Знание Что представляет собой метод конденсации паров для получения наночастиц?
Аватар автора

Техническая команда · Kintek Solution

Обновлено 3 месяца назад

Что представляет собой метод конденсации паров для получения наночастиц?

Метод конденсации паров для получения наночастиц предполагает испарение металлических или неорганических материалов из источника испарения в присутствии атмосферы инертного газа. Этот процесс известен как конденсация в инертном газе. Затем испарившиеся атомы металла или неорганического материала быстро конденсируются на холодной поверхности, образуя наночастицы.

В методе конденсации в инертном газе пары прекурсора пропускаются через реактор с горячими стенками. Прекурсор разлагается, и в газовой фазе зарождаются наночастицы. Эти наночастицы переносятся газовым потоком и собираются на холодном пальце. Размер наночастиц определяется такими факторами, как время пребывания частиц, температура в камере, состав прекурсора и давление.

Другим методом получения наночастиц является лазерная абляция. Этот метод предполагает расплавление материала, подлежащего осаждению, с помощью соответствующего лазера. Затем материал испаряется, и наночастицы осаждаются на подложках.

Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) также является широко распространенным методом синтеза наночастиц. При CVD прекурсоры в виде паров вступают в реакцию или разлагаются на подложке в вакуумированной камере при повышенной температуре. Этот процесс может осуществляться как с катализаторами, так и без них и имеет различные варианты, такие как CVD при низком давлении, CVD при атмосферном давлении, CVD с горячими стенками, CVD с холодными стенками, CVD с плазменным усилением, CVD с фотоусилением и CVD с лазерным усилением.

Химическое осаждение из паровой фазы - это метод "снизу вверх", при котором один или несколько газообразных адсорбционных видов реагируют или разлагаются на горячей поверхности с образованием стабильных твердых продуктов. Он известен своей способностью создавать чистые тонкие пленки или наночастицы, высоким выходом продукции и простотой масштабирования.

В целом пароконденсационный метод получения наночастиц предполагает испарение материалов с последующей быстрой конденсацией на холодной поверхности. Этот метод может быть реализован с помощью технологий конденсации в инертном газе, лазерной абляции или химического осаждения из паровой фазы. Каждый метод имеет свои преимущества и параметры, которые можно регулировать для контроля размера и свойств получаемых наночастиц.

Хотите получить высококачественные наночастицы и тонкие пленки? Обратите внимание на компанию KINTEK - надежного поставщика лабораторного оборудования. Благодаря современным методам конденсации паров, таким как конденсация в инертном газе, лазерная абляция и химическое осаждение из паровой фазы (CVD), мы предоставим вам все необходимые инструменты для точного и эффективного синтеза наночастиц. Поднимите свои исследования на новый уровень вместе с KINTEK. Свяжитесь с нами сегодня, чтобы узнать о наших инновационных решениях!

Связанные товары

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Фильера для нанесения наноалмазного композитного покрытия использует цементированный карбид (WC-Co) в качестве подложки, а для нанесения обычного алмаза и наноалмазного композитного покрытия на поверхность внутреннего отверстия пресс-формы используется метод химической паровой фазы (сокращенно CVD-метод).

CVD-алмазное покрытие

CVD-алмазное покрытие

Алмазное покрытие CVD: превосходная теплопроводность, качество кристаллов и адгезия для режущих инструментов, трения и акустических применений.

Молекулярная дистилляция

Молекулярная дистилляция

С легкостью очищайте и концентрируйте натуральные продукты, используя наш процесс молекулярной дистилляции. Высокое давление вакуума, низкие рабочие температуры и короткое время нагрева позволяют сохранить естественное качество материалов и добиться превосходного разделения. Откройте для себя преимущества уже сегодня!

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Узнайте о машине MPCVD с цилиндрическим резонатором - методе микроволнового плазмохимического осаждения из паровой фазы, который используется для выращивания алмазных камней и пленок в ювелирной и полупроводниковой промышленности. Узнайте о его экономически эффективных преимуществах по сравнению с традиционными методами HPHT.

CVD-алмаз, легированный бором

CVD-алмаз, легированный бором

Алмаз, легированный CVD бором: универсальный материал, обеспечивающий индивидуальную электропроводность, оптическую прозрачность и исключительные тепловые свойства для применения в электронике, оптике, сенсорных и квантовых технологиях.

Жидкий азот криогенная вибрационная шаровая мельница

Жидкий азот криогенная вибрационная шаровая мельница

Kt-VBM100 - это лабораторная настольная высокопроизводительная вибрационная шаровая мельница и просеиватель двойного назначения, небольшой и легкий прибор. Виброплатформа с частотой вибрации 36 000 раз/мин обеспечивает энергию.

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

RF-PECVD - это аббревиатура от "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". С его помощью на германиевые и кремниевые подложки наносится пленка DLC (алмазоподобного углерода). Он используется в инфракрасном диапазоне длин волн 3-12um.

Колокольный резонатор MPCVD Машина для лаборатории и выращивания алмазов

Колокольный резонатор MPCVD Машина для лаборатории и выращивания алмазов

Получите высококачественные алмазные пленки с помощью нашей машины MPCVD с резонатором Bell-jar Resonator, предназначенной для лабораторного выращивания и выращивания алмазов. Узнайте, как микроволновое плазменно-химическое осаждение из паровой фазы работает для выращивания алмазов с использованием углекислого газа и плазмы.

