Знание Как получают графен?Изучите лучшие методы производства высококачественного графена
Аватар автора

Техническая команда · Kintek Solution

Обновлено 1 день назад

Как получают графен?Изучите лучшие методы производства высококачественного графена

Графен, представляющий собой один слой атомов углерода, расположенных в гексагональной решетке, привлек к себе большое внимание благодаря своим исключительным электрическим, тепловым и механическим свойствам.Для получения графена было разработано несколько методов, каждый из которых имеет свои преимущества и ограничения.Наиболее распространенные методы включают механическое отшелушивание, химическое осаждение из паровой фазы (CVD), восстановление оксида графена и разложение карбида кремния.Среди них CVD является наиболее перспективным методом для получения высококачественного графена большой площади, в то время как механическое отшелушивание используется в основном для фундаментальных исследований.Другие методы, такие как жидкофазное отшелушивание и лазерная абляция, также используются, но они часто сталкиваются с проблемами, связанными с масштабируемостью и качеством.В этом ответе мы подробно рассмотрим эти методы, сосредоточившись на их процессах, преимуществах и ограничениях.

Ключевые моменты объяснены:

Как получают графен?Изучите лучшие методы производства высококачественного графена
  1. Механическое отшелушивание

    • Процесс:Этот метод предполагает отслаивание слоев графена от графита с помощью клейкой ленты или других механических средств.Это простая и экономически эффективная техника.
    • Преимущества:Получает высококачественный графен с минимальным количеством дефектов, что делает его идеальным для фундаментальных исследований и небольших приложений.
    • Ограничения:Не подходит для массового производства и позволяет получить лишь небольшие чешуйки графена.
  2. Химическое осаждение из паровой фазы (CVD)

    • Процесс:CVD предполагает пиролиз углеродсодержащего прекурсора (например, метана) на подложке (например, медной или никелевой) при высоких температурах.Атомы углерода диссоциируют и образуют графеновый слой на подложке.
    • Преимущества:Возможность получения высококачественного графена большой площади с хорошими электрическими свойствами.Подходит для промышленного производства.
    • Ограничения:Требуется точный контроль температуры, давления и состояния подложки.Использование металлических катализаторов может привести к появлению примесей.
  3. Восстановление оксида графена

    • Процесс:Оксид графена сначала синтезируется путем окисления графита, а затем химически или термически восстанавливается для получения графена.
    • Преимущества:Относительно прост и масштабируем, что делает его пригодным для массового производства.
    • Ограничения:Полученный графен часто содержит дефекты и остаточные кислородные группы, которые ухудшают его электрические и механические свойства.
  4. Разложение карбида кремния (SiC)

    • Процесс:Карбид кремния нагревается до высоких температур, в результате чего атомы кремния сублимируются, а на поверхности остается графеновый слой.
    • Преимущества:Получает высококачественный графен без использования металлических катализаторов.
    • Ограничения:Дороговизна из-за высокой стоимости SiC-подложек и энергоемкости процесса.Ограниченная масштабируемость для производства на больших площадях.
  5. Жидкофазное отшелушивание

    • Процесс:Графит отшелушивается в жидкой среде с помощью звукового воздействия или сдвига для получения графеновых хлопьев.
    • Преимущества:Масштабируемый и экономически эффективный способ получения графена в больших количествах.
    • Ограничения:Графен, полученный таким способом, часто имеет низкое электрическое качество и содержит дефекты.
  6. Лазерная абляция и дуговой разряд

    • Процесс:Эти методы предполагают использование высокоэнергетических лазеров или электрических дуг для испарения источников углерода, которые затем конденсируются, образуя графен.
    • Преимущества:Позволяет получать графен высокой чистоты с минимальным загрязнением.
    • Ограничения:Сложные и энергоемкие процессы с ограниченной масштабируемостью.
  7. Обработка подложек в CVD

    • Процесс:Подложки, такие как медь, подвергаются химической обработке для снижения каталитической активности, увеличения размера зерна и улучшения морфологии поверхности, что приводит к лучшему росту графена.
    • Преимущества:Повышает качество CVD-графена за счет уменьшения дефектов и изъянов.
    • Ограничения:Усложняет процесс CVD и может потребовать дополнительных этапов постобработки.

В целом, выбор метода получения графена зависит от предполагаемого применения.Для высококачественных маломасштабных применений идеально подходит механическое отшелушивание, в то время как CVD - лучший вариант для получения высококачественного графена большой площади, пригодного для промышленного использования.Восстановление оксида графена и жидкофазное отшелушивание предлагают масштабируемые альтернативы, но часто идут на компромисс с качеством.Разложение SiC и лазерная абляция - нишевые методы с определенными преимуществами и ограничениями.Понимание этих методов позволяет принимать обоснованные решения в зависимости от желаемых свойств графена и требований к применению.

