Знание Какова плотность плазменной материи? 5 ключевых факторов, которые необходимо знать
Аватар автора

Техническая команда · Kintek Solution

Обновлено 1 месяц назад

Какова плотность плазменной материи? 5 ключевых факторов, которые необходимо знать

Плотность плазмы может варьироваться в широких пределах в зависимости от метода получения плазмы и условий, в которых она создается.

Плазма может характеризоваться степенью ионизации, которая варьируется от слабо ионизированной (как в емкостной плазме) до полностью ионизированной.

Плотность плазмы обычно измеряется в частицах на кубический сантиметр (см^-3).

5 ключевых факторов, которые необходимо знать

Какова плотность плазменной материи? 5 ключевых факторов, которые необходимо знать

1. Плазма с низкой плотностью

Емкостные плазмы, часто используемые в таких процессах, как химическое осаждение из паровой фазы с усилением плазмы (PECVD), обычно слабо ионизированы.

В таких плазмах ионизация ограничена, что приводит к более низким плотностям.

Прекурсоры в таких плазмах не являются высокодиссоциированными, что приводит к снижению скорости осаждения и общей плотности плазмы.

2. Плазмы высокой плотности

Плазму высокой плотности можно генерировать с помощью индуктивных разрядов, когда высокочастотный сигнал вызывает электрическое поле внутри разряда, ускоряя электроны во всей плазме, а не только на краю оболочки.

Этот метод позволяет достичь гораздо более высокой плотности плазмы, что необходимо для процессов, требующих высокой скорости осаждения или высокого уровня диссоциации прекурсоров.

3. Другие методы получения плазмы высокой плотности

Реакторы электронного циклотронного резонанса и геликон-волновые антенны - другие методы, используемые для создания разрядов высокой плотности.

Эти методы предполагают использование высокой мощности возбуждения, часто 10 кВт и более, для генерации и поддержания плазмы с высокой плотностью.

4. Разряд постоянного тока в богатых электронами средах

Другим методом получения плазмы высокой плотности является разряд постоянного тока в среде, богатой электронами, обычно получаемый за счет термоионной эмиссии из нагретых нитей.

Этот метод позволяет получить плазму высокой плотности с низкой энергией, что полезно для эпитаксиального осаждения с высокой скоростью в реакторах для химического осаждения из паровой фазы с усилением плазмы низкой энергии (LEPECVD).

5. Плотность холодной плазмы

Холодная плазма, или неравновесная плазма, характеризуется наличием электронов при очень высоких температурах (более 10 000 К), в то время как нейтральные атомы остаются при комнатной температуре.

Плотность электронов в холодной плазме обычно мала по сравнению с плотностью нейтральных атомов.

Холодную плазму обычно получают путем воздействия электрической энергии на инертные газы при комнатной температуре и атмосферном давлении, что делает ее доступной и недорогой для различных применений.

Продолжайте исследовать, обратитесь к нашим экспертам

Откройте для себя точность контроля плотности плазмы с помощью KINTEK SOLUTION. Наши передовые системы генерации плазмы разработаны для обеспечения беспрецедентной точности манипулирования плотностью, что позволяет добиться оптимальной производительности в огромном количестве приложений.

От емкостной плазмы низкой плотности до разрядов высокой плотности - наши инновационные технологии позволяют исследователям и профессионалам исследовать границы науки о плазме.

Повысьте уровень своих исследований с помощью KINTEK SOLUTION, где производительность плазмы высокой плотности сочетается с беспрецедентной надежностью.

Связанные товары

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

RF-PECVD - это аббревиатура от "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". С его помощью на германиевые и кремниевые подложки наносится пленка DLC (алмазоподобного углерода). Он используется в инфракрасном диапазоне длин волн 3-12um.

Колокольный резонатор MPCVD Машина для лаборатории и выращивания алмазов

Колокольный резонатор MPCVD Машина для лаборатории и выращивания алмазов

Получите высококачественные алмазные пленки с помощью нашей машины MPCVD с резонатором Bell-jar Resonator, предназначенной для лабораторного выращивания и выращивания алмазов. Узнайте, как микроволновое плазменно-химическое осаждение из паровой фазы работает для выращивания алмазов с использованием углекислого газа и плазмы.

Диоксид иридия IrO2 для электролиза воды

Диоксид иридия IrO2 для электролиза воды

Диоксид иридия, кристаллическая решетка которого имеет структуру рутила. Диоксид иридия и другие оксиды редких металлов могут быть использованы в анодных электродах для промышленного электролиза и микроэлектродах для электрофизиологических исследований.

Холодный изостатический пресс Electric Lab (CIP) 12T / 20T / 40T / 60T

Холодный изостатический пресс Electric Lab (CIP) 12T / 20T / 40T / 60T

Производите плотные, однородные детали с улучшенными механическими свойствами с помощью нашего холодного изостатического пресса Electric Lab. Широко используется в материаловедении, фармации и электронной промышленности. Эффективный, компактный и совместимый с вакуумом.

