CVD-материалы
Лабораторные алмазные материалы с легированием бором методом CVD
Артикул : cvdm-07
Цена может варьироваться в зависимости от спецификации и настройки
- Диаметр
- 100 мм
- толщина
- 0,3-2 мм
Доставка:
Свяжитесь с нами чтобы получить подробности о доставке. Наслаждайтесь Гарантия своевременной отправки.
Почему выбирают нас
Надежный партнерПростой процесс заказа, качественные продукты и специализированная поддержка для успеха вашего бизнеса.
Введение
Алмаз с легированием бором методом химического осаждения из газовой фазы (CVD) — это уникальный материал, сочетающий в себе исключительные свойства алмаза с контролируемой электропроводностью. Точное введение атомов бора в кристаллическую решетку алмаза во время роста методом CVD делает его универсальным материалом с настраиваемыми электрическими свойствами, от изоляционных до высокопроводящих. Это открывает возможности для разнообразного применения в электронике, датчиках, управлении тепловыми режимами, оптике и квантовых технологиях.
Применение
Алмаз с легированием бором методом химического осаждения из газовой фазы (CVD) — это универсальный материал с исключительными свойствами, предлагающий уникальные решения для задач в различных отраслях, от электроники до квантовых технологий. Его дальнейшее развитие и интеграция в различные приложения дают большие надежды на прогресс в технологиях и научных исследованиях в ближайшие годы.
- Электроника: мощные электронные устройства, высокочастотные транзисторы, диоды, полевые транзисторы (ПТ).
- Датчики: температуры, давления, излучения, состава газа.
- Управление тепловыми режимами: теплораспределители, радиаторы, решения для управления тепловыми режимами.
- Оптика и фотоника: оптические окна, линзы, подложки для экспериментов по квантовой оптике.
- Квантовые технологии: квантовые вычисления, квантовая связь, приложения квантовой сенсорики.
Характеристики
-
Исключительная теплопроводность: Алмаз с легированием бором методом CVD обладает выдающейся теплопроводностью, обеспечивая эффективное рассеивание тепла в мощной электронике, лазерных системах и микроэлектронике.
-
Регулируемая электропроводность: Благодаря точному контролю концентрации бора в процессе роста методом CVD, электропроводность алмаза с легированием бором методом CVD может быть настроена в широком диапазоне, от изоляционной до высокопроводящей.
-
Широкая спектральная прозрачность: Алмаз с легированием бором методом CVD демонстрирует прозрачность в широком спектральном диапазоне, что делает его подходящим для применения в оптике и фотонике, например, в качестве оптических окон и линз.
-
Хостинг цветовых центров: Алмаз с легированием бором может содержать цветовые центры — дефекты в кристаллической решетке алмаза, обладающие уникальными оптическими свойствами. Эти цветовые центры находят применение в экспериментах по квантовой оптике и обработке квантовой информации.
-
Высокое напряжение пробоя: Алмаз с легированием бором методом CVD способен выдерживать высокое напряжение пробоя, что делает его идеальным для мощных электронных устройств, работающих в суровых условиях.
-
Высокая подвижность носителей заряда: Алмаз с легированием бором обладает высокой подвижностью носителей заряда, что обеспечивает более высокую скорость переключения и улучшенную производительность электронных устройств.
-
Широкое потенциальное окно: Алмаз с легированием бором имеет широкое потенциальное окно примерно в 3,5 В, что позволяет применять "сверхпотенциалы" для стимуляции высокоэнергетических химических реакций.
-
Низкие фоновые токи: Электроды из алмаза с легированием бором демонстрируют низкие фоновые токи при сканировании циклической вольтамперометрии благодаря малой емкости слоя на полупроводниковом интерфейсе с электролитными растворами.
-
Химическая инертность: Алмаз с легированием бором методом CVD химически инертен, что делает его устойчивым к коррозии и подходящим для применения в суровых условиях.
-
Квантовые свойства: Алмаз с легированием бором имеет перспективные применения в квантовых технологиях, таких как квантовые вычисления, квантовая связь и квантовая сенсорика, благодаря своим длительным временам когерентности и способности размещать отдельные квантовые биты (кубиты) при комнатной температуре.
