CVD-материалы
CVD-алмаз, легированный бором
Артикул : cvdm-07
Цена может варьироваться в зависимости от спецификации и настройки
- Диаметр
- 100 мм
- толщина
- 0,3-2 мм
Доставка:
Свяжитесь с нами чтобы получить подробности о доставке. Наслаждайтесь Гарантия своевременной отправки.
Запросить индивидуальное коммерческое предложение 👋
Получите цену сейчас! Оставить сообщение Быстрое получение цены Via Онлайн чатВведение
Алмаз, легированный бором методом химического осаждения из паровой фазы (CVD), представляет собой уникальный материал, сочетающий в себе исключительные свойства алмаза с контролируемой электропроводностью. Благодаря точному введению атомов бора в решетку алмаза во время CVD-роста он становится универсальным материалом с индивидуальными электрическими свойствами: от изоляционных до высокопроводящих. Это позволяет использовать разнообразные приложения в электронике, датчиках, управлении теплом, оптике и квантовых технологиях.
Приложения
Алмаз, легированный бором методом химического осаждения из паровой фазы (CVD), представляет собой универсальный материал с исключительными свойствами, предлагающий уникальные решения проблем во многих отраслях промышленности, от электроники до квантовых технологий. Его дальнейшее развитие и интеграция в различные приложения открывают большие перспективы для развития технологий и научных исследований в ближайшие годы.
- Электроника: Мощные электронные устройства, высокочастотные транзисторы, диоды, полевые транзисторы (FET).
- Датчики: температуры, давления, радиации, состава газа
- Управление теплом: распределители тепла, радиаторы, решения по управлению температурным режимом.
- Оптика и фотоника: Оптические окна, линзы, подложка для экспериментов по квантовой оптике.
- Квантовые технологии: квантовые вычисления, квантовая связь, приложения квантового зондирования.
Функции
Исключительная теплопроводность: алмаз, легированный CVD бором, обладает превосходной теплопроводностью, что позволяет эффективно рассеивать тепло в мощной электронике, лазерных системах и микроэлектронике.
Настраиваемая электропроводность: благодаря точному контролю концентрации бора в процессе выращивания CVD электропроводность алмаза, легированного CVD бором, можно настраивать в широком диапазоне: от изолирующего до высокопроводящего.
Широкая спектральная прозрачность: алмаз, легированный CVD бором, демонстрирует прозрачность в широком спектральном диапазоне, что делает его пригодным для применения в оптике и фотонике, например, в оптических окнах и линзах.
Размещение центров цвета. Алмаз, легированный бором, может содержать центры цвета, которые являются дефектами в решетке алмаза и обладают уникальными оптическими свойствами. Эти центры окраски находят применение в экспериментах по квантовой оптике и квантовой обработке информации.
Высокое напряжение пробоя: алмаз, легированный бором CVD, может выдерживать высокие напряжения пробоя, что делает его идеальным для мощных электронных устройств, работающих в суровых условиях.
Высокая мобильность носителей: легированный бором алмаз обладает высокой подвижностью носителей, что позволяет увеличить скорость переключения и повысить производительность электронных устройств.
Широкое потенциальное окно. Алмаз, легированный бором, имеет широкое потенциальное окно, составляющее примерно 3,5 В, что позволяет применять «избыточные потенциалы» для стимуляции высокоэнергетических химических реакций.
Низкие фоновые токи. Алмазные электроды, легированные бором, демонстрируют низкие фоновые токи при сканировании циклической вольтамперометрии из-за небольшого емкостного слоя на границе раздела, подобной полупроводнику, с растворами электролита.
Химическая инертность: алмаз, легированный бором методом CVD, химически инертен, что делает его устойчивым к коррозии и пригодным для работы в суровых условиях.
Квантовые свойства. Алмаз, легированный бором, имеет многообещающие применения в квантовых технологиях, таких как квантовые вычисления, квантовая связь и квантовое зондирование, благодаря длительному времени когерентности и способности размещать отдельные квантовые биты (кубиты) при комнатной температуре.
