Знание Что такое метод осаждения с помощью термического испарения? (4 ключевых этапа)
Аватар автора

Техническая команда · Kintek Solution

Обновлено 3 месяца назад

Что такое метод осаждения с помощью термического испарения? (4 ключевых этапа)

Термическое испарение - это метод физического осаждения из паровой фазы (PVD), используемый для нанесения тонких пленок на подложку.

Этот метод предполагает нагревание материала в высоковакуумной среде до тех пор, пока он не испарится.

Затем испарившиеся молекулы конденсируются на подложке, образуя тонкую пленку.

Что такое метод осаждения с помощью термического испарения? (Объяснение 4 ключевых этапов)

Что такое метод осаждения с помощью термического испарения? (4 ключевых этапа)

1. Высоковакуумная среда

Процесс начинается в вакуумной камере.

Это необходимо для предотвращения вмешательства газовых частиц во время осаждения.

Вакуум поддерживается вакуумным насосом, обеспечивающим низкое давление вокруг исходного материала.

Это повышает эффективность испарения.

2. Нагрев материала

Материал для осаждения, называемый испарителем, помещается в тигель или лодочку из тугоплавких материалов, таких как вольфрам или молибден.

Этот контейнер нагревается, обычно с помощью джоулева нагрева, до температуры, достаточно высокой для того, чтобы материал испарился.

3. Перенос паров и конденсация

После испарения молекулы проходят через вакуум и достигают подложки.

При контакте с более холодной подложкой пар конденсируется, образуя тонкую пленку.

Этот процесс можно повторить для дальнейшего роста и зарождения тонкой пленки.

4. Универсальность

Термическое испарение универсально и позволяет осаждать широкий спектр материалов, включая такие металлы, как алюминий, серебро, никель и другие.

Эта универсальность, наряду с простотой процесса, делает термическое испарение популярным выбором как в лабораторных, так и в промышленных условиях.

Продолжайте изучать, проконсультируйтесь с нашими специалистами

Откройте для себя точность и эффективность систем термического испарения KINTEK SOLUTION, идеально подходящих для ваших потребностей в осаждении тонких пленок.

Наша современная технология PVD обеспечивает оптимальную производительность в высоковакуумной среде, позволяя получать высококачественные пленки для различных областей применения.

Обновите свою лабораторию с помощью KINTEK SOLUTION уже сегодня и присоединитесь к числу лидеров отрасли, которые полагаются на наши передовые решения.

Узнайте больше и раскройте свой потенциал в области тонких пленок.

Связанные товары

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Усовершенствуйте свой процесс нанесения покрытий с помощью оборудования для нанесения покрытий методом PECVD. Идеально подходит для производства светодиодов, силовых полупроводников, МЭМС и многого другого. Осаждает высококачественные твердые пленки при низких температурах.

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

RF-PECVD - это аббревиатура от "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". С его помощью на германиевые и кремниевые подложки наносится пленка DLC (алмазоподобного углерода). Он используется в инфракрасном диапазоне длин волн 3-12um.

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Технология, в основном используемая в области силовой электроники. Это графитовая пленка, изготовленная из исходного углеродного материала путем осаждения материала с использованием электронно-лучевой технологии.

Электронно-лучевое напыление покрытия бескислородного медного тигля

Электронно-лучевое напыление покрытия бескислородного медного тигля

При использовании методов электронно-лучевого испарения использование тиглей из бескислородной меди сводит к минимуму риск загрязнения кислородом в процессе испарения.

испарительная лодка для органических веществ

испарительная лодка для органических веществ

Испарительная лодочка для органических веществ является важным инструментом для точного и равномерного нагрева при осаждении органических материалов.

Тигель для выпаривания графита

Тигель для выпаривания графита

Сосуды для высокотемпературных применений, где материалы выдерживаются при чрезвычайно высоких температурах для испарения, что позволяет наносить тонкие пленки на подложки.

Набор керамических испарительных лодочек

Набор керамических испарительных лодочек

Его можно использовать для осаждения из паровой фазы различных металлов и сплавов. Большинство металлов можно полностью испарить без потерь. Испарительные корзины многоразовые.

Электронно-лучевой тигель

Электронно-лучевой тигель

В контексте испарения с помощью электронного луча тигель представляет собой контейнер или держатель источника, используемый для хранения и испарения материала, который должен быть нанесен на подложку.

Испарительный тигель для органических веществ

Испарительный тигель для органических веществ

Тигель для выпаривания органических веществ, называемый тиглем для выпаривания, представляет собой контейнер для выпаривания органических растворителей в лабораторных условиях.

Испарительная лодочка из алюминированной керамики

Испарительная лодочка из алюминированной керамики

Сосуд для нанесения тонких пленок; имеет керамический корпус с алюминиевым покрытием для повышения термической эффективности и химической стойкости. что делает его пригодным для различных приложений.

Испарение электронного луча покрывая вольфрамовый тигель/тигель молибдена

Испарение электронного луча покрывая вольфрамовый тигель/тигель молибдена

Вольфрамовые и молибденовые тигли широко используются в процессах электронно-лучевого испарения благодаря их превосходным термическим и механическим свойствам.

Молибден/Вольфрам/Тантал Испарительная Лодка

Молибден/Вольфрам/Тантал Испарительная Лодка

Лодочные источники испарения используются в системах термического испарения и подходят для осаждения различных металлов, сплавов и материалов. Испарительные лодочки доступны из вольфрама, тантала и молибдена различной толщины, что обеспечивает совместимость с различными источниками энергии. В качестве контейнера используется для вакуумного испарения материалов. Их можно использовать для осаждения тонких пленок различных материалов или спроектировать так, чтобы они были совместимы с такими методами, как изготовление электронным лучом.

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Фильера для нанесения наноалмазного композитного покрытия использует цементированный карбид (WC-Co) в качестве подложки, а для нанесения обычного алмаза и наноалмазного композитного покрытия на поверхность внутреннего отверстия пресс-формы используется метод химической паровой фазы (сокращенно CVD-метод).


Оставьте ваше сообщение