Знание Каковы источники графена? От графита до высокопроизводительных применений
Аватар автора

Техническая команда · Kintek Solution

Обновлено 1 неделю назад

Каковы источники графена? От графита до высокопроизводительных применений


На самом фундаментальном уровне источником графена является графит. Эта распространенная природная минеральная порода состоит из бесчисленного множества слоев графена, уложенных друг на друга. Однако получение высококачественных листов толщиной в один атом, которые придают графену его замечательные свойства, требует сложных производственных процессов, а не простого добывания. Таким образом, «источник» пригодного для использования графена лучше всего понимать как метод производства, используемый для его выделения или синтеза.

Хотя графит является сырьем, истинным источником графена, готового к применению, является производственный процесс. Выбор между методами «сверху вниз» (отшелушивание от графита) и методами «снизу вверх» (синтез из атомов углерода) определяет качество, масштаб и конечное применение материала.

Каковы источники графена? От графита до высокопроизводительных применений

Природное происхождение: Графит

Что такое графит?

Графит — это распространенный минерал и природная кристаллическая форма углерода. Его структура состоит из плоскостей атомов углерода, расположенных в гексагональной решетке. Каждая из этих отдельных плоскостей представляет собой лист графена.

Проблема выделения

В графите эти графеновые листы удерживаются вместе относительно слабыми силами Ван-дер-Ваальса. Основная проблема при получении графена из этого источника заключается в преодолении этих сил, чтобы отделить один неповрежденный слой, не внося дефектов или примесей.

Методы «Сверху вниз»: Начиная с графита

Подходы «сверху вниз» начинаются с объемного графита и разрушают его для выделения графеновых листов. Эти методы часто используются для получения графеновых хлопьев, порошков и дисперсий.

Механическое отшелушивание

Это оригинальный метод, удостоенный Нобелевской премии, часто называемый техникой «скотч». Он включает использование клейкой ленты для отделения слоев от куска графита до тех пор, пока не будет выделен однослойный хлопьевидный материал.

Хотя этот метод позволяет получать чрезвычайно высококачественные, чистые графеновые хлопья, он не масштабируется для промышленного производства и в основном используется в фундаментальных исследованиях.

Жидкофазное отшелушивание (ЖФО)

При ЖФО порошок графита суспендируют в специальном растворителе и подвергают воздействию высокоэнергетических процессов, таких как ультразвуковая обработка. Эта энергия возбуждает материал, разрушая графит на хлопья, которые могут включать однослойный или малослойный графен.

Этот метод масштабируем и отлично подходит для получения графеновых дисперсий, используемых в чернилах, композитах и покрытиях.

Химическое отшелушивание (Оксид графена)

Это высокомасштабируемый химический процесс. Графит обрабатывают сильными окислителями, что заставляет слои расходиться и образует оксид графита. Затем этот материал отшелушивают в воде для получения оксида графена (ОГ), который может быть химически или термически восстановлен для получения восстановленного оксида графена (ВОГ).

Хотя этот процесс экономичен для крупносерийного производства, он может вносить структурные дефекты, влияющие на электропроводность конечного материала.

Методы «Снизу вверх»: Построение из атомов углерода

Подходы «снизу вверх» конструируют графен атом за атомом из углеродсодержащих прекурсоров. Это основной способ создания больших, непрерывных листов высококачественного графена для электроники.

Химическое осаждение из газовой фазы (ХОГФ)

ХОГФ — ведущий метод получения высококачественных графеновых пленок большой площади. Процесс включает нагрев каталитической металлической подложки (обычно медной фольги) в вакуумной камере и подачу углеродсодержащего газа, такого как метан.

Высокая температура разлагает газ, и атомы углерода осаждаются на поверхности фольги, самоорганизуясь в непрерывный однослойный графен.

Стремление к однородности

Ключевая проблема в ХОГФ — обеспечение того, чтобы продукт представлял собой идеальный монослой. Могут образовываться небольшие участки двуслойного или трехслойного графена, что нарушает однородные электронные свойства материала.