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Узнайте о машине MPCVD с цилиндрическим резонатором - методе микроволнового плазмохимического осаждения из паровой фазы, который используется для выращивания алмазных камней и пленок в ювелирной и полупроводниковой промышленности. Узнайте о его экономически эффективных преимуществах по сравнению с традиционными методами HPHT.

Мишень для распыления палладия (Pd) высокой чистоты / порошок / проволока / блок / гранула

Мишень для распыления палладия (Pd) высокой чистоты / порошок / проволока / блок / гранула

Ищете недорогие палладиевые материалы для своей лаборатории? Мы предлагаем индивидуальные решения различной чистоты, формы и размера — от мишеней для распыления до нанометровых порошков и порошков для 3D-печати. Просмотрите наш ассортимент прямо сейчас!

Копировальная бумага для аккумуляторов

Копировальная бумага для аккумуляторов

Тонкая протонообменная мембрана с низким удельным сопротивлением; высокая протонная проводимость; низкая плотность тока проникновения водорода; долгая жизнь; подходит для сепараторов электролита в водородных топливных элементах и электрохимических датчиках.

Медная пена

Медная пена

Медная пена обладает хорошей теплопроводностью и может широко использоваться для теплопроводности и отвода тепла двигателей/электроприборов и электронных компонентов.

Вакуумная левитация Индукционная плавильная печь Дуговая плавильная печь

Вакуумная левитация Индукционная плавильная печь Дуговая плавильная печь

Испытайте точную плавку с нашей плавильной печью с вакуумной левитацией. Идеально подходит для металлов или сплавов с высокой температурой плавления, с передовой технологией для эффективной плавки. Закажите прямо сейчас, чтобы получить качественный результат.

Вакуумная печь для горячего прессования

Вакуумная печь для горячего прессования

Откройте для себя преимущества вакуумной печи горячего прессования! Производство плотных тугоплавких металлов и соединений, керамики и композитов при высоких температурах и давлении.

Мембранный вакуумный насос

Мембранный вакуумный насос

Получите стабильное и эффективное отрицательное давление с помощью нашего мембранного вакуумного насоса. Идеально подходит для выпаривания, дистилляции и многого другого. Низкотемпературный двигатель, химически стойкие материалы и экологичность. Попробуйте сегодня!

Вакуумная индукционная плавильная печь Дуговая плавильная печь

Вакуумная индукционная плавильная печь Дуговая плавильная печь

Получите точный состав сплава с помощью нашей вакуумной индукционной плавильной печи. Идеально подходит для аэрокосмической промышленности, атомной энергетики и электронной промышленности. Закажите сейчас для эффективной плавки и литья металлов и сплавов.

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Усовершенствуйте свой процесс нанесения покрытий с помощью оборудования для нанесения покрытий методом PECVD. Идеально подходит для производства светодиодов, силовых полупроводников, МЭМС и многого другого. Осаждает высококачественные твердые пленки при низких температурах.

Вакуумная трубчатая печь горячего прессования

Вакуумная трубчатая печь горячего прессования

Уменьшите давление формования и сократите время спекания с помощью вакуумной трубчатой печи для горячего прессования высокоплотных и мелкозернистых материалов. Идеально подходит для тугоплавких металлов.

лабораторный пресс для гранул для вакуумного ящика

лабораторный пресс для гранул для вакуумного ящика

Повысьте точность работы вашей лаборатории с помощью нашего лабораторного пресса для вакуумного бокса. Легко и точно прессуйте таблетки и порошки в вакуумной среде, уменьшая окисление и улучшая консистенцию. Компактный и простой в использовании, с цифровым манометром.

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Фильера для нанесения наноалмазного композитного покрытия использует цементированный карбид (WC-Co) в качестве подложки, а для нанесения обычного алмаза и наноалмазного композитного покрытия на поверхность внутреннего отверстия пресс-формы используется метод химической паровой фазы (сокращенно CVD-метод).


Оставьте ваше сообщение

Популярные теги

рф пэвд пвд машина оборудование для нанесения тонких пленок тонкопленочные материалы для осаждения паквд машина mpcvd ХВД печь cvd-машина мишени для распыления cvd алмазная машина выращенный в лаборатории алмазный станок алмазная машина для резки материалы cvd лабораторный изостатический пресс холодный изостатический пресс лабораторный гидравлический пресс электрический лабораторный пресс лабораторный пресс ручной лабораторный пресс гранулятор пресс материалы высокой чистоты чистые металлы электрохимический материал материал батареи вакуумная индукционная плавильная печь вакуумная дуговая плавильная печь вакуумный горячий пресс вакуумная печь стоматологическая печь лабораторный вакуумный насос источники термического испарения трубчатая печь атмосферная печь вращающаяся печь гранулятор xrf кбр пресс-гранулятор вырубная машина для таблеток материал стекла

Ярлык

Общайтесь с нами для быстрого и прямого общения.

Немедленный ответ в рабочие дни (в течение 8 часов в праздничные дни)