Физическое осаждение из паровой фазы (PVD) - это метод, используемый для создания тонких пленок и покрытий путем перевода материалов из конденсированной фазы в паровую, а затем обратно в конденсированную. Этот процесс включает в себя физическое осаждение атомов, ионов или молекул того или иного вида покрытия на подложку, что обычно приводит к созданию покрытий из чистых металлов, металлических сплавов и керамики толщиной от 1 до 10 мкм.
Обзор процесса:
Процесс PVD начинается с получения материала в твердой форме, который затем преобразуется в пар с помощью различных физических механизмов. Этот пар перемещается через область низкого давления от источника к подложке. Достигнув подложки, пар конденсируется, образуя тонкую пленку. Эта последовательность шагов имеет решающее значение для точного и контролируемого осаждения материалов.Техники и механизмы:
Существует три основных типа технологий PVD: напыление, испарение и ионное осаждение. Каждый из этих методов работает в камере, содержащей контролируемую атмосферу при пониженном давлении. Напыление, например, предполагает высвобождение атомов из твердого или жидкого источника посредством обмена импульсами, когда атомы физически выбрасываются из материала мишени в результате бомбардировки энергичными частицами.
Области применения и преимущества:
PVD широко используется в различных отраслях промышленности, в том числе в медицине, где он имеет решающее значение для нанесения покрытий на медицинские устройства, которые используются вблизи или внутри тела. Способность PVD наносить материалы на атомарном уровне обеспечивает правильную и равномерную адгезию покрытия к устройству. Этот метод позволяет наносить практически любые типы неорганических материалов и небольшой спектр органических материалов, что делает его универсальным для различных применений.
Сравнение с химическим осаждением из паровой фазы (CVD):