Для решения этой проблемы требуются передовые методы очистки. Например, некоторые процессы используют вольфрамовую (W) фольгу, поглощающую углерод, для селективного удаления этих более толстых участков, оставляя чистую монослойную графеновую пленку на медной подложке.

Понимание компромиссов

Качество против Количества

Механическое отшелушивание дает графен самого высокого качества, но в минимальных количествах. И наоборот, химические методы, такие как восстановление ОГ, могут производить тонны материала, но с большим количеством дефектов. ХОГФ находит баланс, предлагая высокое качество на больших площадях, но при более высокой стоимости.

Форм-фактор и Применение

Источник определяет форму. Методы «сверху вниз» обычно производят хлопья и порошки (нанопластины), идеально подходящие для смешивания с другими материалами. Методы ХОГФ «снизу вверх» производят непрерывные пленки, которые необходимы для применений в электронике, датчиках и прозрачных проводящих пленках.

Выбор правильного варианта для вашей цели

Выбор правильного типа графена требует понимания того, как его источник и метод производства соответствуют вашим потребностям.

  • Если ваш основной фокус — высокопроизводительная электроника или датчики: Вашим источником будут пленки большой площади, полученные методом химического осаждения из газовой фазы (ХОГФ).
  • Если ваш основной фокус — объемные материалы, такие как композиты, покрытия или батареи: Вашим источником будут нанопластины графена или порошки ВОГ, полученные методами «сверху вниз», такими как жидкофазное или химическое отшелушивание.
  • Если ваш основной фокус — фундаментальные исследования свойств чистого материала: Вашим источником будут маленькие, идеальные хлопья, созданные с помощью механического отшелушивания.

В конечном счете, источник вашего графена определяется производственным процессом, который наилучшим образом соответствует требованиям вашего применения к качеству, масштабу и стоимости.

Сводная таблица:

Метод производства Ключевая особенность Типичная форма Лучше всего подходит для
Механическое отшелушивание Наивысшее качество Маленькие хлопья Фундаментальные исследования
Химическое осаждение из газовой фазы (ХОГФ) Пленки большой площади Непрерывные листы Электроника, датчики
Жидкофазное/Химическое отшелушивание Масштабируемое производство Порошки, дисперсии Композиты, батареи, покрытия

Раскройте потенциал графена для вашей лаборатории

Выбор правильного источника графена имеет решающее значение для ваших исследований или разработки продукта. Независимо от того, нужны ли вам чистые хлопья для фундаментальных исследований, пленки большой площади для передовой электроники или экономичные порошки для композитных материалов, качество вашего графена напрямую влияет на ваши результаты.

KINTEK специализируется на лабораторном оборудовании и расходных материалах, обслуживая потребности лабораторий. Мы предоставляем инструменты и опыт для поддержки ваших исследований и производства графена, от систем ХОГФ для синтеза высококачественных пленок до материалов для процессов отшелушивания «сверху вниз».

Позвольте нам помочь вам достичь ваших целей с помощью правильного графенового решения. Свяжитесь с нашими экспертами сегодня, чтобы обсудить ваши конкретные требования и узнать, как наши продукты могут улучшить вашу работу.

Визуальное руководство

Каковы источники графена? От графита до высокопроизводительных применений Визуальное руководство

Связанные товары

Люди также спрашивают

Связанные товары

Оборудование для осаждения из паровой фазы CVD Система Камерная Печь-труба PECVD с Жидкостным Газификатором Машина PECVD

Оборудование для осаждения из паровой фазы CVD Система Камерная Печь-труба PECVD с Жидкостным Газификатором Машина PECVD

KT-PE12 Скользящая система PECVD: широкий диапазон мощности, программируемое управление температурой, быстрый нагрев/охлаждение с раздвижной системой, управление массовым расходом MFC и вакуумный насос.

Печь для трубчатого химического осаждения из паровой фазы, изготовленная на заказ, универсальная система оборудования для химического осаждения из паровой фазы

Печь для трубчатого химического осаждения из паровой фазы, изготовленная на заказ, универсальная система оборудования для химического осаждения из паровой фазы

Получите эксклюзивную печь для химического осаждения из паровой фазы KT-CTF16, изготовленную на заказ. Настраиваемые функции скольжения, вращения и наклона для точных реакций. Закажите сейчас!

