CVD-материалы
CVD-алмаз, легированный бором
Артикул : cvdm-07
Цена может варьироваться в зависимости от спецификации и настройки
- Диаметр
- 100 мм
- толщина
- 0,3-2 мм
Доставка:
Свяжитесь с нами чтобы получить подробности о доставке. Наслаждайтесь Гарантия своевременной отправки.
Запросить индивидуальное коммерческое предложение 👋
Получите цену сейчас! Оставить сообщение Быстрое получение цены Via Онлайн чатВведение
Алмаз, легированный бором методом химического осаждения из паровой фазы (CVD), представляет собой уникальный материал, сочетающий в себе исключительные свойства алмаза с контролируемой электропроводностью. Благодаря точному введению атомов бора в решетку алмаза во время CVD-роста он становится универсальным материалом с индивидуальными электрическими свойствами: от изоляционных до высокопроводящих. Это позволяет использовать разнообразные приложения в электронике, датчиках, управлении теплом, оптике и квантовых технологиях.
Приложения
Алмаз, легированный бором методом химического осаждения из паровой фазы (CVD), представляет собой универсальный материал с исключительными свойствами, предлагающий уникальные решения проблем во многих отраслях промышленности, от электроники до квантовых технологий. Его дальнейшее развитие и интеграция в различные приложения открывают большие перспективы для развития технологий и научных исследований в ближайшие годы.
- Электроника: Мощные электронные устройства, высокочастотные транзисторы, диоды, полевые транзисторы (FET).
- Датчики: температуры, давления, радиации, состава газа
- Управление теплом: распределители тепла, радиаторы, решения по управлению температурным режимом.
- Оптика и фотоника: Оптические окна, линзы, подложка для экспериментов по квантовой оптике.
- Квантовые технологии: квантовые вычисления, квантовая связь, приложения квантового зондирования.
Функции
Исключительная теплопроводность: алмаз, легированный CVD бором, обладает превосходной теплопроводностью, что позволяет эффективно рассеивать тепло в мощной электронике, лазерных системах и микроэлектронике.
Настраиваемая электропроводность: благодаря точному контролю концентрации бора в процессе выращивания CVD электропроводность алмаза, легированного CVD бором, можно настраивать в широком диапазоне: от изолирующего до высокопроводящего.
Широкая спектральная прозрачность: алмаз, легированный CVD бором, демонстрирует прозрачность в широком спектральном диапазоне, что делает его пригодным для применения в оптике и фотонике, например, в оптических окнах и линзах.
Размещение центров цвета. Алмаз, легированный бором, может содержать центры цвета, которые являются дефектами в решетке алмаза и обладают уникальными оптическими свойствами. Эти центры окраски находят применение в экспериментах по квантовой оптике и квантовой обработке информации.
Высокое напряжение пробоя: алмаз, легированный бором CVD, может выдерживать высокие напряжения пробоя, что делает его идеальным для мощных электронных устройств, работающих в суровых условиях.
Высокая мобильность носителей: легированный бором алмаз обладает высокой подвижностью носителей, что позволяет увеличить скорость переключения и повысить производительность электронных устройств.
Широкое потенциальное окно. Алмаз, легированный бором, имеет широкое потенциальное окно, составляющее примерно 3,5 В, что позволяет применять «избыточные потенциалы» для стимуляции высокоэнергетических химических реакций.
Низкие фоновые токи. Алмазные электроды, легированные бором, демонстрируют низкие фоновые токи при сканировании циклической вольтамперометрии из-за небольшого емкостного слоя на границе раздела, подобной полупроводнику, с растворами электролита.
Химическая инертность: алмаз, легированный бором методом CVD, химически инертен, что делает его устойчивым к коррозии и пригодным для работы в суровых условиях.
Квантовые свойства. Алмаз, легированный бором, имеет многообещающие применения в квантовых технологиях, таких как квантовые вычисления, квантовая связь и квантовое зондирование, благодаря длительному времени когерентности и способности размещать отдельные квантовые биты (кубиты) при комнатной температуре.
Принцип
Алмаз, легированный бором, создается путем химического осаждения из паровой фазы (CVD) путем введения атомов бора в решетку алмаза во время процесса выращивания CVD. Этот процесс легирования контролирует электропроводность материала, позволяя настраивать его от изоляционного до высокопроводящего.
