Знание Какие материалы подвергаются прямому энергетическому осаждению? (Объяснение 7 основных методов)
Аватар автора

Техническая команда · Kintek Solution

Обновлено 1 месяц назад

Какие материалы подвергаются прямому энергетическому осаждению? (Объяснение 7 основных методов)

Прямое энергетическое осаждение (DED) - это процесс, в котором используются источники высокой энергии для расплавления и осаждения материалов непосредственно на подложку.

Материалы, используемые в DED, могут быть самыми разными, но обычно включают металлы, керамику и некоторые композиты.

Вот основные методы и материалы, используемые при прямом энергетическом осаждении:

1. Плазменное осаждение

Какие материалы подвергаются прямому энергетическому осаждению? (Объяснение 7 основных методов)

Плазменное осаждение использует высокоэнергетические заряженные частицы из плазмы для высвобождения атомов из материала-мишени.

Состав целевого материала определяет материал, который будет осажден на подложку.

Обычные материалы, используемые в плазменном осаждении, включают различные металлы и керамику.

2. Осаждение электронным лучом

Этот метод предполагает использование магнита для фокусировки электронов в пучок, который направляется в тигель, содержащий интересующий вас материал.

Энергия электронного пучка заставляет материал испаряться, а пары покрывают подложку.

Материалами, пригодными для осаждения электронным пучком, обычно являются металлы и керамика, способные выдерживать высокие температуры и прямое взаимодействие с электронным пучком.

3. Осаждение с помощью катодной дуги

В этом методе на материал мишени подается мощная электрическая дуга, в результате чего часть материала превращается в высокоионизированный пар, который затем осаждается на заготовку.

Обычные материалы включают металлы и некоторые сплавы.

4. Электронно-лучевое физическое осаждение паров (EB-PVD)

В этом процессе материал, подлежащий осаждению, нагревается до высокого давления пара с помощью электронной бомбардировки в высоком вакууме.

Затем испаренный материал переносится путем диффузии и осаждается путем конденсации на более холодной заготовке.

К материалам, пригодным для EB-PVD, относятся металлы и некоторые керамические соединения.

5. Испарительное осаждение

В этом методе материал, подлежащий осаждению, нагревается до высокого давления пара с помощью электрического резистивного нагрева в высоком вакууме.

В качестве материалов для испарительного осаждения обычно используются металлы и некоторые виды керамики с низкой температурой плавления.

6. Осаждение напылением

Тлеющий плазменный разряд бомбардирует целевой материал, распыляя часть его в виде пара для последующего осаждения.

Этот метод позволяет осаждать широкий спектр материалов, включая металлы, сплавы и некоторые виды керамики.

7. Импульсное лазерное осаждение (PLD)

Мощный лазер сжигает материал с мишени в пар, который затем осаждается на подложку.

PLD универсален и может использоваться с различными материалами, включая сложные оксиды и другие керамические материалы.

Каждый из этих методов позволяет осаждать определенные материалы в зависимости от их тепловых свойств и энергетических требований метода осаждения.

Выбор материала и метода осаждения зависит от желаемых свойств конечного продукта, таких как плотность, адгезия и общая целостность материала.

Продолжайте исследования, обратитесь к нашим специалистам

Откройте для себя революционный потенциал прямого энергетического осаждения вместе с KINTEK SOLUTION!

Наши передовые материалы и технологии предназначены для преобразования ваших потребностей в точном машиностроении с беспрецедентной скоростью и эффективностью.

От металлов до керамики и не только, изучите наш набор методов осаждения - плазму, электронный луч, катодную дугу, PVD, напыление и импульсный лазер - чтобы раскрыть весь потенциал ваших подложек.

Доверьте KINTEK SOLUTION поставку высококачественных материалов и экспертные решения для ваших уникальных требований к проекту.

Свяжитесь с нами сегодня, чтобы расширить свои производственные возможности!

Связанные товары

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Усовершенствуйте свой процесс нанесения покрытий с помощью оборудования для нанесения покрытий методом PECVD. Идеально подходит для производства светодиодов, силовых полупроводников, МЭМС и многого другого. Осаждает высококачественные твердые пленки при низких температурах.

Мишень для распыления из медно-циркониевого сплава (CuZr) / порошок / проволока / блок / гранула

Мишень для распыления из медно-циркониевого сплава (CuZr) / порошок / проволока / блок / гранула

Откройте для себя наш ассортимент материалов из медно-циркониевого сплава по доступным ценам с учетом ваших уникальных требований. Просмотрите наш выбор мишеней для распыления, покрытий, порошков и многого другого.

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

RF-PECVD - это аббревиатура от "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". С его помощью на германиевые и кремниевые подложки наносится пленка DLC (алмазоподобного углерода). Он используется в инфракрасном диапазоне длин волн 3-12um.

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Фильера для нанесения наноалмазного композитного покрытия использует цементированный карбид (WC-Co) в качестве подложки, а для нанесения обычного алмаза и наноалмазного композитного покрытия на поверхность внутреннего отверстия пресс-формы используется метод химической паровой фазы (сокращенно CVD-метод).

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Узнайте о машине MPCVD с цилиндрическим резонатором - методе микроволнового плазмохимического осаждения из паровой фазы, который используется для выращивания алмазных камней и пленок в ювелирной и полупроводниковой промышленности. Узнайте о его экономически эффективных преимуществах по сравнению с традиционными методами HPHT.

