Знание Что является катализатором роста УНТ? 5 ключевых моментов
Аватар автора

Техническая команда · Kintek Solution

Обновлено 2 месяца назад

Что является катализатором роста УНТ? 5 ключевых моментов

Катализатором роста УНТ является металл, обычно переходный металл, например никель.

Этот металл-катализатор осаждается на подложку.

В упомянутом исследовании Хофмана и др. (2003) это был слой никеля толщиной 6 нм на кремнии.

Катализатор играет решающую роль в процессе химического осаждения из паровой фазы (CVD).

Особенно в случае CVD с плазменным усилением (PECVD) он способствует разложению углеводородного газа (например, ацетилена) и последующему росту углеродных нанотрубок.

Металлический катализатор инициирует рост УНТ, расщепляя углеводородный газ до атомов углерода, которые затем могут образовывать нанотрубки.

На частицы катализатора (агрегацию, сегрегацию или миграцию) влияют различные факторы, включая химию плазмы, воздействие электрического поля и химию поверхности.

Размер и плотность частиц катализатора могут существенно влиять на диаметр и плотность УНТ.

В процессе PECVD катализатор не только способствует разложению углеводородного газа, но и контролирует зарождение и рост УНТ.

На эффективность катализатора может влиять его предварительная обработка, природа подложки и наличие металлического подслоя или диффузионного барьера.

Например, в исследовании Хофмана и др. использование никелевого катализатора позволило вырастить вертикально выровненные нановолокна при относительно низкой температуре (120°C).

Это значительно ниже температур, обычно требуемых для роста УНТ.

Более того, роль катализатора распространяется и на оптимизацию процесса роста.

Такие параметры, как природа исходного сырья, скорость потока, давление и температура подложки, имеют решающее значение.

Эти параметры можно регулировать, чтобы контролировать время пребывания, которое, в свою очередь, влияет на накопление углеродного сырья и скорость роста УНТ.

В целом, катализатор для роста УНТ в контексте CVD и PECVD - это металл, обычно переходный металл, такой как никель, который осаждается на подложку.

Этот катализатор необходим для разложения углеводородного газа и последующего роста углеродных нанотрубок.

Его эффективность зависит от различных параметров процесса и взаимодействия с плазменной средой.

Продолжайте исследования, проконсультируйтесь с нашими специалистами

Что является катализатором роста УНТ? 5 ключевых моментов

Раскройте потенциал передовых исследований в области углеродных нанотрубок с помощьюKINTEK SOLUTION передовыми катализаторами CVD.

Оцените точность и эффективность наших высокопроизводительных катализаторов на основе переходных металлов, специально разработанных для точного роста УНТ при оптимальных температурах.

Присоединяйтесь к числу ведущих ученых, которые полагаются наРЕШЕНИЕ KINTEK для получения превосходных материалов, обеспечивающих прорыв в нанотехнологиях.

Узнайте, как наши катализаторы могут изменить ваши исследования в области УНТ уже сегодня и поднять ваши проекты на новую высоту.

Связанные товары

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Усовершенствуйте свой процесс нанесения покрытий с помощью оборудования для нанесения покрытий методом PECVD. Идеально подходит для производства светодиодов, силовых полупроводников, МЭМС и многого другого. Осаждает высококачественные твердые пленки при низких температурах.

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Узнайте о машине MPCVD с цилиндрическим резонатором - методе микроволнового плазмохимического осаждения из паровой фазы, который используется для выращивания алмазных камней и пленок в ювелирной и полупроводниковой промышленности. Узнайте о его экономически эффективных преимуществах по сравнению с традиционными методами HPHT.

Колокольный резонатор MPCVD Машина для лаборатории и выращивания алмазов

Колокольный резонатор MPCVD Машина для лаборатории и выращивания алмазов

Получите высококачественные алмазные пленки с помощью нашей машины MPCVD с резонатором Bell-jar Resonator, предназначенной для лабораторного выращивания и выращивания алмазов. Узнайте, как микроволновое плазменно-химическое осаждение из паровой фазы работает для выращивания алмазов с использованием углекислого газа и плазмы.