Преимущества
Полупроводниковое поведение: легирование бором вводит носители заряда в решетку алмаза, позволяя контролировать электропроводность, от изолирующей до высокопроводящей, что делает его пригодным для различных электронных приложений.
Высокая теплопроводность: легированный бором алмаз обладает исключительной теплопроводностью, превосходящей другие полупроводники, что позволяет эффективно рассеивать тепло в мощных электронных устройствах, лазерных системах и микроэлектронике.
Широкая спектральная прозрачность: легированный бором алмаз демонстрирует прозрачность в широком спектральном диапазоне, от ультрафиолетового до инфракрасного, что делает его ценным для оптических окон, линз и приложений в оптике и фотонике.
Центры цвета. Алмаз, легированный бором, может содержать центры цвета, которые представляют собой дефекты атомного масштаба с уникальными оптическими и спиновыми свойствами. Эти центры цвета находят применение в квантовых технологиях, включая квантовые вычисления, квантовую связь и квантовое зондирование.
Химическая инертность: Алмаз, легированный бором, химически инертен, устойчив к суровым условиям и совместим с различными химическими веществами, что делает его пригодным для применения в агрессивных или экстремальных условиях.
Механическая твердость: алмаз, легированный бором, наследует исключительную механическую твердость алмаза, обеспечивая долговечность и устойчивость к износу даже в тяжелых условиях эксплуатации.
Индивидуальные электрические свойства: концентрацию атомов бора можно точно контролировать в процессе выращивания CVD, что позволяет настраивать электропроводность материала в широком диапазоне и оптимизировать его для конкретных применений.
Низкотемпературное осаждение: Процесс химического осаждения из паровой фазы (CVD) обычно проводится при низких температурах, что обеспечивает интеграцию с широким спектром подложек и совместимость с различными процессами изготовления устройств.
Промышленная совместимость: алмаз, легированный бором методом CVD, совместим с промышленными производственными процессами, что обеспечивает масштабируемое и экономически эффективное производство, что делает его пригодным для применения в больших объемах.
Спецификация
| Доступные размеры: | Диаметр 100 мм, толщина 0,3-2 мм. |
|---|---|
| Концентрация бора [B]: | От 2 до 6 x 1020 атомов/см3, в среднем более 0,16 мм2. |
| Объемное сопротивление (Rv): | от 2 до 1,8 x 10-3 Ом·м, ± 0,25 x 10-3 Ом·м |
| Окно растворителя: | >3,0 В |
FAQ
Что такое CVD (химическое осаждение из паровой фазы) и каковы его основные преимущества?
Что такое печь CVD?
Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) — это технология, в которой используются различные источники энергии, такие как нагрев, возбуждение плазмы или световое излучение, для химической реакции газообразных или парообразных химических веществ на газовой фазе или на границе газ-твердое тело с образованием твердых отложений в реакторе с помощью химическая реакция. Проще говоря, два или более газообразных сырья вводятся в реакционную камеру, а затем они реагируют друг с другом с образованием нового материала и его осаждением на поверхности подложки.
Печь CVD представляет собой комбинированную систему печей с высокотемпературной трубчатой печью, блоком управления газами и вакуумным блоком, она широко используется для экспериментов и производства композитных материалов, процессов микроэлектроники, полупроводниковой оптоэлектроники, использования солнечной энергии, оптоволоконной связи, сверхпроводников. технология, поле защитного покрытия.
Что такое физическое осаждение из паровой фазы (PVD)?
Каковы основные преимущества и области применения алмаза, легированного бором методом химического осаждения из паровой фазы (CVD)?
Каковы некоторые распространенные области применения материалов CVD?
Как работает печь CVD?
Печь CVD состоит из блока высокотемпературной трубчатой печи, блока точного управления источником реагирующего газа, вакуумной насосной станции и соответствующих сборочных частей.
Вакуумный насос предназначен для удаления воздуха из реакционной трубы и обеспечения отсутствия нежелательных газов внутри реакционной трубы, после чего трубчатая печь нагреет реакционную трубу до заданной температуры, после чего блок точного управления источником реакционного газа может вводить различные газы с заданным соотношением в трубку печи для химической реакции, химическое осаждение из паровой фазы будет образовываться в печи CVD.