Принцип
Алмаз, легированный бором, создается путем химического осаждения из паровой фазы (CVD) путем введения атомов бора в решетку алмаза во время процесса выращивания CVD. Этот процесс легирования контролирует электропроводность материала, позволяя настраивать его от изоляционного до высокопроводящего.
Преимущества
Полупроводниковое поведение: легирование бором вводит носители заряда в решетку алмаза, позволяя контролировать электропроводность, от изолирующей до высокопроводящей, что делает его пригодным для различных электронных приложений.
Высокая теплопроводность: легированный бором алмаз обладает исключительной теплопроводностью, превосходящей другие полупроводники, что позволяет эффективно рассеивать тепло в мощных электронных устройствах, лазерных системах и микроэлектронике.
Широкая спектральная прозрачность: легированный бором алмаз демонстрирует прозрачность в широком спектральном диапазоне, от ультрафиолетового до инфракрасного, что делает его ценным для оптических окон, линз и приложений в оптике и фотонике.
Центры цвета. Алмаз, легированный бором, может содержать центры цвета, которые представляют собой дефекты атомного масштаба с уникальными оптическими и спиновыми свойствами. Эти центры цвета находят применение в квантовых технологиях, включая квантовые вычисления, квантовую связь и квантовое зондирование.
Химическая инертность: Алмаз, легированный бором, химически инертен, устойчив к суровым условиям и совместим с различными химическими веществами, что делает его пригодным для применения в агрессивных или экстремальных условиях.
Механическая твердость: алмаз, легированный бором, наследует исключительную механическую твердость алмаза, обеспечивая долговечность и устойчивость к износу даже в тяжелых условиях эксплуатации.
Индивидуальные электрические свойства: концентрацию атомов бора можно точно контролировать в процессе выращивания CVD, что позволяет настраивать электропроводность материала в широком диапазоне и оптимизировать его для конкретных применений.
Низкотемпературное осаждение: Процесс химического осаждения из паровой фазы (CVD) обычно проводится при низких температурах, что обеспечивает интеграцию с широким спектром подложек и совместимость с различными процессами изготовления устройств.
Промышленная совместимость: алмаз, легированный бором методом CVD, совместим с промышленными производственными процессами, что обеспечивает масштабируемое и экономически эффективное производство, что делает его пригодным для применения в больших объемах.
Спецификация
| Доступные размеры: | Диаметр 100 мм, толщина 0,3-2 мм. |
|---|---|
| Концентрация бора [B]: | От 2 до 6 x 1020 атомов/см3, в среднем более 0,16 мм2. |
| Объемное сопротивление (Rv): | от 2 до 1,8 x 10-3 Ом·м, ± 0,25 x 10-3 Ом·м |
| Окно растворителя: | >3,0 В |
FAQ
Каковы основные области применения алмазных материалов?
Каковы основные преимущества и области применения алмаза, легированного бором методом химического осаждения из паровой фазы (CVD)?
Каковы преимущества использования алмазных материалов в промышленности?
Что такое алмазный станок CVD?
Как достигается легирование бором при выращивании алмазных пленок?
Какие типы алмазных материалов доступны?
Какая связь между концентрацией атомов бора и электропроводностью алмазной пленки?
В чем заключается принцип использования алмазных материалов в режущих инструментах?
Как можно регулировать электропроводность алмазной пленки?
Почему синтетический алмаз предпочтительнее природного в промышленных применениях?
Каковы ограничения или проблемы, связанные с изготовлением алмазных пленок, легированных бором?
4.8
out of
5
I have been using this product for a while now and it has been great. The delivery was fast and the product is of great quality. I would definitely recommend this product to others.
4.7
out of
5
I am very happy with this product. It is well-made and durable. I would definitely buy it again.
4.9
out of
5
This product is amazing! It is so easy to use and it works great. I would definitely recommend it to anyone.