Сводная таблица:

Метод Преимущества Ограничения
Механическое отшелушивание Высококачественный графен, минимум дефектов, идеально подходит для исследований Не масштабируется, дает мелкие чешуйки
Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) Высококачественный графен большой площади, пригодный для промышленного использования Требуется точный контроль, металлические катализаторы могут вносить примеси
Восстановление оксида графена Масштабируемый, простой процесс для массового производства Графен содержит дефекты, остаточные группы кислорода ухудшают свойства
Разложение SiC Высококачественный графен, не требуются металлические катализаторы Дорого, ограниченная масштабируемость, энергоемкость
Жидкофазное отшелушивание Масштабируемость, экономическая эффективность для больших объемов Низкое электрическое качество, дефекты в графене
Лазерная абляция/дуговой разряд Графен высокой чистоты, минимальное загрязнение Сложность, энергоемкость, ограниченная масштабируемость
Обработка подложки в CVD Повышает качество графена, уменьшает количество дефектов Повышает сложность, может потребовать дополнительной постобработки

Нужна помощь в выборе лучшего метода подготовки графена для ваших нужд? Свяжитесь с нашими экспертами сегодня для получения индивидуальной консультации!

Связанные товары

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Технология, в основном используемая в области силовой электроники. Это графитовая пленка, изготовленная из исходного углеродного материала путем осаждения материала с использованием электронно-лучевой технологии.

Углеродно-графитовая пластина - изостатическая

Углеродно-графитовая пластина - изостатическая

Изостатический углеродный графит прессуется из графита высокой чистоты. Это отличный материал для изготовления сопел ракет, материалов для замедления и отражающих материалов для графитовых реакторов.

Горизонтальная высокотемпературная печь графитации

Горизонтальная высокотемпературная печь графитации

Горизонтальная печь графитации. В конструкции печи этого типа нагревательные элементы расположены горизонтально, что обеспечивает равномерный нагрев образца. Он хорошо подходит для графитации больших или объемных образцов, требующих точного контроля температуры и однородности.

Экспериментальная печь для графитации IGBT

Экспериментальная печь для графитации IGBT

Экспериментальная печь графитации IGBT — специальное решение для университетов и исследовательских институтов, отличающееся высокой эффективностью нагрева, удобством использования и точным контролем температуры.

Сверхвысокотемпературная печь графитации

Сверхвысокотемпературная печь графитации

В печи для сверхвысокой температуры графитации используется среднечастотный индукционный нагрев в вакууме или среде инертного газа. Индукционная катушка создает переменное магнитное поле, индуцирующее вихревые токи в графитовом тигле, которые нагреваются и излучают тепло к заготовке, доводя ее до нужной температуры. Эта печь в основном используется для графитации и спекания углеродных материалов, материалов из углеродного волокна и других композитных материалов.

Вакуумная печь для горячего прессования

Вакуумная печь для горячего прессования

Откройте для себя преимущества вакуумной печи горячего прессования! Производство плотных тугоплавких металлов и соединений, керамики и композитов при высоких температурах и давлении.

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Фильера для нанесения наноалмазного композитного покрытия использует цементированный карбид (WC-Co) в качестве подложки, а для нанесения обычного алмаза и наноалмазного композитного покрытия на поверхность внутреннего отверстия пресс-формы используется метод химической паровой фазы (сокращенно CVD-метод).

Печь для графитизации негативного материала

Печь для графитизации негативного материала

Печь графитации для производства аккумуляторов имеет равномерную температуру и низкое энергопотребление. Печь для графитации материалов отрицательных электродов: эффективное решение для графитации при производстве аккумуляторов и расширенные функции для повышения производительности аккумуляторов.

Печь непрерывной графитации

Печь непрерывной графитации

Печь высокотемпературной графитации — профессиональное оборудование для графитационной обработки углеродных материалов. Это ключевое оборудование для производства высококачественной графитовой продукции. Он имеет высокую температуру, высокую эффективность и равномерный нагрев. Подходит для различных высокотемпературных обработок и графитации. Он широко используется в металлургии, электронной, аэрокосмической и т. д. промышленности.

Большая вертикальная печь графитации

Большая вертикальная печь графитации

Большая вертикальная высокотемпературная печь для графитации — это тип промышленной печи, используемой для графитации углеродных материалов, таких как углеродное волокно и технический углерод. Это высокотемпературная печь, которая может достигать температуры до 3100°C.

Тигель для выпаривания графита

Тигель для выпаривания графита

Сосуды для высокотемпературных применений, где материалы выдерживаются при чрезвычайно высоких температурах для испарения, что позволяет наносить тонкие пленки на подложки.

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Усовершенствуйте свой процесс нанесения покрытий с помощью оборудования для нанесения покрытий методом PECVD. Идеально подходит для производства светодиодов, силовых полупроводников, МЭМС и многого другого. Осаждает высококачественные твердые пленки при низких температурах.

CVD-алмазное покрытие

CVD-алмазное покрытие

Алмазное покрытие CVD: превосходная теплопроводность, качество кристаллов и адгезия для режущих инструментов, трения и акустических применений.


Оставьте ваше сообщение