Что такое алмазный станок CVD?
Какие типы машин для выращивания алмазов доступны?
Что такое магнетронное распыление?
Что такое МпкВД?
Какие методы используются для нанесения тонких пленок?
Как достигается легирование бором при выращивании алмазных пленок?
Какие типы материалов CVD доступны?
Какой газ используется в процессе CVD?
В процессе CVD можно использовать огромные источники газа, общие химические реакции CVD включают пиролиз, фотолиз, восстановление, окисление, окислительно-восстановительный процесс, поэтому газы, участвующие в этих химических реакциях, могут использоваться в процессе CVD.
В качестве примера возьмем выращивание CVD-графена. Газы, используемые в процессе CVD, будут CH4, H2, O2 и N2.
Каковы преимущества выращенных в лаборатории бриллиантов?
Каков основной принцип ССЗ?
Почему магнетронное распыление?
Что такое машина Mpcvd?
Что такое оборудование для нанесения тонких пленок?
Какая связь между концентрацией атомов бора и электропроводностью алмазной пленки?
Как CVD-алмаз повышает производительность режущих инструментов?
В чем преимущество системы CVD?
- При необходимости может быть изготовлен широкий ассортимент пленок: металлическая пленка, неметаллическая пленка и пленка из многокомпонентного сплава. В то же время он позволяет получать качественные кристаллы, которые трудно получить другими методами, такими как GaN, BP и др.
- Скорость формирования пленки высокая, обычно несколько микрон в минуту или даже сотни микрон в минуту. Возможно одновременное нанесение большого количества однородных по составу покрытий, что несравнимо с другими методами получения пленок, такими как жидкофазная эпитаксия (ЖФЭ) и молекулярно-лучевая эпитаксия (МЛЭ).
- Рабочие условия выполняются при нормальном давлении или низком вакууме, поэтому покрытие имеет хорошую дифракцию, а детали сложной формы могут быть равномерно покрыты, что намного превосходит PVD.
- Благодаря взаимной диффузии реакционного газа, продукта реакции и подложки можно получить покрытие с хорошей адгезионной прочностью, что имеет решающее значение для получения пленок с упрочнением поверхности, таких как износостойкие и антикоррозионные пленки.
- Некоторые пленки растут при температуре намного ниже температуры плавления материала пленки. В условиях низкотемпературного роста реакционный газ и стенки реактора, а также содержащиеся в них примеси практически не вступают в реакцию, поэтому можно получить пленку высокой чистоты и хорошей кристалличности.
- Химическое осаждение из паровой фазы позволяет получить гладкую поверхность осаждения. Это связано с тем, что по сравнению с LPE химическое осаждение из паровой фазы (CVD) выполняется при высоком насыщении, с высокой скоростью зародышеобразования, высокой плотностью зародышеобразования и однородным распределением по всей плоскости, что приводит к макроскопически гладкой поверхности. В то же время при химическом осаждении из газовой фазы средний свободный пробег молекул (атомов) намного больше, чем при ЖФЭ, поэтому пространственное распределение молекул является более равномерным, что способствует формированию гладкой поверхности осаждения.
- Низкие радиационные повреждения, что является необходимым условием для изготовления металлооксидных полупроводников (МОП) и других устройств.
Какова цена машины для выращивания CVD?
Какие существуют типы метода CVD?
Какие материалы используются для нанесения тонких пленок?
Для осаждения тонких пленок в качестве материалов обычно используются металлы, оксиды и соединения, каждый из которых имеет свои уникальные преимущества и недостатки. Металлы предпочтительнее из-за их долговечности и простоты нанесения, но они относительно дороги. Оксиды очень прочны, могут выдерживать высокие температуры и могут осаждаться при низких температурах, но могут быть хрупкими и сложными в работе. Соединения обладают прочностью и долговечностью, их можно наносить при низких температурах и придавать им особые свойства.
Выбор материала для тонкопленочного покрытия зависит от требований применения. Металлы идеально подходят для тепло- и электропроводности, а оксиды эффективны для защиты. Соединения могут быть адаптированы для удовлетворения конкретных потребностей. В конечном счете, лучший материал для конкретного проекта будет зависеть от конкретных потребностей приложения.
Каковы преимущества Mpcvd?
