Знание В каких единицах измеряется скорость осаждения? 5 ключевых моментов для понимания
Аватар автора

Техническая команда · Kintek Solution

Обновлено 2 месяца назад

В каких единицах измеряется скорость осаждения? 5 ключевых моментов для понимания

Скорость осаждения - важнейший аспект процессов осаждения тонких пленок. Она измеряет, насколько быстро материал осаждается на подложку.

В каких единицах измеряется скорость осаждения? 5 ключевых моментов для понимания

В каких единицах измеряется скорость осаждения? 5 ключевых моментов для понимания

1. Общие единицы измерения скорости осаждения

Единицы скорости осаждения обычно выражаются в единицах длины за единицу времени.

2. Нанометры в секунду (нм/с)

Одна из распространенных единиц - нанометры в секунду (нм/с).

3. Микрометры в минуту (мкм/мин)

Другая распространенная единица - микрометры в минуту (мкм/мин).

4. Расчет скорости осаждения

Скорость осаждения, обозначаемая как ( R_{dep} ), может быть рассчитана по формуле: [ R_{dep} = A \times R_{sputter} ].

5. Важность для осаждения тонких пленок

Скорость осаждения имеет решающее значение для контроля толщины и однородности тонких пленок.

Продолжайте изучение, обратитесь к нашим специалистам

Готовы оптимизировать процесс осаждения тонких пленок? В компании KINTEK SOLUTION наше современное оборудование обеспечивает точный контроль скорости осаждения, помогая вам добиться однородных и высококачественных пленок.Не позволяйте сложным расчетам мешать вашим исследованиям. Ознакомьтесь с нашим ассортиментом систем осаждения уже сегодня и поднимите свои исследования на новую высоту!

Связанные товары

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

RF-PECVD - это аббревиатура от "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". С его помощью на германиевые и кремниевые подложки наносится пленка DLC (алмазоподобного углерода). Он используется в инфракрасном диапазоне длин волн 3-12um.

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Усовершенствуйте свой процесс нанесения покрытий с помощью оборудования для нанесения покрытий методом PECVD. Идеально подходит для производства светодиодов, силовых полупроводников, МЭМС и многого другого. Осаждает высококачественные твердые пленки при низких температурах.

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Узнайте о машине MPCVD с цилиндрическим резонатором - методе микроволнового плазмохимического осаждения из паровой фазы, который используется для выращивания алмазных камней и пленок в ювелирной и полупроводниковой промышленности. Узнайте о его экономически эффективных преимуществах по сравнению с традиционными методами HPHT.

Колокольный резонатор MPCVD Машина для лаборатории и выращивания алмазов

Колокольный резонатор MPCVD Машина для лаборатории и выращивания алмазов

Получите высококачественные алмазные пленки с помощью нашей машины MPCVD с резонатором Bell-jar Resonator, предназначенной для лабораторного выращивания и выращивания алмазов. Узнайте, как микроволновое плазменно-химическое осаждение из паровой фазы работает для выращивания алмазов с использованием углекислого газа и плазмы.

Вращающийся дисковый электрод / вращающийся кольцевой дисковый электрод (RRDE)

Вращающийся дисковый электрод / вращающийся кольцевой дисковый электрод (RRDE)

Повысьте уровень своих электрохимических исследований с помощью наших вращающихся дисковых и кольцевых электродов. Коррозионностойкий и настраиваемый в соответствии с вашими конкретными потребностями, с полными спецификациями.

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Технология, в основном используемая в области силовой электроники. Это графитовая пленка, изготовленная из исходного углеродного материала путем осаждения материала с использованием электронно-лучевой технологии.

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Фильера для нанесения наноалмазного композитного покрытия использует цементированный карбид (WC-Co) в качестве подложки, а для нанесения обычного алмаза и наноалмазного композитного покрытия на поверхность внутреннего отверстия пресс-формы используется метод химической паровой фазы (сокращенно CVD-метод).

Печь для графитизации пленки с высокой теплопроводностью

Печь для графитизации пленки с высокой теплопроводностью

Печь для графитизации пленки с высокой теплопроводностью имеет равномерную температуру, низкое энергопотребление и может работать непрерывно.

Универсальная трубчатая печь CVD, изготовленная по индивидуальному заказу CVD-машина

Универсальная трубчатая печь CVD, изготовленная по индивидуальному заказу CVD-машина

Получите свою эксклюзивную печь CVD с универсальной печью KT-CTF16, изготовленной по индивидуальному заказу. Настраиваемые функции скольжения, вращения и наклона для точной реакции. Заказать сейчас!

Наклонная ротационная машина для трубчатой печи с плазменным осаждением (PECVD)

Наклонная ротационная машина для трубчатой печи с плазменным осаждением (PECVD)

Представляем нашу наклонную вращающуюся печь PECVD для точного осаждения тонких пленок. Наслаждайтесь автоматическим согласованием источника, программируемым ПИД-регулятором температуры и высокоточным управлением массовым расходомером MFC. Встроенные функции безопасности для вашего спокойствия.

Электронно-лучевой тигель

Электронно-лучевой тигель

В контексте испарения с помощью электронного луча тигель представляет собой контейнер или держатель источника, используемый для хранения и испарения материала, который должен быть нанесен на подложку.

Сухое и мокрое трехмерное вибрационное сито

Сухое и мокрое трехмерное вибрационное сито

KT-VD200 может использоваться для просеивания сухих и влажных образцов в лаборатории. Качество просеивания составляет 20 г-3 кг. Изделие имеет уникальную механическую конструкцию и электромагнитный вибрирующий корпус с частотой вибрации 3000 раз в минуту.

Двухмерное вибрационное сито

Двухмерное вибрационное сито

KT-VT150 - это настольный прибор для обработки проб, предназначенный как для просеивания, так и для измельчения. Измельчение и просеивание можно использовать как в сухом, так и в мокром виде. Амплитуда вибрации составляет 5 мм, а частота вибрации - 3000-3600 раз/мин.

CVD-алмазное покрытие

CVD-алмазное покрытие

Алмазное покрытие CVD: превосходная теплопроводность, качество кристаллов и адгезия для режущих инструментов, трения и акустических применений.


Оставьте ваше сообщение