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Фильера для нанесения наноалмазного композитного покрытия использует цементированный карбид (WC-Co) в качестве подложки, а для нанесения обычного алмаза и наноалмазного композитного покрытия на поверхность внутреннего отверстия пресс-формы используется метод химической паровой фазы (сокращенно CVD-метод).

Мишень для распыления углерода высокой чистоты (C) / порошок / проволока / блок / гранула

Мишень для распыления углерода высокой чистоты (C) / порошок / проволока / блок / гранула

Ищете недорогие углеродные (C) материалы для нужд вашей лаборатории? Не смотрите дальше! Наши искусно изготовленные и изготовленные по индивидуальному заказу материалы бывают различных форм, размеров и чистоты. Выбирайте мишени для распыления, материалы для покрытий, порошки и многое другое.

Мишень для распыления из никель-хромового сплава (NiCr) / порошок / проволока / блок / гранула

Мишень для распыления из никель-хромового сплава (NiCr) / порошок / проволока / блок / гранула

Получите высококачественные материалы из никель-хромового сплава (NiCr) для нужд вашей лаборатории по доступным ценам. Выбирайте из широкого спектра форм и размеров, включая мишени для распыления, покрытия, порошки и многое другое. Специально для ваших уникальных требований.

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

RF-PECVD - это аббревиатура от "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". С его помощью на германиевые и кремниевые подложки наносится пленка DLC (алмазоподобного углерода). Он используется в инфракрасном диапазоне длин волн 3-12um.

Тигель для выпаривания графита

Тигель для выпаривания графита

Сосуды для высокотемпературных применений, где материалы выдерживаются при чрезвычайно высоких температурах для испарения, что позволяет наносить тонкие пленки на подложки.

Тигель с нитридом бора (BN) - спеченный порошок фосфора

Тигель с нитридом бора (BN) - спеченный порошок фосфора

Тигель из спеченного порошка фосфора из нитрида бора (BN) имеет гладкую поверхность, плотную, не загрязняющую окружающую среду и длительный срок службы.

Универсальная трубчатая печь CVD, изготовленная по индивидуальному заказу CVD-машина

Универсальная трубчатая печь CVD, изготовленная по индивидуальному заказу CVD-машина

Получите свою эксклюзивную печь CVD с универсальной печью KT-CTF16, изготовленной по индивидуальному заказу. Настраиваемые функции скольжения, вращения и наклона для точной реакции. Заказать сейчас!

лабораторная вакуумная наклонно-вращательная трубчатая печь

лабораторная вакуумная наклонно-вращательная трубчатая печь

Откройте для себя универсальность лабораторной вращающейся печи: идеально подходит для прокаливания, сушки, спекания и высокотемпературных реакций. Регулируемые функции поворота и наклона для оптимального нагрева. Подходит для вакуума и контролируемой атмосферы. Узнайте больше прямо сейчас!

Вакуумная герметичная ротационная трубчатая печь непрерывного действия

Вакуумная герметичная ротационная трубчатая печь непрерывного действия

Испытайте эффективную обработку материалов с помощью нашей ротационной трубчатой печи с вакуумным уплотнением. Идеально подходит для экспериментов или промышленного производства, оснащена дополнительными функциями для контролируемой подачи и оптимизации результатов. Заказать сейчас.

CVD-алмаз для терморегулирования

CVD-алмаз для терморегулирования

CVD-алмаз для управления температурным режимом: высококачественный алмаз с теплопроводностью до 2000 Вт/мК, идеально подходящий для теплоотводов, лазерных диодов и приложений GaN на алмазе (GOD).

CVD-алмаз, легированный бором

CVD-алмаз, легированный бором

Алмаз, легированный CVD бором: универсальный материал, обеспечивающий индивидуальную электропроводность, оптическую прозрачность и исключительные тепловые свойства для применения в электронике, оптике, сенсорных и квантовых технологиях.

CVD-алмазное покрытие

CVD-алмазное покрытие

Алмазное покрытие CVD: превосходная теплопроводность, качество кристаллов и адгезия для режущих инструментов, трения и акустических применений.


Оставьте ваше сообщение