камере, где он становится частью плазмы. Затем эта плазма используется для вытеснения атомов из материала мишени, которые впоследствии осаждаются на подложку, образуя тонкую пленку.
Ионизация аргона:
Аргон, являющийся инертным газом, вводится в вакуумную камеру, где он ионизируется с помощью электрического разряда. Этот разряд возникает при подаче высокого напряжения между катодом (материал мишени) и анодом (подложка). Электрическое поле, создаваемое этим напряжением, ионизирует атомы аргона, лишая их электронов, превращая их в положительно заряженные ионы.Образование плазмы:
Ионизация аргона приводит к образованию плазмы - состояния материи, в котором электроны отделены от своих родительских атомов. Эта плазма обычно состоит из примерно равных частей газовых ионов и электронов и излучает видимое свечение. Плазменная среда имеет решающее значение, поскольку она не только содержит ионизированный аргон, но и способствует передаче энергии, необходимой для процесса напыления.
Ускорение и столкновение:
Ионизированные ионы аргона под действием электрического поля ускоряются по направлению к отрицательно заряженному катоду. Эти ионы, обладающие высокой кинетической энергией, сталкиваются с материалом мишени. Энергия этих столкновений достаточна, чтобы вытеснить атомы или молекулы с поверхности мишени - процесс, известный как напыление.Осаждение материала:
Выбитые атомы из материала мишени образуют поток пара, который проходит через вакуумную камеру. В конечном итоге эти атомы достигают подложки, где конденсируются и образуют тонкую пленку. Осаждение пленки является основной целью процесса напыления и используется в различных отраслях промышленности для покрытия подложек определенными материалами.