Что такое технология тонкопленочного осаждения?
Как можно регулировать электропроводность алмазной пленки?
Почему алмазные купола CVD подходят для высокопроизводительных акустических систем?
Что означает PECVD?
PECVD — это технология, использующая плазму для активации реакционного газа, стимулирования химической реакции на поверхности подложки или в приповерхностном пространстве и создания твердой пленки. Основной принцип технологии плазмохимического осаждения из паровой фазы заключается в том, что под действием ВЧ или постоянного электрического поля исходный газ ионизируется с образованием плазмы, низкотемпературная плазма используется в качестве источника энергии, соответствующее количество реакционного газа вводится, а плазменный разряд используется для активации реакционного газа и осуществления химического осаждения из паровой фазы.
По способу получения плазмы ее можно разделить на ВЧ-плазму, плазму постоянного тока и микроволновую плазму CVD и т. д.
Каковы методы достижения оптимального осаждения тонкой пленки?
Для получения тонких пленок с желаемыми свойствами необходимы высококачественные мишени для распыления и материалы для испарения. На качество этих материалов могут влиять различные факторы, такие как чистота, размер зерна и состояние поверхности.
Чистота мишеней для распыления или материалов для испарения играет решающую роль, поскольку примеси могут вызывать дефекты в полученной тонкой пленке. Размер зерна также влияет на качество тонкой пленки, при этом более крупные зерна приводят к ухудшению свойств пленки. Кроме того, состояние поверхности имеет решающее значение, так как шероховатая поверхность может привести к дефектам пленки.
Для достижения высочайшего качества мишеней для распыления и материалов для испарения крайне важно выбирать материалы, которые обладают высокой чистотой, малым размером зерна и гладкой поверхностью.
Использование тонкопленочного осаждения
Тонкие пленки на основе оксида цинка
Тонкие пленки ZnO находят применение в нескольких отраслях, таких как термическая, оптическая, магнитная и электрическая, но в основном они используются в покрытиях и полупроводниковых устройствах.
Тонкопленочные резисторы
Тонкопленочные резисторы имеют решающее значение для современных технологий и используются в радиоприемниках, печатных платах, компьютерах, радиочастотных устройствах, мониторах, беспроводных маршрутизаторах, модулях Bluetooth и приемниках сотовых телефонов.
Магнитные тонкие пленки
Тонкие магнитные пленки используются в электронике, хранении данных, радиочастотной идентификации, микроволновых устройствах, дисплеях, печатных платах и оптоэлектронике в качестве ключевых компонентов.
Оптические тонкие пленки
Оптические покрытия и оптоэлектроника являются стандартными областями применения тонких оптических пленок. Молекулярно-лучевая эпитаксия может производить оптоэлектронные тонкопленочные устройства (полупроводники), в которых эпитаксиальные пленки наносятся на подложку по одному атому за раз.
Полимерные тонкие пленки
Тонкие полимерные пленки используются в микросхемах памяти, солнечных элементах и электронных устройствах. Методы химического осаждения (CVD) обеспечивают точный контроль полимерных пленочных покрытий, включая соответствие и толщину покрытия.
Тонкопленочные батареи
Тонкопленочные батареи питают электронные устройства, такие как имплантируемые медицинские устройства, а литий-ионные батареи значительно продвинулись вперед благодаря использованию тонких пленок.
Тонкопленочные покрытия
Тонкопленочные покрытия улучшают химические и механические характеристики целевых материалов в различных отраслях промышленности и технологических областях. Некоторыми распространенными примерами являются антибликовые покрытия, анти-ультрафиолетовое или анти-инфракрасное покрытие, покрытие против царапин и поляризация линзы.
Тонкопленочные солнечные элементы
Тонкопленочные солнечные элементы необходимы для солнечной энергетики, позволяя производить относительно дешевую и чистую электроэнергию. Фотоэлектрические системы и тепловая энергия являются двумя основными применимыми технологиями.
Алмазы CVD настоящие или поддельные?
Каковы ограничения или проблемы, связанные с изготовлением алмазных пленок, легированных бором?
Как CVD-алмаз улучшает терморегулирование в электронных устройствах?
В чем разница между ССЗ и PECVD?