Принцип
Алмаз с легированием бором методом химического осаждения из газовой фазы (CVD) создается путем введения атомов бора в кристаллическую решетку алмаза в процессе роста методом CVD. Этот процесс легирования контролирует электропроводность материала, позволяя настраивать ее от изоляционной до высокопроводящей.
Преимущества
-
Полупроводниковое поведение: Легирование бором вводит носители заряда в кристаллическую решетку алмаза, позволяя контролировать электропроводность в диапазоне от изоляционной до высокопроводящей, что делает его пригодным для различных электронных применений.
-
Высокая теплопроводность: Алмаз с легированием бором обладает исключительной теплопроводностью, превосходящей другие полупроводники, что обеспечивает эффективное рассеивание тепла в мощных электронных устройствах, лазерных системах и микроэлектронике.
-
Широкая спектральная прозрачность: Алмаз с легированием бором демонстрирует прозрачность в широком спектральном диапазоне, от ультрафиолетового до инфракрасного, что делает его ценным для оптических окон, линз и применений в оптике и фотонике.
-
Цветовые центры: Алмаз с легированием бором может содержать цветовые центры — дефекты атомного масштаба с уникальными оптическими свойствами и свойствами спина. Эти цветовые центры находят применение в квантовых технологиях, включая квантовые вычисления, квантовую связь и квантовую сенсорику.
-
Химическая инертность: Алмаз с легированием бором химически инертен, устойчив к агрессивным средам и совместим с различными химическими веществами, что делает его подходящим для применения в коррозионных или экстремальных условиях.
-
Механическая твердость: Алмаз с легированием бором наследует исключительную механическую твердость алмаза, обеспечивая долговечность и устойчивость к износу даже в самых требовательных приложениях.
-
Настраиваемые электрические свойства: Концентрация атомов бора может быть точно контролируема в процессе роста методом CVD, что позволяет настраивать электропроводность материала в широком диапазоне и оптимизировать его для конкретных применений.
-
Низкотемпературное осаждение: Процесс химического осаждения из газовой фазы (CVD) обычно проводится при низких температурах, что позволяет интегрировать его с широким спектром подложек и обеспечивает совместимость с различными процессами изготовления устройств.
-
Промышленная совместимость: Алмаз с легированием бором методом CVD совместим с промышленными производственными процессами, что обеспечивает масштабируемое и экономически эффективное производство, делая его пригодным для крупносерийных применений.
Спецификация
| Доступные размеры: | Диаметр 100 мм, толщина 0,3-2 мм |
|---|---|
| Концентрация бора [B]: | От 2 до 6 x 10^20 атомов/см³, усреднено по площади 0,16 мм² |
| Объемное удельное сопротивление (Rv): | От 2 до 1,8 x 10^-3 Ом·м, ± 0,25 x 10^-3 Ом·м |
| Растворяющее окно: | >3,0 В |
FAQ
Каковы основные области применения алмазных материалов?
Каковы основные преимущества и области применения алмаза, легированного бором методом химического осаждения из паровой фазы (CVD)?
Каковы преимущества использования алмазных материалов в промышленности?
Что такое алмазный станок CVD?
Как достигается легирование бором при выращивании алмазных пленок?
Какие типы алмазных материалов доступны?
Какая связь между концентрацией атомов бора и электропроводностью алмазной пленки?
В чем заключается принцип использования алмазных материалов в режущих инструментах?
Как можно регулировать электропроводность алмазной пленки?
Почему синтетический алмаз предпочтительнее природного в промышленных применениях?
Каковы ограничения или проблемы, связанные с изготовлением алмазных пленок, легированных бором?
4.8
out of
5
I have been using this product for a while now and it has been great. The delivery was fast and the product is of great quality. I would definitely recommend this product to others.
4.7
out of
5
I am very happy with this product. It is well-made and durable. I would definitely buy it again.
