Знание В чем заключается процесс нанесения ITO PVD?
Аватар автора

Техническая команда · Kintek Solution

Обновлено 1 неделю назад

В чем заключается процесс нанесения ITO PVD?

Процесс физического осаждения из паровой фазы оксида индия-олова (ITO) включает в себя осаждение тонкой пленки ITO на подложку посредством ряда этапов, включающих испарение, перенос и конденсацию. Основными методами, используемыми в ITO PVD, являются напыление и испарение, каждый из которых имеет свои особенности и преимущества.

Краткое описание процесса:

  1. Испарение: Материал ITO превращается в пар, как правило, путем напыления или термического испарения.
  2. Транспортировка: Пар перемещается через область низкого давления от источника к подложке.
  3. Конденсация: Пар конденсируется на подложке, образуя тонкую пленку ITO.

Подробное объяснение:

  1. Методы испарения:

    • Напыление: Этот метод предполагает бомбардировку мишени (обычно металлического ITO) высокоэнергетическими частицами (как правило, ионами) в условиях высокого вакуума. В результате удара атомы выбиваются из мишени, а затем перемещаются к подложке. Напыление обеспечивает хорошую адгезию и позволяет наносить материалы с высокой температурой плавления.
    • Термическое испарение: В этом методе материал ITO нагревается до температуры испарения с помощью резистивного источника тепла или электронного пучка. Затем испарившийся материал осаждается на подложку. Термическое испарение обычно быстрее, чем напыление, но может не обеспечивать такой сильной адгезии.
  2. Транспортировка:

    • Испаренный ITO должен транспортироваться от источника к подложке в контролируемой среде, обычно в условиях вакуума. Это обеспечивает минимальное взаимодействие с другими газами и сохраняет чистоту и целостность паров.
  3. Конденсация:

    • Когда пары ITO достигают подложки, они конденсируются, образуя тонкую однородную пленку. Условия конденсации, такие как температура и давление, имеют решающее значение для качества и свойств конечной пленки.

Обзор и исправление:

Приведенные ссылки последовательны и подробны, точно описывают процесс ITO PVD с помощью методов напыления и испарения. Этапы испарения, переноса и конденсации хорошо объяснены, а преимущества каждого метода четко описаны. Фактические поправки не требуются.

Связанные товары

Мишень для распыления оксида индия-олова (ITO) высокой чистоты / порошок / проволока / блок / гранула

Мишень для распыления оксида индия-олова (ITO) высокой чистоты / порошок / проволока / блок / гранула

Получите высококачественные мишени для распыления из оксида индия-олова (ITO) для нужд вашей лаборатории по разумной цене. Наши индивидуальные варианты различных форм и размеров удовлетворят ваши уникальные требования. Просмотрите наш ассортимент сегодня.

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Усовершенствуйте свой процесс нанесения покрытий с помощью оборудования для нанесения покрытий методом PECVD. Идеально подходит для производства светодиодов, силовых полупроводников, МЭМС и многого другого. Осаждает высококачественные твердые пленки при низких температурах.

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

RF-PECVD - это аббревиатура от "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". С его помощью на германиевые и кремниевые подложки наносится пленка DLC (алмазоподобного углерода). Он используется в инфракрасном диапазоне длин волн 3-12um.

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Фильера для нанесения наноалмазного композитного покрытия использует цементированный карбид (WC-Co) в качестве подложки, а для нанесения обычного алмаза и наноалмазного композитного покрытия на поверхность внутреннего отверстия пресс-формы используется метод химической паровой фазы (сокращенно CVD-метод).

Наклонная ротационная машина для трубчатой печи с плазменным осаждением (PECVD)

Наклонная ротационная машина для трубчатой печи с плазменным осаждением (PECVD)

Представляем нашу наклонную вращающуюся печь PECVD для точного осаждения тонких пленок. Наслаждайтесь автоматическим согласованием источника, программируемым ПИД-регулятором температуры и высокоточным управлением массовым расходомером MFC. Встроенные функции безопасности для вашего спокойствия.

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Узнайте о машине MPCVD с цилиндрическим резонатором - методе микроволнового плазмохимического осаждения из паровой фазы, который используется для выращивания алмазных камней и пленок в ювелирной и полупроводниковой промышленности. Узнайте о его экономически эффективных преимуществах по сравнению с традиционными методами HPHT.

Холодный изостатический пресс Electric Lab (CIP) 12T / 20T / 40T / 60T

Холодный изостатический пресс Electric Lab (CIP) 12T / 20T / 40T / 60T

Производите плотные, однородные детали с улучшенными механическими свойствами с помощью нашего холодного изостатического пресса Electric Lab. Широко используется в материаловедении, фармации и электронной промышленности. Эффективный, компактный и совместимый с вакуумом.

CVD-алмазное покрытие

CVD-алмазное покрытие

Алмазное покрытие CVD: превосходная теплопроводность, качество кристаллов и адгезия для режущих инструментов, трения и акустических применений.

Автоматический лабораторный теплый изостатический пресс (WIP) 20T / 40T / 60T

Автоматический лабораторный теплый изостатический пресс (WIP) 20T / 40T / 60T

Откройте для себя эффективность теплого изостатического пресса (WIP) для равномерного давления на все поверхности. Идеально подходящий для деталей электронной промышленности, WIP обеспечивает экономичное и высококачественное уплотнение при низких температурах.

