Знание Что такое метод термического испарения? 4 ключевых этапа
Аватар автора

Техническая команда · Kintek Solution

Обновлено 4 недели назад

Что такое метод термического испарения? 4 ключевых этапа

Термическое испарение - это метод физического осаждения из паровой фазы.

Она предполагает нагрев материала до температуры испарения в условиях высокого вакуума.

В результате материал испаряется, а затем конденсируется на подложке, образуя тонкую пленку.

Этот метод широко используется благодаря своей простоте и возможности наносить различные материалы, такие как алюминий, серебро, никель, хром и магний.

Что такое метод термического испарения? Объяснение 4 основных этапов

Что такое метод термического испарения? 4 ключевых этапа

1. Процесс нагревания

Материал нагревается до высокой температуры.

Обычно для этого используется нагрев по Джоулю через резистивную лодку или прямой нагрев сфокусированным пучком высокоэнергетических электронов (электронно-лучевое испарение).

Такая высокая температура необходима для испарения материала.

Испарение достигается путем сублимации или кипячения материала.

2. Перенос паров

После испарения молекулы материала переносятся от источника к подложке.

Этот перенос происходит в высоковакуумной среде.

Высоковакуумная среда необходима для предотвращения взаимодействия паров с молекулами воздуха.

Она также обеспечивает чистоту процесса осаждения.

3. Осаждение и конденсация

Испаренные молекулы достигают подложки и конденсируются, образуя тонкую пленку.

Процесс конденсации очень важен, поскольку он определяет качество и однородность пленки.

Толщину и свойства пленки можно контролировать, регулируя скорость испарения и продолжительность процесса.

4. Повторяемость и рост

Для выращивания тонкой пленки до желаемой толщины можно проводить несколько циклов испарения и конденсации.

Такая повторяемость является значительным преимуществом термического испарения.

Она позволяет точно контролировать характеристики пленки.

Термическое испарение особенно полезно как в лабораторных, так и в промышленных условиях для нанесения тонких пленок.

Оно отличается простотой эксплуатации и широким спектром обрабатываемых материалов.

Это одна из старейших вакуумных технологий нанесения покрытий, которая не теряет своей актуальности благодаря своей эффективности и универсальности.

Продолжайте изучать, проконсультируйтесь с нашими специалистами

Откройте для себя точность и универсальность термического испарения с помощью самого современного оборудования KINTEK SOLUTION.

Получите тонкие пленки высочайшего качества благодаря нашим передовым процессам нагрева, переноса паров и конденсации.

С KINTEK вы откроете мир возможностей для таких материалов, как алюминий, серебро, никель, хром и магний.

Доверьтесь нашей ведущей в отрасли технологии, чтобы расширить свои исследовательские и производственные возможности.

Ознакомьтесь с нашими системами термического испарения и повысьте уровень осаждения тонких пленок уже сегодня!

Связанные товары

Электронно-лучевое напыление покрытия бескислородного медного тигля

Электронно-лучевое напыление покрытия бескислородного медного тигля

При использовании методов электронно-лучевого испарения использование тиглей из бескислородной меди сводит к минимуму риск загрязнения кислородом в процессе испарения.

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Технология, в основном используемая в области силовой электроники. Это графитовая пленка, изготовленная из исходного углеродного материала путем осаждения материала с использованием электронно-лучевой технологии.

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Усовершенствуйте свой процесс нанесения покрытий с помощью оборудования для нанесения покрытий методом PECVD. Идеально подходит для производства светодиодов, силовых полупроводников, МЭМС и многого другого. Осаждает высококачественные твердые пленки при низких температурах.

испарительная лодка для органических веществ

испарительная лодка для органических веществ

Испарительная лодочка для органических веществ является важным инструментом для точного и равномерного нагрева при осаждении органических материалов.

Испарительный тигель для органических веществ

Испарительный тигель для органических веществ

Тигель для выпаривания органических веществ, называемый тиглем для выпаривания, представляет собой контейнер для выпаривания органических растворителей в лабораторных условиях.

0,5-4 л роторный испаритель

0,5-4 л роторный испаритель

Эффективно разделяйте «низкокипящие» растворители с помощью роторного испарителя объемом 0,5–4 л. Разработан с использованием высококачественных материалов, вакуумного уплотнения Telfon+Viton и клапанов из ПТФЭ для работы без загрязнения.

2-5 л роторный испаритель

2-5 л роторный испаритель

Эффективно удаляйте низкокипящие растворители с помощью роторного испарителя KT 2-5L. Идеально подходит для химических лабораторий в фармацевтической, химической и биологической промышленности.

