Существуют ли различные типы осаждения?
Да, существуют различные типы осаждения, особенно в контексте технологий вакуумного осаждения. Две основные категории - физическое осаждение из паровой фазы (PVD) и химическое осаждение из паровой фазы (CVD).
Физическое осаждение паров (PVD):
PVD подразумевает испарение твердого материала с помощью высокоэнергетических источников, таких как электронные пучки или плазма, или путем простого нагрева. Затем испаренный материал конденсируется на подложке, образуя тонкую пленку. PVD является универсальным методом, способным осаждать широкий спектр материалов, включая металлы, сплавы и керамику. Он широко используется в таких областях, как нанесение покрытий, обработка поверхностей и производство полупроводников. Процесс обеспечивает равномерный слой благодаря отсутствию молекул воздуха, которые могли бы помешать осаждению.Химическое осаждение из паровой фазы (CVD):
CVD - это процесс, используемый для создания тонких или толстых слоев вещества атом за атомом или молекула за молекулой на твердой поверхности. Осажденный слой изменяет свойства поверхности подложки в зависимости от области применения. Толщина слоев может варьироваться от одного атома (нанометра) до нескольких миллиметров. Методы CVD включают в себя различные способы создания слоев различных материалов на различных поверхностях, такие как распыление, спиновое покрытие, нанесение покрытия и вакуумное осаждение.
