Знание В чем разница между магнетронным распылением на ВЧ и постоянном токе?
Аватар автора

Техническая команда · Kintek Solution

Обновлено 3 месяца назад

В чем разница между магнетронным распылением на ВЧ и постоянном токе?

Разница между радиочастотным и постоянным магнетронным распылением заключается в источниках питания, требуемом напряжении, давлении в камере и пригодности материала мишени.

1. Источники питания:

- При напылении на постоянном токе в качестве источника питания используется постоянный ток.

- При радиочастотном напылении для создания радиоволн используется высоковольтный источник переменного тока (AC).

2. Требования к напряжению:

- Для напыления постоянным током требуется напряжение 2 000-5 000 вольт.

- При радиочастотном напылении для достижения той же скорости осаждения требуется напряжение 1 012 вольт и выше.

3. Давление в камере:

- Для напыления на постоянном токе требуется давление в камере около 100 мТорр.

- ВЧ-напыление позволяет поддерживать значительно более низкое давление в камере - менее 15 мТорр.

4. Пригодность целевого материала:

- Напыление постоянным током подходит для проводящих материалов.

- ВЧ-напыление работает как с проводящими, так и с непроводящими материалами, что делает его особенно подходящим для изоляционных материалов.

Что касается осаждения многослойных структур, то магнетронное распыление позволяет добиться этого за счет использования нескольких мишеней или вращения подложки между различными мишенями в процессе осаждения. Этот метод позволяет создавать сложные многослойные пленки с заданными свойствами для конкретных применений, таких как оптические покрытия или современные электронные устройства.

Выбор материала мишени влияет на свойства осаждаемой тонкой пленки. При сравнении напыления на постоянном токе с напылением на радиочастотах напыление на постоянном токе широко используется и эффективно при больших объемах подложек. С другой стороны, ВЧ-напыление более дорогостоящее и имеет меньший выход напыления, что делает его более подходящим для подложек меньшего размера.

В магнетронном распылении использование магнитного поля позволяет управлять скоростью и направлением движения заряженных ионов из источника магнетронного распыления. Оно может применяться как для проводящих, так и для непроводящих материалов. Магнетронное распыление постоянным током работает только с проводящими материалами и часто выполняется при более высоком давлении, в то время как радиочастотное магнетронное распыление может выполняться при более низком давлении благодаря высокой доле ионизированных частиц в вакуумной камере.

Таким образом, основные различия между ВЧ- и DC-магнетронным распылением заключаются в источниках питания, требуемом напряжении, давлении в камере и пригодности материала мишени. ВЧ-напыление особенно подходит для изоляционных материалов, может проводиться при более низком давлении в камере и работает как с проводящими, так и с непроводящими материалами. Напыление на постоянном токе широко распространено, эффективно при больших объемах подложек и работает в основном с проводящими материалами.

Ищете надежное лабораторное оборудование для радиочастотного и постоянного магнетронного распыления? Обратите внимание на компанию KINTEK! Наше высококачественное оборудование разработано с учетом Ваших потребностей. Независимо от того, требуются ли вам источники постоянного или радиочастотного тока, мы всегда готовы помочь. Наши передовые технологии позволяют добиться точных и эффективных процессов напыления. Не идите на компромисс с производительностью и точностью - выбирайте KINTEK для всех своих потребностей в оборудовании для магнетронного распыления. Свяжитесь с нами сегодня, чтобы узнать больше!

Связанные товары

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

RF-PECVD - это аббревиатура от "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". С его помощью на германиевые и кремниевые подложки наносится пленка DLC (алмазоподобного углерода). Он используется в инфракрасном диапазоне длин волн 3-12um.

Печь для искрового плазменного спекания SPS-печь

Печь для искрового плазменного спекания SPS-печь

Откройте для себя преимущества печей искрового плазменного спекания для быстрой низкотемпературной подготовки материалов. Равномерный нагрев, низкая стоимость и экологичность.

Вакуумная левитация Индукционная плавильная печь Дуговая плавильная печь

Вакуумная левитация Индукционная плавильная печь Дуговая плавильная печь

Испытайте точную плавку с нашей плавильной печью с вакуумной левитацией. Идеально подходит для металлов или сплавов с высокой температурой плавления, с передовой технологией для эффективной плавки. Закажите прямо сейчас, чтобы получить качественный результат.

