Знание Какие два метода используются для получения нанотонких пленок?
Аватар автора

Техническая команда · Kintek Solution

Обновлено 3 недели назад

Какие два метода используются для получения нанотонких пленок?

Получение нанотонких пленок включает в себя две основные технологии: Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) и Физическое осаждение из паровой фазы (PVD).

2 Методики получения нанотонких пленок: CVD и PVD

Какие два метода используются для получения нанотонких пленок?

Химическое осаждение из паровой фазы (CVD)

CVD - это метод, используемый для создания высокочистых и эффективных твердых тонких пленок.

В этом процессе подложка помещается в реактор, где она подвергается воздействию летучих газов.

Твердый слой образуется на поверхности подложки в результате химических реакций между используемым газом и подложкой.

CVD позволяет получать высокочистые монокристаллические, поликристаллические и даже аморфные тонкие пленки.

Он позволяет синтезировать как чистые, так и сложные материалы нужной чистоты при низких температурах.

Химические и физические свойства пленок можно регулировать, управляя такими параметрами, как температура, давление, скорость потока газа и его концентрация.

Физическое осаждение из паровой фазы (PVD)

PVD подразумевает получение тонких пленок путем конденсации испаряющихся материалов, выделяемых из источника (целевого материала), на поверхности подложки.

К субметодам PVD относятся напыление и испарение.

Методы PVD широко используются для изготовления тонких (от субмикро- до нано-) или толстых (>5 мкм) твердых пленок на подходящей подложке.

К распространенным методам PVD относятся напыление, электрофоретическое осаждение, электронно-лучевое PVD (e-beam-PVD), импульсное лазерное осаждение (PLD), атомно-слоевое осаждение (ALD) и молекулярно-лучевая эпитаксия.

Эти методы имеют решающее значение для достижения высокой чистоты и низкого уровня дефектов в осажденных пленках.

Продолжайте исследования, обратитесь к нашим специалистам

Откройте для себя передовые решения в области тонких пленок, которые служат источником энергии для современной науки и техники!

Компания KINTEK специализируется на высококачественном оборудовании для химического осаждения из паровой фазы (CVD) и физического осаждения из паровой фазы (PVD).

От высокочистых материалов до сложных конструкций - наши передовые технологии обеспечивают оптимальное формирование и производительность пленок.

Воспользуйтесь точностью, эффективностью и чистотой в вашей лаборатории.Сотрудничайте с KINTEK сегодня и поднимите производство нано-тонких пленок на новую высоту!

Связанные товары

Электронно-лучевой тигель

Электронно-лучевой тигель

В контексте испарения с помощью электронного луча тигель представляет собой контейнер или держатель источника, используемый для хранения и испарения материала, который должен быть нанесен на подложку.

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Усовершенствуйте свой процесс нанесения покрытий с помощью оборудования для нанесения покрытий методом PECVD. Идеально подходит для производства светодиодов, силовых полупроводников, МЭМС и многого другого. Осаждает высококачественные твердые пленки при низких температурах.

Испарение электронного луча покрывая вольфрамовый тигель/тигель молибдена

Испарение электронного луча покрывая вольфрамовый тигель/тигель молибдена

Вольфрамовые и молибденовые тигли широко используются в процессах электронно-лучевого испарения благодаря их превосходным термическим и механическим свойствам.

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Фильера для нанесения наноалмазного композитного покрытия использует цементированный карбид (WC-Co) в качестве подложки, а для нанесения обычного алмаза и наноалмазного композитного покрытия на поверхность внутреннего отверстия пресс-формы используется метод химической паровой фазы (сокращенно CVD-метод).

Испарительная лодочка из алюминированной керамики

Испарительная лодочка из алюминированной керамики

Сосуд для нанесения тонких пленок; имеет керамический корпус с алюминиевым покрытием для повышения термической эффективности и химической стойкости. что делает его пригодным для различных приложений.

Тигель для выпаривания графита

Тигель для выпаривания графита

Сосуды для высокотемпературных применений, где материалы выдерживаются при чрезвычайно высоких температурах для испарения, что позволяет наносить тонкие пленки на подложки.

Тигель из токопроводящего нитрида бора с электронно-лучевым напылением (тигель BN)

Тигель из токопроводящего нитрида бора с электронно-лучевым напылением (тигель BN)

Высокочистый и гладкий токопроводящий тигель из нитрида бора для покрытия методом электронно-лучевого испарения с высокой температурой и термоциклированием.

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Технология, в основном используемая в области силовой электроники. Это графитовая пленка, изготовленная из исходного углеродного материала путем осаждения материала с использованием электронно-лучевой технологии.

Вакуумный ламинационный пресс

Вакуумный ламинационный пресс

Оцените чистоту и точность ламинирования с помощью вакуумного ламинационного пресса. Идеально подходит для склеивания пластин, трансформации тонких пленок и ламинирования LCP. Закажите сейчас!

Материал для полировки электродов

Материал для полировки электродов

Ищете способ отполировать электроды для электрохимических экспериментов? Наши полировальные материалы вам в помощь! Следуйте нашим простым инструкциям для достижения наилучших результатов.

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

RF-PECVD - это аббревиатура от "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". С его помощью на германиевые и кремниевые подложки наносится пленка DLC (алмазоподобного углерода). Он используется в инфракрасном диапазоне длин волн 3-12um.

CVD-алмазное покрытие

CVD-алмазное покрытие

Алмазное покрытие CVD: превосходная теплопроводность, качество кристаллов и адгезия для режущих инструментов, трения и акустических применений.

Электронно-лучевое напыление покрытия бескислородного медного тигля

Электронно-лучевое напыление покрытия бескислородного медного тигля

При использовании методов электронно-лучевого испарения использование тиглей из бескислородной меди сводит к минимуму риск загрязнения кислородом в процессе испарения.

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Узнайте о машине MPCVD с цилиндрическим резонатором - методе микроволнового плазмохимического осаждения из паровой фазы, который используется для выращивания алмазных камней и пленок в ювелирной и полупроводниковой промышленности. Узнайте о его экономически эффективных преимуществах по сравнению с традиционными методами HPHT.

Мишень для распыления углерода высокой чистоты (C) / порошок / проволока / блок / гранула

Мишень для распыления углерода высокой чистоты (C) / порошок / проволока / блок / гранула

Ищете недорогие углеродные (C) материалы для нужд вашей лаборатории? Не смотрите дальше! Наши искусно изготовленные и изготовленные по индивидуальному заказу материалы бывают различных форм, размеров и чистоты. Выбирайте мишени для распыления, материалы для покрытий, порошки и многое другое.


Оставьте ваше сообщение