Отличие PECVD от традиционной технологии CVD заключается в том, что плазма содержит большое количество высокоэнергетических электронов, которые могут обеспечить энергию активации, необходимую в процессе химического осаждения из паровой фазы, тем самым изменяя режим энергоснабжения реакционной системы. Поскольку температура электронов в плазме достигает 10000 К, столкновение между электронами и молекулами газа может способствовать разрыву химических связей и рекомбинации молекул реакционного газа с образованием более активных химических групп, в то время как вся реакционная система поддерживает более низкую температуру.
Таким образом, по сравнению с процессом CVD, PECVD может выполнять тот же процесс химического осаждения из паровой фазы при более низкой температуре.
Факторы и параметры, влияющие на осаждение тонких пленок
Скорость осаждения:
Скорость производства пленки, обычно измеряемая по толщине, деленной на время, имеет решающее значение для выбора технологии, подходящей для конкретного применения. Умеренные скорости осаждения достаточны для тонких пленок, в то время как для толстых необходимы высокие скорости осаждения. Важно найти баланс между скоростью и точным контролем толщины пленки.
Единообразие:
Однородность пленки по подложке известна как однородность, которая обычно относится к толщине пленки, но также может относиться к другим свойствам, таким как показатель преломления. Важно иметь хорошее представление о приложении, чтобы избежать недостаточного или чрезмерного определения единообразия.
Возможность заполнения:
Способность заполнения или ступенчатое покрытие относится к тому, насколько хорошо процесс осаждения охватывает топографию подложки. Используемый метод осаждения (например, CVD, PVD, IBD или ALD) оказывает значительное влияние на покрытие и заполнение ступеней.
Характеристики фильма:
Характеристики пленки зависят от требований приложения, которые можно разделить на фотонные, оптические, электронные, механические или химические. Большинство фильмов должны соответствовать требованиям более чем в одной категории.
Температура процесса:
На характеристики пленки существенно влияет температура процесса, которая может быть ограничена областью применения.
Повреждать:
Каждая технология осаждения может повредить материал, на который наносится осаждение, при этом более мелкие элементы более подвержены повреждению процесса. Загрязнение, УФ-излучение и ионная бомбардировка входят в число потенциальных источников повреждений. Крайне важно понимать ограничения материалов и инструментов.
4.8
out of
5
I have been using this product for a while now and it has been great. The delivery was fast and the product is of great quality. I would definitely recommend this product to others.
4.7
out of
5
I am very happy with this product. It is well-made and durable. I would definitely buy it again.
4.9
out of
5
This product is amazing! It is so easy to use and it works great. I would definitely recommend it to anyone.
4.6
out of
5
This product is great! It is well-made and durable. I would definitely buy it again.
4.8
out of
5
I am very happy with this product. It is well-made and durable. I would definitely buy it again.
4.7
out of
5
This product is amazing! It is so easy to use and it works great. I would definitely recommend it to anyone.
4.9
out of
5
This product is great! It is well-made and durable. I would definitely buy it again.
4.6
out of
5
I am very happy with this product. It is well-made and durable. I would definitely buy it again.
4.8
out of
5
This product is amazing! It is so easy to use and it works great. I would definitely recommend it to anyone.
4.7
out of
5
This product is great! It is well-made and durable. I would definitely buy it again.
4.9
out of
5
I am very happy with this product. It is well-made and durable. I would definitely buy it again.
4.6
out of
5
This product is amazing! It is so easy to use and it works great. I would definitely recommend it to anyone.
4.8
out of
5
This product is great! It is well-made and durable. I would definitely buy it again.
4.7
out of
5
I am very happy with this product. It is well-made and durable. I would definitely buy it again.
PDF - CVD-алмаз, легированный бором
СкачатьКаталог Cvd-Материалы
СкачатьКаталог Материалы Cvd
СкачатьКаталог Хвд Печь
СкачатьКаталог Cvd Алмазная Машина
СкачатьКаталог Выращенный В Лаборатории Алмазный Станок
СкачатьКаталог Cvd-Машина
СкачатьКаталог Тонкопленочные Материалы Для Осаждения
СкачатьКаталог Машина Mpcvd
СкачатьКаталог Оборудование Для Нанесения Тонких Пленок
СкачатьЗАПРОС ЦИТАТЫ
Наша профессиональная команда ответит вам в течение одного рабочего дня. Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!
