Знание Как с помощью химического осаждения из паровой фазы (CVD) получают графен?Разблокирование производства в промышленных масштабах
Аватар автора

Техническая команда · Kintek Solution

Обновлено 1 день назад

Как с помощью химического осаждения из паровой фазы (CVD) получают графен?Разблокирование производства в промышленных масштабах

Производство графена методом химического осаждения из паровой фазы (CVD) - это сложный процесс, который включает в себя контролируемое разложение углеродсодержащих газов на металлической подложке с образованием одного слоя графена. Процесс делится на два основных этапа: пиролиз прекурсора до углерода и формирование графитовой структуры из диссоциированных атомов углерода. Подложка, обычно представляющая собой металл, такой как медь (Cu), платина (Pt) или иридий (Ir), играет двойную роль - катализатора и поверхности для зарождения графена. Процесс требует точного контроля температуры и потока газа для обеспечения качественного формирования графена. После выращивания графен отделяется от металлической подложки и переносится на нужную поверхность для нанесения. Этот метод - единственный, способный производить графен в промышленных масштабах, что делает его краеугольным камнем в производстве графена.

Ключевые моменты:

Как с помощью химического осаждения из паровой фазы (CVD) получают графен?Разблокирование производства в промышленных масштабах
  1. Обзор процесса CVD:

    • CVD-процесс включает в себя разложение углеродсодержащих газов в контролируемой среде с образованием графена на металлической подложке.
    • Подложка, обычно представляющая собой металл, такой как медь, платина или иридий, служит одновременно катализатором и поверхностью для зарождения графена.
  2. Основные этапы CVD-технологии графена:

    • Пиролиз прекурсора:
      • Углеродсодержащие газы (например, метан, этилен) вводятся в камеру CVD.
      • Эти газы адсорбируются на металлической подложке и разлагаются при высоких температурах (обычно 800-1000°C) с образованием углерода.
      • Пиролиз должен происходить на поверхности подложки, чтобы предотвратить образование углеродной сажи, которая может ухудшить качество графена.
    • Формирование структуры графена:
      • Диссоциированные атомы углерода диффундируют по поверхности металла и образуют небольшие углеродные кластеры.
      • Как только эти кластеры превышают критический размер, происходит зарождение графеновых кристаллов.
      • Углерод продолжает присоединяться к краям этих графеновых островков, образуя в итоге непрерывный однослойный графен.
  3. Роль металлической подложки:

    • Металлическая подложка действует как катализатор, снижая энергию, необходимую для разложения углеродных прекурсоров.
    • Она также обеспечивает поверхность для зарождения и роста графена.
    • Обычно используются такие металлы, как медь (Cu), платина (Pt) и иридий (Ir), причем медь наиболее широко применяется благодаря своей экономичности и способности производить высококачественный графен.
  4. Контроль температуры и потока газа:

    • Точный контроль температуры подложки имеет решающее значение для обеспечения надлежащего разложения углеродных прекурсоров и образования высококачественного графена.
    • Скорость потока газа также должна тщательно регулироваться для поддержания нужной концентрации углерода на поверхности подложки.
  5. Обработка после роста:

    • После роста графена его отделяют от металлической подложки с помощью таких методов, как химическое травление или электрохимическое расслоение.
    • Затем графен переносится на нужную подложку (например, кремний, стекло или полимер) для дальнейшего использования в приложениях.
  6. Преимущества CVD для производства графена:

    • Масштабируемость: CVD - единственный метод, позволяющий производить графен в промышленных масштабах.
    • Качество: Процесс позволяет получать высококачественный однослойный графен с минимальным количеством дефектов.
    • Универсальность: Графен, полученный методом CVD, может быть перенесен на различные подложки, что делает его пригодным для широкого спектра применений, включая электронику, датчики и накопители энергии.
  7. Проблемы и соображения:

    • Стоимость: Использование высокочистых газов и металлических подложек может сделать процесс дорогим.
    • Сложность: Процесс требует точного контроля множества параметров, включая температуру, поток газа и давление.
    • Процесс переноса: Перенос графена с металлической подложки на целевую поверхность может привести к появлению дефектов или загрязнений, что скажется на конечном качестве.

Понимая эти ключевые моменты, можно оценить тонкости CVD-процесса производства графена и его значение для обеспечения крупномасштабного производства этого революционного материала.

Сводная таблица:

Ключевой аспект Подробности
Обзор процесса Разложение углеродсодержащих газов на металлической подложке с образованием графена.
Ключевые этапы Пиролиз прекурсора и формирование графеновой структуры.
Роль металлической подложки Выступает в качестве катализатора и поверхности для зарождения графена.
Контроль температуры и газа Точный контроль обеспечивает качественное формирование графена.
Обработка после роста Графен отделяется и переносится на нужные подложки.
Преимущества Масштабируемость, высокое качество и универсальность для различных применений.
Проблемы Высокая стоимость, сложность процесса и возможные дефекты при переносе.

