Знание Как искусственно получить графен?Изучите методы "сверху вниз" и "снизу вверх".
Аватар автора

Техническая команда · Kintek Solution

Обновлено 4 недели назад

Как искусственно получить графен?Изучите методы "сверху вниз" и "снизу вверх".

Да, графен можно получить искусственным путем с помощью различных методов, которые в целом делятся на "нисходящие" и "восходящие". Методы "сверху вниз" предполагают расщепление графита на графеновые слои, а методы "снизу вверх" - создание графена из более мелких углеродсодержащих молекул. Наиболее распространенные методы включают механическое отшелушивание, химическое осаждение из паровой фазы (CVD), восстановление оксида графена и жидкофазное отшелушивание. Каждый метод имеет свои преимущества и ограничения, при этом CVD особенно перспективен для получения высококачественного графена большой площади.

Ключевые моменты объяснены:

Как искусственно получить графен?Изучите методы "сверху вниз" и "снизу вверх".
  1. Методы "сверху вниз:

    • Эти методы предполагают получение графена из графита или других богатых углеродом материалов.
    • Механическое отшелушивание: Это самый простой метод, при котором графен отслаивается от графита с помощью клейкой ленты. Он используется в основном для фундаментальных исследований благодаря своей простоте и возможности получения высококачественного графена. Однако он не подходит для массового производства.
    • Жидкофазная эксфолиация: В этом методе графит диспергируется в жидкой среде и подвергается ультразвуковой обработке для разделения слоев. Этот метод подходит для массового производства, но часто приводит к получению графена с более низким электрическим качеством из-за дефектов и примесей.
    • Восстановление оксида графена (GO): Оксид графена получают путем окисления графита, а затем его химическим способом восстанавливают для получения графена. Этот метод экономически эффективен и масштабируем, но часто приводит к получению графена со структурными дефектами и пониженной электропроводностью.
  2. Методы "снизу вверх:

    • Эти методы предполагают создание графена из более мелких углеродсодержащих молекул.
    • Химическое осаждение из паровой фазы (CVD): Это наиболее перспективный метод получения высококачественного графена большой площади. В CVD-методе углеродсодержащий газ (например, метан) разлагается на металлической подложке (например, медной или никелевой) при высоких температурах, образуя графеновый слой. Метод CVD масштабируется и позволяет получать графен с отличными электрическими свойствами, что делает его пригодным для промышленного применения.
    • Эпитаксиальный рост: Этот метод предполагает выращивание графена на подложке из карбида кремния (SiC) путем сублимации атомов кремния при высоких температурах. Оставшиеся атомы углерода образуют графеновый слой. Этот метод позволяет получить высококачественный графен, но он дорог и не подходит для крупномасштабного производства.
    • Дуговая разрядка: Этот метод предполагает создание электрической дуги между двумя графитовыми электродами в атмосфере инертного газа. Под действием высокой температуры атомы углерода испаряются, а затем конденсируются в графен. Этот метод менее распространен и обычно позволяет получить графен более низкого качества по сравнению с CVD.
  3. Преимущества и недостатки каждого метода:

    • Механическое отшелушивание:
      • Преимущества : Получает высококачественный графен, простой и недорогой.
      • Недостатки : Не масштабируется, требует больших трудозатрат.
    • Жидкофазная эксфолиация:
      • Преимущества : Масштабируемость, относительно низкая стоимость.
      • Недостатки : Графен более низкого качества, возможны дефекты и примеси.
    • Восстановление оксида графена:
      • Преимущества : Масштабируемый, экономичный.
      • Недостатки : Структурные дефекты, снижение электропроводности.
    • Химическое осаждение из паровой фазы (CVD):
      • Преимущества : Масштабируемый, производит высококачественный графен, подходит для промышленного применения.
      • Недостатки : Требует высоких температур, дорогостоящего оборудования.
    • Эпитаксиальный рост:
      • Преимущества : Производит высококачественный графен.
      • Недостатки : Дорогой, не подходит для крупномасштабного производства.
    • Дуговая разрядка:
      • Преимущества : Простая настройка.
      • Недостатки : Более низкое качество графена, меньший контроль над процессом.
  4. Применение и пригодность:

    • Научные и фундаментальные исследования: Механическое отшелушивание идеально подходит благодаря своей простоте и способности производить высококачественный графен.
    • Массовое производство: Жидкофазное отшелушивание и восстановление оксида графена являются более подходящими из-за их масштабируемости, несмотря на более низкое качество получаемого графена.
    • Промышленное применение: CVD - наиболее перспективный метод получения высококачественного графена большой площади, что делает его пригодным для применения в электронике, сенсорах и накопителях энергии.

В заключение следует отметить, что графен действительно может быть получен искусственным путем с помощью различных методов, каждый из которых имеет свои преимущества и ограничения. Выбор метода зависит от предполагаемого применения, при этом наиболее перспективным для промышленного производства высококачественного графена является CVD.