Раздельная камерная трубчатая печь для химического осаждения из паровой фазы с вакуумной станцией

Раздельная камерная трубчатая печь для химического осаждения из паровой фазы с вакуумной станцией

Эффективная разделительная камерная печь для химического осаждения из паровой фазы с вакуумной станцией для интуитивного контроля образцов и быстрого охлаждения. Максимальная температура до 1200℃ с точным управлением массовым расходомером MFC.

Наклонная роторная установка для плазменно-усиленного химического осаждения из паровой фазы PECVD

Наклонная роторная установка для плазменно-усиленного химического осаждения из паровой фазы PECVD

Усовершенствуйте свой процесс нанесения покрытий с помощью оборудования для нанесения покрытий PECVD. Идеально подходит для светодиодов, силовых полупроводников, MEMS и многого другого. Наносит высококачественные твердые пленки при низких температурах.

Система ВЧ-PECVD Радиочастотное плазменно-усиленное химическое осаждение из газовой фазы ВЧ-PECVD

Система ВЧ-PECVD Радиочастотное плазменно-усиленное химическое осаждение из газовой фазы ВЧ-PECVD

RF-PECVD — это аббревиатура от «Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition» (Радиочастотное плазменно-усиленное химическое осаждение из газовой фазы). Он осаждает DLC (алмазоподобную углеродную пленку) на подложки из германия и кремния. Используется в диапазоне инфракрасных длин волн 3-12 мкм.

Система реактора для осаждения алмазных пленок методом плазменного химического осаждения из газовой фазы в микроволновом поле (MPCVD) для лабораторий и выращивания алмазов

Система реактора для осаждения алмазных пленок методом плазменного химического осаждения из газовой фазы в микроволновом поле (MPCVD) для лабораторий и выращивания алмазов

Получите высококачественные алмазные пленки с помощью нашей установки MPCVD с резонатором типа "колокол", предназначенной для лабораторных исследований и выращивания алмазов. Узнайте, как плазменное химическое осаждение из газовой фазы в микроволновом поле (MPCVD) используется для выращивания алмазов с помощью углеродного газа и плазмы.

Реактор установки для цилиндрического резонатора МПХВД для химического осаждения из паровой фазы в микроволновой плазме и выращивания лабораторных алмазов

Реактор установки для цилиндрического резонатора МПХВД для химического осаждения из паровой фазы в микроволновой плазме и выращивания лабораторных алмазов

Узнайте о машине МПХВД с цилиндрическим резонатором, методе химического осаждения из паровой фазы в микроволновой плазме, используемом для выращивания алмазных драгоценных камней и пленок в ювелирной и полупроводниковой промышленности. Откройте для себя ее экономически выгодные преимущества по сравнению с традиционными методами HPHT.

Графитовая вакуумная печь для графитации пленки с высокой теплопроводностью

Графитовая вакуумная печь для графитации пленки с высокой теплопроводностью

Печь для графитации пленки с высокой теплопроводностью обеспечивает равномерную температуру, низкое энергопотребление и может работать непрерывно.

Вертикальная высокотемпературная вакуумная графитизационная печь

Вертикальная высокотемпературная вакуумная графитизационная печь

Вертикальная высокотемпературная графитизационная печь для карбонизации и графитизации углеродных материалов до 3100℃. Подходит для формованной графитизации нитей углеродного волокна и других материалов, спеченных в углеродной среде. Применение в металлургии, электронике и аэрокосмической промышленности для производства высококачественных графитовых изделий, таких как электроды и тигли.

Миниавтоклав высокого давления из нержавеющей стали для лабораторного использования

Миниавтоклав высокого давления из нержавеющей стали для лабораторного использования

Мини-реактор высокого давления из нержавеющей стали — идеальное решение для фармацевтической, химической и научно-исследовательской промышленности. Программируемая температура нагрева и скорость перемешивания, давление до 22 МПа.