Узнайте, как CVD может революционизировать ваше производство графена. свяжитесь с нашими специалистами сегодня !

Связанные товары

CVD-алмазное покрытие

CVD-алмазное покрытие

Алмазное покрытие CVD: превосходная теплопроводность, качество кристаллов и адгезия для режущих инструментов, трения и акустических применений.

CVD-алмаз, легированный бором

CVD-алмаз, легированный бором

Алмаз, легированный CVD бором: универсальный материал, обеспечивающий индивидуальную электропроводность, оптическую прозрачность и исключительные тепловые свойства для применения в электронике, оптике, сенсорных и квантовых технологиях.

Универсальная трубчатая печь CVD, изготовленная по индивидуальному заказу CVD-машина

Универсальная трубчатая печь CVD, изготовленная по индивидуальному заказу CVD-машина

Получите свою эксклюзивную печь CVD с универсальной печью KT-CTF16, изготовленной по индивидуальному заказу. Настраиваемые функции скольжения, вращения и наклона для точной реакции. Заказать сейчас!

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

RF-PECVD - это аббревиатура от "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". С его помощью на германиевые и кремниевые подложки наносится пленка DLC (алмазоподобного углерода). Он используется в инфракрасном диапазоне длин волн 3-12um.

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Фильера для нанесения наноалмазного композитного покрытия использует цементированный карбид (WC-Co) в качестве подложки, а для нанесения обычного алмаза и наноалмазного композитного покрытия на поверхность внутреннего отверстия пресс-формы используется метод химической паровой фазы (сокращенно CVD-метод).

CVD-алмаз для терморегулирования

CVD-алмаз для терморегулирования

CVD-алмаз для управления температурным режимом: высококачественный алмаз с теплопроводностью до 2000 Вт/мК, идеально подходящий для теплоотводов, лазерных диодов и приложений GaN на алмазе (GOD).

Мульти зоны нагрева CVD трубчатая печь CVD машина

Мульти зоны нагрева CVD трубчатая печь CVD машина

Печь KT-CTF14 с несколькими зонами нагрева CVD - точный контроль температуры и потока газа для передовых приложений. Максимальная температура до 1200℃, 4-канальный массовый расходомер MFC и 7-дюймовый TFT-контроллер с сенсорным экраном.

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Усовершенствуйте свой процесс нанесения покрытий с помощью оборудования для нанесения покрытий методом PECVD. Идеально подходит для производства светодиодов, силовых полупроводников, МЭМС и многого другого. Осаждает высококачественные твердые пленки при низких температурах.

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Узнайте о машине MPCVD с цилиндрическим резонатором - методе микроволнового плазмохимического осаждения из паровой фазы, который используется для выращивания алмазных камней и пленок в ювелирной и полупроводниковой промышленности. Узнайте о его экономически эффективных преимуществах по сравнению с традиционными методами HPHT.

Колокольный резонатор MPCVD Машина для лаборатории и выращивания алмазов

Колокольный резонатор MPCVD Машина для лаборатории и выращивания алмазов

Получите высококачественные алмазные пленки с помощью нашей машины MPCVD с резонатором Bell-jar Resonator, предназначенной для лабораторного выращивания и выращивания алмазов. Узнайте, как микроволновое плазменно-химическое осаждение из паровой фазы работает для выращивания алмазов с использованием углекислого газа и плазмы.

Тигель для выпаривания графита

Тигель для выпаривания графита

Сосуды для высокотемпературных применений, где материалы выдерживаются при чрезвычайно высоких температурах для испарения, что позволяет наносить тонкие пленки на подложки.

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Технология, в основном используемая в области силовой электроники. Это графитовая пленка, изготовленная из исходного углеродного материала путем осаждения материала с использованием электронно-лучевой технологии.

915MHz MPCVD алмазная машина

915MHz MPCVD алмазная машина

915MHz MPCVD Diamond Machine и его многокристальный эффективный рост, максимальная площадь может достигать 8 дюймов, максимальная эффективная площадь роста монокристалла может достигать 5 дюймов. Это оборудование в основном используется для производства поликристаллических алмазных пленок большого размера, роста длинных монокристаллов алмазов, низкотемпературного роста высококачественного графена и других материалов, для роста которых требуется энергия, предоставляемая микроволновой плазмой.

Заготовки для волочения алмазной проволоки CVD

Заготовки для волочения алмазной проволоки CVD

Заготовки для волочения алмазной проволоки CVD: превосходная твердость, стойкость к истиранию и применимость при волочении различных материалов. Идеально подходит для абразивной обработки, например обработки графита.


Оставьте ваше сообщение