Мишень для распыления углерода высокой чистоты (C) / порошок / проволока / блок / гранула

Мишень для распыления углерода высокой чистоты (C) / порошок / проволока / блок / гранула

Ищете недорогие углеродные (C) материалы для нужд вашей лаборатории? Не смотрите дальше! Наши искусно изготовленные и изготовленные по индивидуальному заказу материалы бывают различных форм, размеров и чистоты. Выбирайте мишени для распыления, материалы для покрытий, порошки и многое другое.

Цель/порошок/проволока/блок/гранулы для распыления циркония высокой чистоты (Zr)

Цель/порошок/проволока/блок/гранулы для распыления циркония высокой чистоты (Zr)

Ищете высококачественные циркониевые материалы для своей лаборатории? Наш ассортимент доступных по цене продуктов включает мишени для распыления, покрытия, порошки и многое другое, адаптированное к вашим уникальным требованиям. Свяжитесь с нами сегодня!

Мишень для распыления карбида бора (BC) / порошок / проволока / блок / гранула

Мишень для распыления карбида бора (BC) / порошок / проволока / блок / гранула

Получите высококачественные материалы из карбида бора по разумным ценам для нужд вашей лаборатории. Мы изготавливаем материалы BC различной чистоты, формы и размера, включая мишени для распыления, покрытия, порошки и многое другое.

Колокольный резонатор MPCVD Машина для лаборатории и выращивания алмазов

Колокольный резонатор MPCVD Машина для лаборатории и выращивания алмазов

Получите высококачественные алмазные пленки с помощью нашей машины MPCVD с резонатором Bell-jar Resonator, предназначенной для лабораторного выращивания и выращивания алмазов. Узнайте, как микроволновое плазменно-химическое осаждение из паровой фазы работает для выращивания алмазов с использованием углекислого газа и плазмы.

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Технология, в основном используемая в области силовой электроники. Это графитовая пленка, изготовленная из исходного углеродного материала путем осаждения материала с использованием электронно-лучевой технологии.

Электронно-лучевой тигель

Электронно-лучевой тигель

В контексте испарения с помощью электронного луча тигель представляет собой контейнер или держатель источника, используемый для хранения и испарения материала, который должен быть нанесен на подложку.

Наклонная ротационная машина для трубчатой печи с плазменным осаждением (PECVD)

Наклонная ротационная машина для трубчатой печи с плазменным осаждением (PECVD)

Представляем нашу наклонную вращающуюся печь PECVD для точного осаждения тонких пленок. Наслаждайтесь автоматическим согласованием источника, программируемым ПИД-регулятором температуры и высокоточным управлением массовым расходомером MFC. Встроенные функции безопасности для вашего спокойствия.

CVD-алмазное покрытие

CVD-алмазное покрытие

Алмазное покрытие CVD: превосходная теплопроводность, качество кристаллов и адгезия для режущих инструментов, трения и акустических применений.

Электронно-лучевое напыление покрытия бескислородного медного тигля

Электронно-лучевое напыление покрытия бескислородного медного тигля

При использовании методов электронно-лучевого испарения использование тиглей из бескислородной меди сводит к минимуму риск загрязнения кислородом в процессе испарения.

Испарение электронного луча покрывая вольфрамовый тигель/тигель молибдена

Испарение электронного луча покрывая вольфрамовый тигель/тигель молибдена

Вольфрамовые и молибденовые тигли широко используются в процессах электронно-лучевого испарения благодаря их превосходным термическим и механическим свойствам.

Скользящая трубчатая печь PECVD с жидким газификатором PECVD машина

Скользящая трубчатая печь PECVD с жидким газификатором PECVD машина

Система KT-PE12 Slide PECVD: широкий диапазон мощностей, программируемый контроль температуры, быстрый нагрев/охлаждение с помощью скользящей системы, контроль массового расхода MFC и вакуумный насос.

Высокоточный станок для резки алмазной проволокой

Высокоточный станок для резки алмазной проволокой

Высокоточный станок для резки алмазной проволокой — это универсальный и точный режущий инструмент, разработанный специально для исследователей материалов. В нем используется механизм непрерывной резки алмазным канатом, обеспечивающий точную резку хрупких материалов, таких как керамика, кристаллы, стекло, металлы, камни и различные другие материалы.

CVD-алмаз для терморегулирования

CVD-алмаз для терморегулирования

CVD-алмаз для управления температурным режимом: высококачественный алмаз с теплопроводностью до 2000 Вт/мК, идеально подходящий для теплоотводов, лазерных диодов и приложений GaN на алмазе (GOD).

915MHz MPCVD алмазная машина

915MHz MPCVD алмазная машина

915MHz MPCVD Diamond Machine и его многокристальный эффективный рост, максимальная площадь может достигать 8 дюймов, максимальная эффективная площадь роста монокристалла может достигать 5 дюймов. Это оборудование в основном используется для производства поликристаллических алмазных пленок большого размера, роста длинных монокристаллов алмазов, низкотемпературного роста высококачественного графена и других материалов, для роста которых требуется энергия, предоставляемая микроволновой плазмой.

Заготовки режущего инструмента

Заготовки режущего инструмента

Алмазные режущие инструменты CVD: превосходная износостойкость, низкое трение, высокая теплопроводность для обработки цветных металлов, керамики, композитов

CVD-алмаз, легированный бором

CVD-алмаз, легированный бором

Алмаз, легированный CVD бором: универсальный материал, обеспечивающий индивидуальную электропроводность, оптическую прозрачность и исключительные тепловые свойства для применения в электронике, оптике, сенсорных и квантовых технологиях.


Оставьте ваше сообщение

Ярлык

Общайтесь с нами для быстрого и прямого общения.

Немедленный ответ в рабочие дни (в течение 8 часов в праздничные дни)