Сводная таблица:

Метод Тип Преимущества Недостатки
Механическое отшелушивание Сверху вниз Высококачественный графен, простой, недорогой Не масштабируется, требует больших трудозатрат
Жидкофазная эксфолиация Сверху вниз Масштабируемость, относительно низкая стоимость Графен низкого качества, дефекты и примеси
Восстановление оксида графена Сверху вниз Масштабируемый, экономически эффективный Структурные дефекты, пониженная электропроводность
Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) Bottom-Up Масштабируемый высококачественный графен, пригодный для промышленного применения Требуются высокие температуры, дорогостоящее оборудование
Эпитаксиальный рост Bottom-Up Производство высококачественного графена Дорого, не подходит для крупномасштабного производства
Дуговая разрядка Bottom-Up Простая настройка Более низкое качество графена, меньший контроль над процессом

Хотите узнать больше о методах производства графена? Свяжитесь с нашими экспертами сегодня для индивидуальных решений!

Связанные товары

CVD-алмазное покрытие

CVD-алмазное покрытие

Алмазное покрытие CVD: превосходная теплопроводность, качество кристаллов и адгезия для режущих инструментов, трения и акустических применений.

CVD-алмаз, легированный бором

CVD-алмаз, легированный бором

Алмаз, легированный CVD бором: универсальный материал, обеспечивающий индивидуальную электропроводность, оптическую прозрачность и исключительные тепловые свойства для применения в электронике, оптике, сенсорных и квантовых технологиях.

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Усовершенствуйте свой процесс нанесения покрытий с помощью оборудования для нанесения покрытий методом PECVD. Идеально подходит для производства светодиодов, силовых полупроводников, МЭМС и многого другого. Осаждает высококачественные твердые пленки при низких температурах.

Тигель для выпаривания графита

Тигель для выпаривания графита

Сосуды для высокотемпературных применений, где материалы выдерживаются при чрезвычайно высоких температурах для испарения, что позволяет наносить тонкие пленки на подложки.

CVD-алмаз для терморегулирования

CVD-алмаз для терморегулирования

CVD-алмаз для управления температурным режимом: высококачественный алмаз с теплопроводностью до 2000 Вт/мК, идеально подходящий для теплоотводов, лазерных диодов и приложений GaN на алмазе (GOD).

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Узнайте о машине MPCVD с цилиндрическим резонатором - методе микроволнового плазмохимического осаждения из паровой фазы, который используется для выращивания алмазных камней и пленок в ювелирной и полупроводниковой промышленности. Узнайте о его экономически эффективных преимуществах по сравнению с традиционными методами HPHT.

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

RF-PECVD - это аббревиатура от "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". С его помощью на германиевые и кремниевые подложки наносится пленка DLC (алмазоподобного углерода). Он используется в инфракрасном диапазоне длин волн 3-12um.

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Технология, в основном используемая в области силовой электроники. Это графитовая пленка, изготовленная из исходного углеродного материала путем осаждения материала с использованием электронно-лучевой технологии.

Углеродно-графитовая пластина - изостатическая

Углеродно-графитовая пластина - изостатическая

Изостатический углеродный графит прессуется из графита высокой чистоты. Это отличный материал для изготовления сопел ракет, материалов для замедления и отражающих материалов для графитовых реакторов.

Экспериментальная печь для графитации IGBT

Экспериментальная печь для графитации IGBT

Экспериментальная печь графитации IGBT — специальное решение для университетов и исследовательских институтов, отличающееся высокой эффективностью нагрева, удобством использования и точным контролем температуры.

Печь для графитизации пленки с высокой теплопроводностью

Печь для графитизации пленки с высокой теплопроводностью

Печь для графитизации пленки с высокой теплопроводностью имеет равномерную температуру, низкое энергопотребление и может работать непрерывно.

Печь для графитизации негативного материала

Печь для графитизации негативного материала

Печь графитации для производства аккумуляторов имеет равномерную температуру и низкое энергопотребление. Печь для графитации материалов отрицательных электродов: эффективное решение для графитации при производстве аккумуляторов и расширенные функции для повышения производительности аккумуляторов.

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Фильера для нанесения наноалмазного композитного покрытия использует цементированный карбид (WC-Co) в качестве подложки, а для нанесения обычного алмаза и наноалмазного композитного покрытия на поверхность внутреннего отверстия пресс-формы используется метод химической паровой фазы (сокращенно CVD-метод).

Горизонтальная высокотемпературная печь графитации

Горизонтальная высокотемпературная печь графитации

Горизонтальная печь графитации. В конструкции печи этого типа нагревательные элементы расположены горизонтально, что обеспечивает равномерный нагрев образца. Он хорошо подходит для графитации больших или объемных образцов, требующих точного контроля температуры и однородности.

Печь непрерывной графитации

Печь непрерывной графитации

Печь высокотемпературной графитации — профессиональное оборудование для графитационной обработки углеродных материалов. Это ключевое оборудование для производства высококачественной графитовой продукции. Он имеет высокую температуру, высокую эффективность и равномерный нагрев. Подходит для различных высокотемпературных обработок и графитации. Он широко используется в металлургии, электронной, аэрокосмической и т. д. промышленности.

Сверхвысокотемпературная печь графитации

Сверхвысокотемпературная печь графитации

В печи для сверхвысокой температуры графитации используется среднечастотный индукционный нагрев в вакууме или среде инертного газа. Индукционная катушка создает переменное магнитное поле, индуцирующее вихревые токи в графитовом тигле, которые нагреваются и излучают тепло к заготовке, доводя ее до нужной температуры. Эта печь в основном используется для графитации и спекания углеродных материалов, материалов из углеродного волокна и других композитных материалов.


Оставьте ваше сообщение