Набор керамических испарительных лодочек

Набор керамических испарительных лодочек

Его можно использовать для осаждения из паровой фазы различных металлов и сплавов. Большинство металлов можно полностью испарить без потерь. Испарительные корзины многоразовые.

Тигель для выпаривания графита

Тигель для выпаривания графита

Сосуды для высокотемпературных применений, где материалы выдерживаются при чрезвычайно высоких температурах для испарения, что позволяет наносить тонкие пленки на подложки.

0,5-1 л роторный испаритель

0,5-1 л роторный испаритель

Ищете надежный и эффективный роторный испаритель? Наш роторный испаритель объемом 0,5-1 л использует нагрев при постоянной температуре и тонкопленочное испарение для выполнения ряда операций, включая удаление и разделение растворителей. Благодаря высококачественным материалам и функциям безопасности он идеально подходит для лабораторий фармацевтической, химической и биологической промышленности.

Электронно-лучевой тигель

Электронно-лучевой тигель

В контексте испарения с помощью электронного луча тигель представляет собой контейнер или держатель источника, используемый для хранения и испарения материала, который должен быть нанесен на подложку.

Испарительная лодочка из алюминированной керамики

Испарительная лодочка из алюминированной керамики

Сосуд для нанесения тонких пленок; имеет керамический корпус с алюминиевым покрытием для повышения термической эффективности и химической стойкости. что делает его пригодным для различных приложений.

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

RF-PECVD - это аббревиатура от "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". С его помощью на германиевые и кремниевые подложки наносится пленка DLC (алмазоподобного углерода). Он используется в инфракрасном диапазоне длин волн 3-12um.

Вакуумная трубчатая печь горячего прессования

Вакуумная трубчатая печь горячего прессования

Уменьшите давление формования и сократите время спекания с помощью вакуумной трубчатой печи для горячего прессования высокоплотных и мелкозернистых материалов. Идеально подходит для тугоплавких металлов.

Универсальная трубчатая печь CVD, изготовленная по индивидуальному заказу CVD-машина

Универсальная трубчатая печь CVD, изготовленная по индивидуальному заказу CVD-машина

Получите свою эксклюзивную печь CVD с универсальной печью KT-CTF16, изготовленной по индивидуальному заказу. Настраиваемые функции скольжения, вращения и наклона для точной реакции. Заказать сейчас!

Вакуумная печь для горячего прессования

Вакуумная печь для горячего прессования

Откройте для себя преимущества вакуумной печи горячего прессования! Производство плотных тугоплавких металлов и соединений, керамики и композитов при высоких температурах и давлении.

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Фильера для нанесения наноалмазного композитного покрытия использует цементированный карбид (WC-Co) в качестве подложки, а для нанесения обычного алмаза и наноалмазного композитного покрытия на поверхность внутреннего отверстия пресс-формы используется метод химической паровой фазы (сокращенно CVD-метод).

Вакуумная печь для спекания стоматологического фарфора

Вакуумная печь для спекания стоматологического фарфора

Получите точные и надежные результаты с вакуумной печью для фарфора KinTek. Подходит для всех фарфоровых порошков, имеет функцию гиперболической керамической печи, голосовую подсказку и автоматическую калибровку температуры.

Вакуумная печь с футеровкой из керамического волокна

Вакуумная печь с футеровкой из керамического волокна

Вакуумная печь с изоляционной облицовкой из поликристаллического керамического волокна для отличной теплоизоляции и равномерного температурного поля. Максимальная рабочая температура 1200℃ или 1700℃ с высокой производительностью вакуума и точным контролем температуры.

1-5л одиночный стеклянный реактор

1-5л одиночный стеклянный реактор

Найдите идеальную систему стеклянного реактора для синтетических реакций, дистилляции и фильтрации. Выберите объем от 1 до 200 л, регулируемое перемешивание и контроль температуры, а также пользовательские параметры. KinTek поможет вам!


Оставьте ваше сообщение

Популярные теги

испарительный тигель источники термического испарения оборудование для нанесения тонких пленок тонкопленочные материалы для осаждения рф пэвд мишени для распыления графитовый тигель высокой чистоты печь для графитизации пвд машина паквд ХВД печь машина mpcvd cvd-машина испарительная лодка вольфрамовая лодка керамический тигель глиноземный тигель роторный испаритель электрическая вращающаяся печь перегонка по короткому пути лабораторный вакуумный насос стеклянный реактор лабораторный изостатический пресс вакуумный горячий пресс вакуумная печь трубчатая печь атмосферная печь стоматологическая печь вращающаяся печь гранулятор пресс лабораторный пресс вакуумная дуговая плавильная печь материалы cvd cvd алмазная машина выращенный в лаборатории алмазный станок алмазная машина для резки муфельная печь тонкая керамика лабораторная посуда реактор высокого давления