4.9
out of
5
This product is amazing! It is so easy to use and it works great. I would definitely recommend it to anyone.
4.6
out of
5
This product is great! It is well-made and durable. I would definitely buy it again.
4.8
out of
5
I am very happy with this product. It is well-made and durable. I would definitely buy it again.
4.7
out of
5
This product is amazing! It is so easy to use and it works great. I would definitely recommend it to anyone.
4.9
out of
5
This product is great! It is well-made and durable. I would definitely buy it again.
4.6
out of
5
I am very happy with this product. It is well-made and durable. I would definitely buy it again.
4.8
out of
5
This product is amazing! It is so easy to use and it works great. I would definitely recommend it to anyone.
4.7
out of
5
This product is great! It is well-made and durable. I would definitely buy it again.
4.9
out of
5
I am very happy with this product. It is well-made and durable. I would definitely buy it again.
4.6
out of
5
This product is amazing! It is so easy to use and it works great. I would definitely recommend it to anyone.
4.8
out of
5
This product is great! It is well-made and durable. I would definitely buy it again.
4.7
out of
5
I am very happy with this product. It is well-made and durable. I would definitely buy it again.
ЗАПРОС ЦИТАТЫ
Наша профессиональная команда ответит вам в течение одного рабочего дня. Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!
Связанные товары
Алмазные купола из CVD для промышленных и научных применений
Откройте для себя алмазные купола из CVD — идеальное решение для высокопроизводительных громкоговорителей. Изготовленные по технологии плазменной струи с дуговым разрядом постоянного тока, эти купола обеспечивают исключительное качество звука, долговечность и мощность.
Связанные статьи
Введение в химическое осаждение из паровой фазы (CVD)
Химическое осаждение из паровой фазы, или CVD, представляет собой процесс нанесения покрытия, который включает использование газообразных реагентов для получения тонких пленок и покрытий высокого качества.
Понимание алмазной машины CVD и того, как она работает
Процесс создания алмаза CVD (химическое осаждение из паровой фазы) включает осаждение атомов углерода на подложку с использованием химической реакции в газовой фазе. Процесс начинается с отбора высококачественных алмазных затравок, которые затем помещаются в камеру для выращивания вместе с газовой смесью, богатой углеродом.
Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) графена Проблемы и решения
Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) — широко распространенный метод производства высококачественного графена.
Преимущества и недостатки химического осаждения из паровой фазы (CVD)
Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) - это универсальный метод осаждения тонких пленок, широко используемый в различных отраслях промышленности. Изучите ее преимущества, недостатки и потенциальные новые применения.
Как CVD используется в полупроводниковой промышленности
CVD произвел революцию в полупроводниковой промышленности, позволив производить высокопроизводительные электронные устройства с улучшенной функциональностью и надежностью.
CVD-машины для нанесения тонких пленок
Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) — широко используемый метод осаждения тонких пленок на различные подложки.
Общие проблемы систем CVD и способы их решения
Понимание основ систем CVD и их важности имеет решающее значение для оптимизации процесса и решения общих проблем, возникающих во время эксплуатации.
Комплексное руководство по MPCVD: синтез алмазов и их применение
Изучите основы, преимущества и применение микроволнового плазменного химического осаждения из паровой фазы (MPCVD) в синтезе алмазов. Узнайте о его уникальных возможностях и о его сравнении с другими методами выращивания алмазов.
Почему PECVD необходима для производства микроэлектронных устройств
PECVD (химическое осаждение из паровой фазы с плазменным усилением) — это популярный метод осаждения тонких пленок, используемый в производстве устройств микроэлектроники.
Понимание метода PECVD
PECVD — это процесс химического осаждения из паровой фазы с усилением плазмы, который широко используется при производстве тонких пленок для различных применений.
Пошаговое руководство по процессу PECVD
PECVD — это тип процесса химического осаждения из паровой фазы, в котором используется плазма для усиления химических реакций между газофазными прекурсорами и подложкой.
Сравнение химического осаждения из паровой фазы и физического осаждения из паровой фазы
Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) VS физическое осаждение из паровой фазы (PVD)