Знание Что такое вакуумное осаждение или вакуумное термическое испарение VTE?
Аватар автора

Техническая команда · Kintek Solution

Обновлено 1 неделю назад

Что такое вакуумное осаждение или вакуумное термическое испарение VTE?

Вакуумное напыление, в частности термическое испарение или вакуумное термическое испарение (VTE), - это метод, используемый в производстве и научных исследованиях для нанесения тонких пленок материала на подложку. Этот процесс включает в себя нагревание материала в вакуумной камере до тех пор, пока он не испарится, а затем сконденсируется на подложке.

Процесс:

Процесс термического испарения начинается с вакуумной камеры, обычно изготовленной из нержавеющей стали, в которой находится тигель или лодочка из огнеупорных материалов, таких как вольфрам или молибден. Материал для осаждения, называемый испарителем, помещается в этот тигель или лодочку. Вакуумная среда очень важна, поскольку она предотвращает столкновение испаряемого материала с молекулами газа, обеспечивая чистоту процесса осаждения. Давление вакуума варьируется от 10^-5 до 10^-9 Торр, в зависимости от желаемого уровня загрязнения осаждаемой пленки. Для эффективного осаждения давление паров материала должно достигать не менее 10 мТорр.Методы испарения:

  1. Термическое испарение может быть достигнуто двумя основными методами:
  2. Электрический нагрев: Этот метод предполагает нагревание материала с помощью электрически нагретых проводов или в тиглях, изготовленных из материалов с более высокой температурой плавления. Этот метод подходит для материалов, которые не имеют чрезвычайно высоких точек плавления.

Нагрев электронным лучом: Для материалов с более высокой температурой плавления можно использовать электронный луч для нагрева и испарения материала. Этот метод позволяет точно контролировать процесс нагрева и подходит для более широкого спектра материалов.

Вакуумные условия:

Необходимое базовое давление в устройстве для нанесения покрытий обычно составляет от 10^-7 до 10^-5 мбар, в зависимости от качества требуемого слоя. Такая высокая вакуумная среда необходима для физического осаждения из паровой фазы (PVD), обеспечивая осаждение материала на подложку без вмешательства молекул газа.

Области применения:

Связанные товары

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Усовершенствуйте свой процесс нанесения покрытий с помощью оборудования для нанесения покрытий методом PECVD. Идеально подходит для производства светодиодов, силовых полупроводников, МЭМС и многого другого. Осаждает высококачественные твердые пленки при низких температурах.

Универсальная трубчатая печь CVD, изготовленная по индивидуальному заказу CVD-машина

Универсальная трубчатая печь CVD, изготовленная по индивидуальному заказу CVD-машина

Получите свою эксклюзивную печь CVD с универсальной печью KT-CTF16, изготовленной по индивидуальному заказу. Настраиваемые функции скольжения, вращения и наклона для точной реакции. Заказать сейчас!

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

RF-PECVD - это аббревиатура от "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". С его помощью на германиевые и кремниевые подложки наносится пленка DLC (алмазоподобного углерода). Он используется в инфракрасном диапазоне длин волн 3-12um.

Тигель для выпаривания графита

Тигель для выпаривания графита

Сосуды для высокотемпературных применений, где материалы выдерживаются при чрезвычайно высоких температурах для испарения, что позволяет наносить тонкие пленки на подложки.

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Технология, в основном используемая в области силовой электроники. Это графитовая пленка, изготовленная из исходного углеродного материала путем осаждения материала с использованием электронно-лучевой технологии.

Вакуумная левитация Индукционная плавильная печь Дуговая плавильная печь

Вакуумная левитация Индукционная плавильная печь Дуговая плавильная печь

Испытайте точную плавку с нашей плавильной печью с вакуумной левитацией. Идеально подходит для металлов или сплавов с высокой температурой плавления, с передовой технологией для эффективной плавки. Закажите прямо сейчас, чтобы получить качественный результат.

Вертикальная трубчатая печь

Вертикальная трубчатая печь

Повысьте уровень своих экспериментов с помощью нашей вертикальной трубчатой печи. Универсальная конструкция позволяет работать в различных условиях и при различных видах термообработки. Закажите сейчас, чтобы получить точные результаты!

Вакуумная трубчатая печь горячего прессования

Вакуумная трубчатая печь горячего прессования

Уменьшите давление формования и сократите время спекания с помощью вакуумной трубчатой печи для горячего прессования высокоплотных и мелкозернистых материалов. Идеально подходит для тугоплавких металлов.

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Узнайте о машине MPCVD с цилиндрическим резонатором - методе микроволнового плазмохимического осаждения из паровой фазы, который используется для выращивания алмазных камней и пленок в ювелирной и полупроводниковой промышленности. Узнайте о его экономически эффективных преимуществах по сравнению с традиционными методами HPHT.

Испарительная лодочка из алюминированной керамики

Испарительная лодочка из алюминированной керамики

Сосуд для нанесения тонких пленок; имеет керамический корпус с алюминиевым покрытием для повышения термической эффективности и химической стойкости. что делает его пригодным для различных приложений.

Набор керамических испарительных лодочек

Набор керамических испарительных лодочек

Его можно использовать для осаждения из паровой фазы различных металлов и сплавов. Большинство металлов можно полностью испарить без потерь. Испарительные корзины многоразовые.

Электронно-лучевой тигель

Электронно-лучевой тигель

В контексте испарения с помощью электронного луча тигель представляет собой контейнер или держатель источника, используемый для хранения и испарения материала, который должен быть нанесен на подложку.

Электронно-лучевое напыление покрытия бескислородного медного тигля

Электронно-лучевое напыление покрытия бескислородного медного тигля

При использовании методов электронно-лучевого испарения использование тиглей из бескислородной меди сводит к минимуму риск загрязнения кислородом в процессе испарения.

Молибден/Вольфрам/Тантал Испарительная Лодка

Молибден/Вольфрам/Тантал Испарительная Лодка

Лодочные источники испарения используются в системах термического испарения и подходят для осаждения различных металлов, сплавов и материалов. Испарительные лодочки доступны из вольфрама, тантала и молибдена различной толщины, что обеспечивает совместимость с различными источниками энергии. В качестве контейнера используется для вакуумного испарения материалов. Их можно использовать для осаждения тонких пленок различных материалов или спроектировать так, чтобы они были совместимы с такими методами, как изготовление электронным лучом.

Испарение электронного луча покрывая вольфрамовый тигель/тигель молибдена

Испарение электронного луча покрывая вольфрамовый тигель/тигель молибдена

Вольфрамовые и молибденовые тигли широко используются в процессах электронно-лучевого испарения благодаря их превосходным термическим и механическим свойствам.

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Фильера для нанесения наноалмазного композитного покрытия использует цементированный карбид (WC-Co) в качестве подложки, а для нанесения обычного алмаза и наноалмазного композитного покрытия на поверхность внутреннего отверстия пресс-формы используется метод химической паровой фазы (сокращенно CVD-метод).


Оставьте ваше сообщение