915MHz MPCVD алмазная машина

915MHz MPCVD алмазная машина

915MHz MPCVD Diamond Machine и его многокристальный эффективный рост, максимальная площадь может достигать 8 дюймов, максимальная эффективная площадь роста монокристалла может достигать 5 дюймов. Это оборудование в основном используется для производства поликристаллических алмазных пленок большого размера, роста длинных монокристаллов алмазов, низкотемпературного роста высококачественного графена и других материалов, для роста которых требуется энергия, предоставляемая микроволновой плазмой.

Колокольный резонатор MPCVD Машина для лаборатории и выращивания алмазов

Колокольный резонатор MPCVD Машина для лаборатории и выращивания алмазов

Получите высококачественные алмазные пленки с помощью нашей машины MPCVD с резонатором Bell-jar Resonator, предназначенной для лабораторного выращивания и выращивания алмазов. Узнайте, как микроволновое плазменно-химическое осаждение из паровой фазы работает для выращивания алмазов с использованием углекислого газа и плазмы.

Вакуумная индукционная плавильная печь Дуговая плавильная печь

Вакуумная индукционная плавильная печь Дуговая плавильная печь

Получите точный состав сплава с помощью нашей вакуумной индукционной плавильной печи. Идеально подходит для аэрокосмической промышленности, атомной энергетики и электронной промышленности. Закажите сейчас для эффективной плавки и литья металлов и сплавов.

Мишень для распыления диоксида титана высокой чистоты (TiO2) / порошок / проволока / блок / гранула

Мишень для распыления диоксида титана высокой чистоты (TiO2) / порошок / проволока / блок / гранула

Ищете высококачественные материалы из диоксида титана? Наши специализированные продукты соответствуют уникальным требованиям любой лаборатории. Просмотрите наш ассортимент форм, размеров и чистоты сегодня.

Цель/порошок/проволока/блок/гранулы для распыления индия высокой чистоты (In)

Цель/порошок/проволока/блок/гранулы для распыления индия высокой чистоты (In)

Ищете высококачественные материалы из индия для лабораторного использования? Не смотрите дальше! Наш опыт заключается в производстве индивидуальных материалов из индия различной чистоты, формы и размера. Мы предлагаем широкий ассортимент продуктов Indium, отвечающих вашим уникальным требованиям. Заказывайте прямо сейчас по разумным ценам!

Электронно-лучевой тигель

Электронно-лучевой тигель

В контексте испарения с помощью электронного луча тигель представляет собой контейнер или держатель источника, используемый для хранения и испарения материала, который должен быть нанесен на подложку.

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Технология, в основном используемая в области силовой электроники. Это графитовая пленка, изготовленная из исходного углеродного материала путем осаждения материала с использованием электронно-лучевой технологии.

Мишень для распыления карбида бора (BC) / порошок / проволока / блок / гранула

Мишень для распыления карбида бора (BC) / порошок / проволока / блок / гранула

Получите высококачественные материалы из карбида бора по разумным ценам для нужд вашей лаборатории. Мы изготавливаем материалы BC различной чистоты, формы и размера, включая мишени для распыления, покрытия, порошки и многое другое.

Электронно-лучевое напыление покрытия бескислородного медного тигля

Электронно-лучевое напыление покрытия бескислородного медного тигля

При использовании методов электронно-лучевого испарения использование тиглей из бескислородной меди сводит к минимуму риск загрязнения кислородом в процессе испарения.

Вакуумная индукционная плавильная прядильная система Дуговая плавильная печь

Вакуумная индукционная плавильная прядильная система Дуговая плавильная печь

С легкостью создавайте метастабильные материалы с помощью нашей системы вакуумного прядения расплава. Идеально подходит для исследований и экспериментальных работ с аморфными и микрокристаллическими материалами. Закажите сейчас для эффективных результатов.

Вакуумная левитация Индукционная плавильная печь Дуговая плавильная печь

Вакуумная левитация Индукционная плавильная печь Дуговая плавильная печь

Испытайте точную плавку с нашей плавильной печью с вакуумной левитацией. Идеально подходит для металлов или сплавов с высокой температурой плавления, с передовой технологией для эффективной плавки. Закажите прямо сейчас, чтобы получить качественный результат.

Испарительная лодочка из алюминированной керамики

Испарительная лодочка из алюминированной керамики

Сосуд для нанесения тонких пленок; имеет керамический корпус с алюминиевым покрытием для повышения термической эффективности и химической стойкости. что делает его пригодным для различных приложений.

Универсальная трубчатая печь CVD, изготовленная по индивидуальному заказу CVD-машина

Универсальная трубчатая печь CVD, изготовленная по индивидуальному заказу CVD-машина

Получите свою эксклюзивную печь CVD с универсальной печью KT-CTF16, изготовленной по индивидуальному заказу. Настраиваемые функции скольжения, вращения и наклона для точной реакции. Заказать сейчас!

CVD-алмаз для терморегулирования

CVD-алмаз для терморегулирования

CVD-алмаз для управления температурным режимом: высококачественный алмаз с теплопроводностью до 2000 Вт/мК, идеально подходящий для теплоотводов, лазерных диодов и приложений GaN на алмазе (GOD).

CVD-алмаз, легированный бором

CVD-алмаз, легированный бором

Алмаз, легированный CVD бором: универсальный материал, обеспечивающий индивидуальную электропроводность, оптическую прозрачность и исключительные тепловые свойства для применения в электронике, оптике, сенсорных и квантовых технологиях.


Оставьте ваше сообщение

Ярлык

Общайтесь с нами для быстрого и прямого общения.

Немедленный ответ в рабочие дни (в течение 8 часов в праздничные дни)