Настраиваемые реакторы высокого давления для передовых научных и промышленных применений

Настраиваемые реакторы высокого давления для передовых научных и промышленных применений

Этот реактор высокого давления лабораторного масштаба представляет собой высокопроизводительный автоклав, разработанный для обеспечения точности и безопасности в требовательных средах исследований и разработок.

Графитовая вакуумная печь для экспериментальной графитизации на IGBT-транзисторах

Графитовая вакуумная печь для экспериментальной графитизации на IGBT-транзисторах

Экспериментальная печь для графитизации на IGBT-транзисторах, разработанная для университетов и научно-исследовательских институтов, с высокой эффективностью нагрева, простотой использования и точным контролем температуры.

Высокотемпературная лабораторная трубчатая печь высокого давления

Высокотемпературная лабораторная трубчатая печь высокого давления

Трубчатая печь высокого давления KT-PTF: Компактная разъемная трубчатая печь с высокой устойчивостью к положительному давлению. Рабочая температура до 1100°C и давление до 15 МПа. Также работает в контролируемой атмосфере или в условиях высокого вакуума.

Автоклавный реактор для гидротермального синтеза высокого давления

Автоклавный реактор для гидротермального синтеза высокого давления

Откройте для себя применение реактора гидротермального синтеза — небольшого, коррозионностойкого реактора для химических лабораторий. Быстрое растворение нерастворимых веществ безопасным и надежным способом. Узнайте больше сейчас.

Малая печь для вакуумной термообработки и спекания вольфрамовой проволоки

Малая печь для вакуумной термообработки и спекания вольфрамовой проволоки

Малая печь для спекания вольфрамовой проволоки в вакууме — это компактная экспериментальная вакуумная печь, специально разработанная для университетов и научно-исследовательских институтов. Печь оснащена сварным корпусом и вакуумными трубопроводами, изготовленными на станках с ЧПУ, что обеспечивает герметичность. Быстроразъемные электрические соединения облегчают перемещение и отладку, а стандартный электрический шкаф управления безопасен и удобен в эксплуатации.

Печь с контролируемой атмосферой 1400℃ с азотной и инертной атмосферой

Печь с контролируемой атмосферой 1400℃ с азотной и инертной атмосферой

Достигните точной термообработки с печью с контролируемой атмосферой KT-14A. Герметичная с помощью интеллектуального контроллера, она идеально подходит для лабораторного и промышленного использования до 1400℃.

Вакуумная герметичная ротационная трубчатая печь непрерывного действия

Вакуумная герметичная ротационная трубчатая печь непрерывного действия

Оцените эффективную обработку материалов с помощью нашей вакуумной ротационной трубчатой печи. Идеально подходит для экспериментов или промышленного производства, оснащена дополнительными функциями для контролируемой подачи и оптимизированных результатов. Закажите сейчас.

Лабораторная вакуумная наклонно-вращательная трубчатая печь Вращающаяся трубчатая печь

Лабораторная вакуумная наклонно-вращательная трубчатая печь Вращающаяся трубчатая печь

Откройте для себя универсальность лабораторной вращающейся печи: идеально подходит для прокаливания, сушки, спекания и высокотемпературных реакций. Регулируемые функции вращения и наклона для оптимального нагрева. Подходит для вакуумных сред и сред с контролируемой атмосферой. Узнайте больше прямо сейчас!

Печь для вакуумной термообработки молибдена

Печь для вакуумной термообработки молибдена

Откройте для себя преимущества молибденовой вакуумной печи с высокой конфигурацией и теплоизоляцией. Идеально подходит для сред высокой чистоты и вакуума, таких как рост сапфировых кристаллов и термообработка.

Печь для вакуумной термообработки и спекания молибденовой проволоки для вакуумного спекания

Печь для вакуумной термообработки и спекания молибденовой проволоки для вакуумного спекания

Вакуумная печь для спекания молибденовой проволоки имеет вертикальную или камерную конструкцию, подходящую для отжига, пайки, спекания и дегазации металлических материалов в условиях высокого вакуума и высокой температуры. Она также подходит для дегидроксилирования кварцевых материалов.


Оставьте ваше сообщение