4.6
out of
5
This product is great! It is well-made and durable. I would definitely buy it again.
4.8
out of
5
I am very happy with this product. It is well-made and durable. I would definitely buy it again.
4.7
out of
5
This product is amazing! It is so easy to use and it works great. I would definitely recommend it to anyone.
4.9
out of
5
This product is great! It is well-made and durable. I would definitely buy it again.
4.6
out of
5
I am very happy with this product. It is well-made and durable. I would definitely buy it again.
4.8
out of
5
This product is amazing! It is so easy to use and it works great. I would definitely recommend it to anyone.
4.7
out of
5
This product is great! It is well-made and durable. I would definitely buy it again.
4.9
out of
5
I am very happy with this product. It is well-made and durable. I would definitely buy it again.
4.6
out of
5
This product is amazing! It is so easy to use and it works great. I would definitely recommend it to anyone.
4.8
out of
5
This product is great! It is well-made and durable. I would definitely buy it again.
4.7
out of
5
I am very happy with this product. It is well-made and durable. I would definitely buy it again.
ЗАПРОС ЦИТАТЫ
Наша профессиональная команда ответит вам в течение одного рабочего дня. Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!
Связанные товары
Откройте для себя алмазные купола CVD — идеальное решение для высокопроизводительных громкоговорителей. Изготовленные с использованием технологии DC Arc Plasma Jet, эти купольные колонки обеспечивают исключительное качество звука, долговечность и мощность.
Связанные статьи
Введение в химическое осаждение из паровой фазы (CVD)
Химическое осаждение из паровой фазы, или CVD, представляет собой процесс нанесения покрытия, который включает использование газообразных реагентов для получения тонких пленок и покрытий высокого качества.
Понимание алмазной машины CVD и того, как она работает
Процесс создания алмаза CVD (химическое осаждение из паровой фазы) включает осаждение атомов углерода на подложку с использованием химической реакции в газовой фазе. Процесс начинается с отбора высококачественных алмазных затравок, которые затем помещаются в камеру для выращивания вместе с газовой смесью, богатой углеродом.
Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) графена Проблемы и решения
Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) — широко распространенный метод производства высококачественного графена.
Преимущества и недостатки химического осаждения из паровой фазы (CVD)
Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) - это универсальный метод осаждения тонких пленок, широко используемый в различных отраслях промышленности. Изучите ее преимущества, недостатки и потенциальные новые применения.
Как CVD используется в полупроводниковой промышленности
CVD произвел революцию в полупроводниковой промышленности, позволив производить высокопроизводительные электронные устройства с улучшенной функциональностью и надежностью.
CVD-машины для нанесения тонких пленок
Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) — широко используемый метод осаждения тонких пленок на различные подложки.
Общие проблемы систем CVD и способы их решения
Понимание основ систем CVD и их важности имеет решающее значение для оптимизации процесса и решения общих проблем, возникающих во время эксплуатации.
Комплексное руководство по MPCVD: синтез алмазов и их применение
Изучите основы, преимущества и применение микроволнового плазменного химического осаждения из паровой фазы (MPCVD) в синтезе алмазов. Узнайте о его уникальных возможностях и о его сравнении с другими методами выращивания алмазов.
Почему PECVD необходима для производства микроэлектронных устройств
PECVD (химическое осаждение из паровой фазы с плазменным усилением) — это популярный метод осаждения тонких пленок, используемый в производстве устройств микроэлектроники.
Понимание метода PECVD
PECVD — это процесс химического осаждения из паровой фазы с усилением плазмы, который широко используется при производстве тонких пленок для различных применений.
Пошаговое руководство по процессу PECVD
PECVD — это тип процесса химического осаждения из паровой фазы, в котором используется плазма для усиления химических реакций между газофазными прекурсорами и подложкой.
Сравнение химического осаждения из паровой фазы и физического осаждения из паровой фазы
Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) VS физическое осаждение из паровой фазы (PVD)