Знание Каковы источники графена?Объяснение методов "сверху вниз" и "снизу вверх
Аватар автора

Техническая команда · Kintek Solution

Обновлено 1 месяц назад

Каковы источники графена?Объяснение методов "сверху вниз" и "снизу вверх

Графен, один слой атомов углерода, расположенных в гексагональной решетке, представляет собой материал с необычайными свойствами, такими как высокая электропроводность, механическая прочность и термическая стабильность. Его можно получить и синтезировать с помощью различных методов, которые в общих чертах можно разделить на подходы «сверху вниз» и «снизу вверх». Методы «сверху вниз» включают расщепление графита на графеновые слои, тогда как методы «снизу вверх» создают графен из более мелких углеродсодержащих молекул. Ключевые методы включают механическое отшелушивание, жидкофазное отшелушивание, химическое осаждение из паровой фазы (CVD) и сублимацию карбида кремния (SiC). Каждый метод имеет свои преимущества и ограничения, что делает их пригодными для различных приложений — от фундаментальных исследований до промышленного производства.

Объяснение ключевых моментов:

Каковы источники графена?Объяснение методов "сверху вниз" и "снизу вверх
  1. Методы сверху вниз:

    • Механическое отшелушивание: Этот метод предполагает отделение слоев графена от графита с помощью скотча. Он в основном используется в фундаментальных исследованиях из-за его способности производить высококачественный графен. Однако он не масштабируется для массового производства.
    • Жидкофазный пилинг: В этом процессе графит диспергируется в жидкой среде и подвергается ультразвуковой обработке для разделения слоев. Этот метод подходит для массового производства, но часто приводит к получению графена с более низким электрическим качеством из-за дефектов, возникающих в процессе.
    • Химическое окисление: Графит подвергается химической обработке для введения кислородсодержащих групп, что облегчает разделение на листы оксида графена. Эти листы затем можно превратить в графен. Хотя этот метод масштабируем, полученный графен часто имеет пониженные электрические и механические свойства из-за остаточных дефектов.
  2. Восходящие методы:

    • Химическое осаждение из паровой фазы (CVD): Это наиболее перспективный метод производства качественного графена на больших площадях. При CVD углеродсодержащий газ разлагается на металлической подложке (обычно медь или никель) при высоких температурах, образуя графеновый слой. CVD широко используется в промышленности благодаря своей масштабируемости и высокому качеству производимого графена.
    • Эпитаксиальный рост: Этот метод включает выращивание графена на подложке из карбида кремния (SiC) путем нагревания его до высоких температур, что приводит к сублимации кремния и образованию графенового слоя. Хотя этот метод производит высококачественный графен, он дорог и менее масштабируем по сравнению с CVD.
    • Дуговая разрядка: Этот метод предполагает создание электрической дуги между двумя графитовыми электродами в атмосфере инертного газа. Дуга испаряет графит, а атомы углерода рекомбинируются с образованием графена. Этот метод менее распространен и обычно используется для производства графена в меньших количествах.
  3. Сравнение методов:

    • Масштабируемость: CVD и жидкофазное отшелушивание являются наиболее масштабируемыми методами, что делает их пригодными для промышленного применения. Механическое отшелушивание и эпитаксиальный рост менее масштабируемы, но позволяют получить графен более высокого качества.
    • Качество: CVD и эпитаксиальный рост позволяют получить графен с высочайшими электрическими и механическими свойствами, что делает его идеальным для электронных приложений. Жидкофазное отшелушивание и химическое окисление, хотя и масштабируемы, часто приводят к образованию графена с большим количеством дефектов.
    • Расходы: Механическое отшелушивание и жидкофазное отшелушивание являются относительно недорогими методами, тогда как CVD и эпитаксиальный рост являются более дорогими из-за необходимости использования специализированного оборудования и высоких температур.

Таким образом, выбор метода производства графена зависит от предполагаемого применения, с компромиссом между качеством, масштабируемостью и стоимостью. CVD считается наиболее универсальным и многообещающим методом производства высококачественного графена в больших масштабах.