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Усовершенствуйте свой процесс нанесения покрытий с помощью оборудования для нанесения покрытий методом PECVD. Идеально подходит для производства светодиодов, силовых полупроводников, МЭМС и многого другого. Осаждает высококачественные твердые пленки при низких температурах.

Вакуумная индукционная плавильная прядильная система Дуговая плавильная печь

Вакуумная индукционная плавильная прядильная система Дуговая плавильная печь

С легкостью создавайте метастабильные материалы с помощью нашей системы вакуумного прядения расплава. Идеально подходит для исследований и экспериментальных работ с аморфными и микрокристаллическими материалами. Закажите сейчас для эффективных результатов.

20 л перегонки по короткому пути

20 л перегонки по короткому пути

Эффективно извлекайте и очищайте смешанные жидкости с помощью нашей 20-литровой системы дистилляции с коротким путем. Высокий вакуум и низкотемпературный нагрев для оптимальных результатов.

2 л перегонки по короткому пути

2 л перегонки по короткому пути

Извлекайте и очищайте с легкостью, используя наш 2-литровый комплект для перегонки с коротким путем. Наша сверхпрочная посуда из боросиликатного стекла, колбонагреватель с быстрым нагревом и тонкое приспособление обеспечивают эффективную и качественную дистилляцию. Откройте для себя преимущества уже сегодня!

CVD-алмаз для терморегулирования

CVD-алмаз для терморегулирования

CVD-алмаз для управления температурным режимом: высококачественный алмаз с теплопроводностью до 2000 Вт/мК, идеально подходящий для теплоотводов, лазерных диодов и приложений GaN на алмазе (GOD).

Универсальная трубчатая печь CVD, изготовленная по индивидуальному заказу CVD-машина

Универсальная трубчатая печь CVD, изготовленная по индивидуальному заказу CVD-машина

Получите свою эксклюзивную печь CVD с универсальной печью KT-CTF16, изготовленной по индивидуальному заказу. Настраиваемые функции скольжения, вращения и наклона для точной реакции. Заказать сейчас!

Испарительный тигель для органических веществ

Испарительный тигель для органических веществ

Тигель для выпаривания органических веществ, называемый тиглем для выпаривания, представляет собой контейнер для выпаривания органических растворителей в лабораторных условиях.

Электронно-лучевой тигель

Электронно-лучевой тигель

В контексте испарения с помощью электронного луча тигель представляет собой контейнер или держатель источника, используемый для хранения и испарения материала, который должен быть нанесен на подложку.

Вакуумная левитация Индукционная плавильная печь Дуговая плавильная печь

Вакуумная левитация Индукционная плавильная печь Дуговая плавильная печь

Испытайте точную плавку с нашей плавильной печью с вакуумной левитацией. Идеально подходит для металлов или сплавов с высокой температурой плавления, с передовой технологией для эффективной плавки. Закажите прямо сейчас, чтобы получить качественный результат.

Вакуумная индукционная плавильная печь Дуговая плавильная печь

Вакуумная индукционная плавильная печь Дуговая плавильная печь

Получите точный состав сплава с помощью нашей вакуумной индукционной плавильной печи. Идеально подходит для аэрокосмической промышленности, атомной энергетики и электронной промышленности. Закажите сейчас для эффективной плавки и литья металлов и сплавов.

915MHz MPCVD алмазная машина

915MHz MPCVD алмазная машина

915MHz MPCVD Diamond Machine и его многокристальный эффективный рост, максимальная площадь может достигать 8 дюймов, максимальная эффективная площадь роста монокристалла может достигать 5 дюймов. Это оборудование в основном используется для производства поликристаллических алмазных пленок большого размера, роста длинных монокристаллов алмазов, низкотемпературного роста высококачественного графена и других материалов, для роста которых требуется энергия, предоставляемая микроволновой плазмой.

1-5л одиночный стеклянный реактор

1-5л одиночный стеклянный реактор

Найдите идеальную систему стеклянного реактора для синтетических реакций, дистилляции и фильтрации. Выберите объем от 1 до 200 л, регулируемое перемешивание и контроль температуры, а также пользовательские параметры. KinTek поможет вам!

80-150 л одинарный стеклянный реактор

80-150 л одинарный стеклянный реактор

Ищете стеклянный реактор для своей лаборатории? Наш стеклянный реактор объемом 80-150 л предлагает регулируемую температуру, скорость и механические функции для синтетических реакций, дистилляции и многого другого. Благодаря настраиваемым параметрам и специализированным услугам KinTek поможет вам.

Стеклянный реактор с рубашкой 80-150 л

Стеклянный реактор с рубашкой 80-150 л

Ищете универсальную систему реакторов со стеклянным кожухом для вашей лаборатории? Наш реактор объемом 80-150 л предлагает регулируемую температуру, скорость и механические функции для синтетических реакций, дистилляции и многого другого. Благодаря настраиваемым параметрам и специализированным услугам KinTek поможет вам.


Оставьте ваше сообщение