Вакуумная индукционная плавильная прядильная система Дуговая плавильная печь

Вакуумная индукционная плавильная прядильная система Дуговая плавильная печь

С легкостью создавайте метастабильные материалы с помощью нашей системы вакуумного прядения расплава. Идеально подходит для исследований и экспериментальных работ с аморфными и микрокристаллическими материалами. Закажите сейчас для эффективных результатов.

Вакуумная трубчатая печь горячего прессования

Вакуумная трубчатая печь горячего прессования

Уменьшите давление формования и сократите время спекания с помощью вакуумной трубчатой печи для горячего прессования высокоплотных и мелкозернистых материалов. Идеально подходит для тугоплавких металлов.

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Узнайте о машине MPCVD с цилиндрическим резонатором - методе микроволнового плазмохимического осаждения из паровой фазы, который используется для выращивания алмазных камней и пленок в ювелирной и полупроводниковой промышленности. Узнайте о его экономически эффективных преимуществах по сравнению с традиционными методами HPHT.

Мишень для распыления железа высокой чистоты (Fe) / порошок / проволока / блок / гранула

Мишень для распыления железа высокой чистоты (Fe) / порошок / проволока / блок / гранула

Ищете доступные материалы железа (Fe) для лабораторного использования? Наш ассортимент продукции включает в себя мишени для распыления, материалы для покрытий, порошки и многое другое с различными спецификациями и размерами, адаптированными для удовлетворения ваших конкретных потребностей. Свяжитесь с нами сегодня!

Мишень для распыления свинца высокой чистоты (Pb) / порошок / проволока / блок / гранула

Мишень для распыления свинца высокой чистоты (Pb) / порошок / проволока / блок / гранула

Ищете высококачественные материалы из свинца (Pb) для нужд вашей лаборатории? Не ищите ничего, кроме нашего специализированного набора настраиваемых опций, включая мишени для распыления, материалы покрытия и многое другое. Свяжитесь с нами сегодня для конкурентоспособных цен!

Мишень для распыления из медно-циркониевого сплава (CuZr) / порошок / проволока / блок / гранула

Мишень для распыления из медно-циркониевого сплава (CuZr) / порошок / проволока / блок / гранула

Откройте для себя наш ассортимент материалов из медно-циркониевого сплава по доступным ценам с учетом ваших уникальных требований. Просмотрите наш выбор мишеней для распыления, покрытий, порошков и многого другого.

Колокольный резонатор MPCVD Машина для лаборатории и выращивания алмазов

Колокольный резонатор MPCVD Машина для лаборатории и выращивания алмазов

Получите высококачественные алмазные пленки с помощью нашей машины MPCVD с резонатором Bell-jar Resonator, предназначенной для лабораторного выращивания и выращивания алмазов. Узнайте, как микроволновое плазменно-химическое осаждение из паровой фазы работает для выращивания алмазов с использованием углекислого газа и плазмы.

Вакуумная индукционная плавильная печь Дуговая плавильная печь

Вакуумная индукционная плавильная печь Дуговая плавильная печь

Получите точный состав сплава с помощью нашей вакуумной индукционной плавильной печи. Идеально подходит для аэрокосмической промышленности, атомной энергетики и электронной промышленности. Закажите сейчас для эффективной плавки и литья металлов и сплавов.

Вакуумная печь для горячего прессования

Вакуумная печь для горячего прессования

Откройте для себя преимущества вакуумной печи горячего прессования! Производство плотных тугоплавких металлов и соединений, керамики и композитов при высоких температурах и давлении.

Вакуумная дуговая печь Индукционная плавильная печь

Вакуумная дуговая печь Индукционная плавильная печь

Откройте для себя возможности вакуумной дуговой печи для плавки активных и тугоплавких металлов. Высокая скорость, замечательный эффект дегазации и отсутствие загрязнений. Узнайте больше прямо сейчас!

Скользящая трубчатая печь PECVD с жидким газификатором PECVD машина

Скользящая трубчатая печь PECVD с жидким газификатором PECVD машина

Система KT-PE12 Slide PECVD: широкий диапазон мощностей, программируемый контроль температуры, быстрый нагрев/охлаждение с помощью скользящей системы, контроль массового расхода MFC и вакуумный насос.

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Фильера для нанесения наноалмазного композитного покрытия использует цементированный карбид (WC-Co) в качестве подложки, а для нанесения обычного алмаза и наноалмазного композитного покрытия на поверхность внутреннего отверстия пресс-формы используется метод химической паровой фазы (сокращенно CVD-метод).


Оставьте ваше сообщение