Связанные товары
Алмазное покрытие CVD: превосходная теплопроводность, качество кристаллов и адгезия для режущих инструментов, трения и акустических применений.
CVD-алмаз для терморегулирования
CVD-алмаз для управления температурным режимом: высококачественный алмаз с теплопроводностью до 2000 Вт/мК, идеально подходящий для теплоотводов, лазерных диодов и приложений GaN на алмазе (GOD).
CVD-алмаз для правки инструментов
Испытайте непревзойденные характеристики заготовок для алмазной обработки CVD: высокая теплопроводность, исключительная износостойкость и независимость от ориентации.
Заготовки режущего инструмента
Алмазные режущие инструменты CVD: превосходная износостойкость, низкое трение, высокая теплопроводность для обработки цветных металлов, керамики, композитов
Откройте для себя алмазные купола CVD — идеальное решение для высокопроизводительных громкоговорителей. Изготовленные с использованием технологии DC Arc Plasma Jet, эти купольные колонки обеспечивают исключительное качество звука, долговечность и мощность.
Лист оптического кварцевого стекла, устойчивый к высоким температурам
Откройте для себя возможности листового оптического стекла для точного управления светом в телекоммуникациях, астрономии и других областях. Откройте для себя достижения в области оптических технологий с исключительной четкостью и индивидуальными рефракционными свойствами.
Заготовки для волочения алмазной проволоки CVD
Заготовки для волочения алмазной проволоки CVD: превосходная твердость, стойкость к истиранию и применимость при волочении различных материалов. Идеально подходит для абразивной обработки, например обработки графита.
Оптическая кварцевая пластина JGS1/JGS2/JGS3
Кварцевая пластина — прозрачный, прочный и универсальный компонент, широко используемый в различных отраслях промышленности. Изготовлен из кристалла кварца высокой чистоты, обладает отличной термической и химической стойкостью.
915MHz MPCVD Diamond Machine и его многокристальный эффективный рост, максимальная площадь может достигать 8 дюймов, максимальная эффективная площадь роста монокристалла может достигать 5 дюймов. Это оборудование в основном используется для производства поликристаллических алмазных пленок большого размера, роста длинных монокристаллов алмазов, низкотемпературного роста высококачественного графена и других материалов, для роста которых требуется энергия, предоставляемая микроволновой плазмой.
Нитрид бора (BN) Керамико-проводящий композит
Из-за характеристик самого нитрида бора диэлектрическая проницаемость и диэлектрические потери очень малы, поэтому он является идеальным электроизоляционным материалом.
Керамические детали из нитрида бора (BN)
Нитрид бора ((BN) представляет собой соединение с высокой температурой плавления, высокой твердостью, высокой теплопроводностью и высоким удельным электрическим сопротивлением. Его кристаллическая структура похожа на графен и тверже алмаза.
Алмазные оптические окна: исключительная широкополосная инфракрасная прозрачность, отличная теплопроводность и низкое рассеяние в инфракрасном диапазоне, для окон с мощными ИК-лазерами и микроволновыми окнами.
Керамическая трубка из нитрида бора (BN)
Нитрид бора (BN) известен своей высокой термической стабильностью, отличными электроизоляционными свойствами и смазывающими свойствами.
Керамический стержень из нитрида бора (BN)
Стержень из нитрида бора (BN) представляет собой самую прочную кристаллическую форму нитрида бора, такую как графит, которая обладает превосходной электроизоляцией, химической стабильностью и диэлектрическими свойствами.
Инфракрасный кремний/высокопрочный кремний/монокристаллический кремниевый объектив
Кремний (Si) широко известен как один из самых прочных минеральных и оптических материалов для применения в ближнем инфракрасном (БИК) диапазоне, примерно от 1 мкм до 6 мкм.
Мишень для распыления карбида бора (BC) / порошок / проволока / блок / гранула
Получите высококачественные материалы из карбида бора по разумным ценам для нужд вашей лаборатории. Мы изготавливаем материалы BC различной чистоты, формы и размера, включая мишени для распыления, покрытия, порошки и многое другое.
Сапфировый лист с инфракрасным пропусканием / сапфировая подложка / сапфировое окно
Изготовленная из сапфира подложка обладает беспрецедентными химическими, оптическими и физическими свойствами. Его замечательная устойчивость к тепловым ударам, высоким температурам, эрозии песка и воде отличает его.