Сводная таблица:

Метод Тип Масштабируемость Качество Расходы
Механическое отшелушивание Сверху вниз Низкий Высокий Низкий
Жидкофазный пилинг Сверху вниз Высокий Середина Низкий
Химическое окисление Сверху вниз Высокий Середина Низкий
Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) Вверх дном Высокий Высокий Высокий
Эпитаксиальный рост Вверх дном Низкий Высокий Высокий
Дуговая разрядка Вверх дном Низкий Середина Середина

Хотите узнать больше о методах производства графена? Свяжитесь с нашими экспертами сегодня за индивидуальную консультацию!

Связанные товары

Углеродно-графитовая пластина - изостатическая

Углеродно-графитовая пластина - изостатическая

Изостатический углеродный графит прессуется из графита высокой чистоты. Это отличный материал для изготовления сопел ракет, материалов для замедления и отражающих материалов для графитовых реакторов.

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Технология, в основном используемая в области силовой электроники. Это графитовая пленка, изготовленная из исходного углеродного материала путем осаждения материала с использованием электронно-лучевой технологии.

Тигель для выпаривания графита

Тигель для выпаривания графита

Сосуды для высокотемпературных применений, где материалы выдерживаются при чрезвычайно высоких температурах для испарения, что позволяет наносить тонкие пленки на подложки.

TGPH060 Гидрофильная копировальная бумага

TGPH060 Гидрофильная копировальная бумага

Копировальная бумага Toray представляет собой продукт из пористого C/C композитного материала (композитный материал из углеродного волокна и углерода), прошедший высокотемпературную термообработку.

Экспериментальная печь для графитации IGBT

Экспериментальная печь для графитации IGBT

Экспериментальная печь графитации IGBT — специальное решение для университетов и исследовательских институтов, отличающееся высокой эффективностью нагрева, удобством использования и точным контролем температуры.

Графитовый дисковый электрод Графитовый стержень Графитовый листовой электрод

Графитовый дисковый электрод Графитовый стержень Графитовый листовой электрод

Высококачественные графитовые электроды для электрохимических экспериментов. Полные модели с кислото- и щелочестойкостью, безопасностью, долговечностью и возможностью индивидуальной настройки.

Проводящая углеродная ткань / копировальная бумага / углеродный войлок

Проводящая углеродная ткань / копировальная бумага / углеродный войлок

Проводящая углеродная ткань, бумага и войлок для электрохимических экспериментов. Высококачественные материалы для надежных и точных результатов. Закажите сейчас для вариантов настройки.

Большая вертикальная печь графитации

Большая вертикальная печь графитации

Большая вертикальная высокотемпературная печь для графитации — это тип промышленной печи, используемой для графитации углеродных материалов, таких как углеродное волокно и технический углерод. Это высокотемпературная печь, которая может достигать температуры до 3100°C.

Сверхвысокотемпературная печь графитации

Сверхвысокотемпературная печь графитации

В печи для сверхвысокой температуры графитации используется среднечастотный индукционный нагрев в вакууме или среде инертного газа. Индукционная катушка создает переменное магнитное поле, индуцирующее вихревые токи в графитовом тигле, которые нагреваются и излучают тепло к заготовке, доводя ее до нужной температуры. Эта печь в основном используется для графитации и спекания углеродных материалов, материалов из углеродного волокна и других композитных материалов.

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Фильера для нанесения наноалмазного композитного покрытия использует цементированный карбид (WC-Co) в качестве подложки, а для нанесения обычного алмаза и наноалмазного композитного покрытия на поверхность внутреннего отверстия пресс-формы используется метод химической паровой фазы (сокращенно CVD-метод).

Электронно-лучевой тигель

Электронно-лучевой тигель

В контексте испарения с помощью электронного луча тигель представляет собой контейнер или держатель источника, используемый для хранения и испарения материала, который должен быть нанесен на подложку.


Оставьте ваше сообщение