Инфракрасное тепловидение / инфракрасное измерение температуры двусторонняя линза из германия (Ge)
Линзы из германия - это прочные, устойчивые к коррозии оптические линзы, подходящие для суровых условий и приложений, подверженных воздействию элементов.
Изготовленные на заказ керамические детали из нитрида бора (BN)
Керамика из нитрида бора (BN) может иметь различную форму, поэтому ее можно производить для создания высокой температуры, высокого давления, изоляции и рассеивания тепла, чтобы избежать нейтронного излучения.
Оксид алюминия (Al2O3) Керамика Радиатор - Изоляция
Структура отверстий керамического радиатора увеличивает площадь рассеивания тепла при контакте с воздухом, что значительно усиливает эффект рассеивания тепла, а эффект рассеивания тепла лучше, чем у супермеди и алюминия.
Лист оптического сверхпрозрачного стекла для лаборатории K9 / B270 / BK7
Оптическое стекло, хотя и имеет много общих характеристик с другими типами стекла, производится с использованием специальных химических веществ, которые улучшают свойства, имеющие решающее значение для применения в оптике.
Керамический лист из нитрида алюминия (AlN)
Нитрид алюминия (AlN) обладает хорошей совместимостью с кремнием. Он не только используется в качестве добавки для спекания или армирующей фазы для конструкционной керамики, но и по своим характеристикам намного превосходит оксид алюминия.
Шестиугольная прокладка из нитрида бора (HBN) — профиль кулачка и различные типы прокладок
Шестигранные прокладки из нитрида бора (HBN) изготавливаются из заготовок из нитрида бора методом горячего прессования. Механические свойства аналогичны графиту, но с превосходным электрическим сопротивлением.
Связанные статьи
Введение в химическое осаждение из паровой фазы (CVD)
Химическое осаждение из паровой фазы, или CVD, представляет собой процесс нанесения покрытия, который включает использование газообразных реагентов для получения тонких пленок и покрытий высокого качества.
Понимание алмазной машины CVD и того, как она работает
Процесс создания алмаза CVD (химическое осаждение из паровой фазы) включает осаждение атомов углерода на подложку с использованием химической реакции в газовой фазе. Процесс начинается с отбора высококачественных алмазных затравок, которые затем помещаются в камеру для выращивания вместе с газовой смесью, богатой углеродом.
Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) графена Проблемы и решения
Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) — широко распространенный метод производства высококачественного графена.
Преимущества и недостатки химического осаждения из паровой фазы (CVD)
Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) - это универсальный метод осаждения тонких пленок, широко используемый в различных отраслях промышленности. Изучите ее преимущества, недостатки и потенциальные новые применения.
Как CVD используется в полупроводниковой промышленности
CVD произвел революцию в полупроводниковой промышленности, позволив производить высокопроизводительные электронные устройства с улучшенной функциональностью и надежностью.
CVD-машины для нанесения тонких пленок
Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) — широко используемый метод осаждения тонких пленок на различные подложки.
Общие проблемы систем CVD и способы их решения
Понимание основ систем CVD и их важности имеет решающее значение для оптимизации процесса и решения общих проблем, возникающих во время эксплуатации.
Комплексное руководство по MPCVD: синтез алмазов и их применение
Изучите основы, преимущества и применение микроволнового плазменного химического осаждения из паровой фазы (MPCVD) в синтезе алмазов. Узнайте о его уникальных возможностях и о его сравнении с другими методами выращивания алмазов.
Почему PECVD необходима для производства микроэлектронных устройств
PECVD (химическое осаждение из паровой фазы с плазменным усилением) — это популярный метод осаждения тонких пленок, используемый в производстве устройств микроэлектроники.
Понимание метода PECVD
PECVD — это процесс химического осаждения из паровой фазы с усилением плазмы, который широко используется при производстве тонких пленок для различных применений.
Пошаговое руководство по процессу PECVD
PECVD — это тип процесса химического осаждения из паровой фазы, в котором используется плазма для усиления химических реакций между газофазными прекурсорами и подложкой.
Сравнение химического осаждения из паровой фазы и физического осаждения из паровой фазы
Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) VS физическое осаждение из паровой фазы (PVD)