Частота RF, используемая в процессе распыления, обычно составляет 13,56 МГц. Эта частота выбрана потому, что она попадает в диапазоны промышленного, научного и медицинского радиодиапазонов (ISM), которые признаны во всем мире для целей, не связанных с связью. Процесс RF-напыления включает создание плазмы в вакуумной камере с использованием инертного газа, такого как аргон. Источник радиочастотной энергии ионизирует атомы газа, которые затем ударяют по материалу мишени, вызывая его распыление и образование тонкой пленки на подложке. Этот процесс включает положительные и отрицательные циклы для предотвращения накопления ионов на изолирующих мишенях, обеспечивая последовательный и эффективный процесс распыления.
Объяснение ключевых моментов:
![Какая радиочастота используется для процесса напыления?Узнайте о преимуществах частоты 13,56 МГц](https://image.kindle-tech.com/images/faqs/2834/5BIvo7SjzrJDKuPL.jpg)
-
Радиочастотная частота при распылении:
- Радиочастотная частота, используемая при распылении, обычно составляет 13,56 МГц. Эта частота является частью диапазона ISM, который зарезервирован для промышленных, научных и медицинских приложений. Выбор этой частоты обеспечивает минимальное вмешательство в системы связи и позволяет эффективно ионизировать газ в камере напыления.
-
Роль аргона в распылении:
- Аргон является наиболее часто используемым газом в процессе напыления из-за его инертной природы и относительно низкой стоимости. При попадании в вакуумную камеру атомы аргона ионизируются источником радиочастотной энергии, создавая плазму. Эти ионы затем бомбардируют целевой материал, вызывая его распыление и осаждение на подложку.
-
Процесс РЧ распыления:
- Процесс RF-напыления начинается с помещения целевого материала, подложки и RF-электродов в вакуумную камеру. Вводится инертный газ, например аргон, и активируется источник радиочастотного питания. Радиочастотные волны ионизируют атомы газа, которые затем ударяются о целевой материал, разбивая его на мелкие кусочки, которые перемещаются к подложке и образуют тонкую пленку.
-
Положительные и отрицательные циклы:
- Процесс RF-напыления включает два цикла: положительный и отрицательный. В положительном цикле электроны притягиваются к катоду, создавая отрицательное смещение. В отрицательном цикле бомбардировка ионами продолжается. Этот переменный цикл предотвращает накопление ионов на изолирующих мишенях, избегая постоянного отрицательного напряжения на катоде, обеспечивая стабильный и эффективный процесс распыления.
-
Магнетронное распыление и использование мишени:
- При магнетронном распылении кольцевое магнитное поле заставляет вторичные электроны двигаться вокруг него, создавая область с наибольшей плотностью плазмы. Эта область во время напыления излучает сильное голубое свечение, образуя ореол. Мишень в этой области подвергается сильной бомбардировке ионами, что приводит к образованию кольцеобразной канавки. Как только эта канавка проникает в мишень, вся мишень выбрасывается, что приводит к низкому коэффициенту использования мишени, обычно ниже 40%.
Понимая эти ключевые моменты, можно оценить сложность и точность, необходимые в процессе радиочастотного распыления, особенно при выборе радиочастоты и роли аргона в создании стабильной плазмы для эффективного осаждения тонких пленок.
Сводная таблица:
Ключевой аспект | Подробности |
---|---|
РЧ частота | 13,56 МГц, часть диапазона ISM для минимальных помех и эффективной ионизации. |
Роль Аргона | Инертный газ, используемый для создания плазмы, ионизированной радиочастотной энергией для бомбардировки цели. |
Процесс РЧ распыления | Включает вакуумную камеру, радиочастотные электроды и чередующиеся положительные/отрицательные циклы. |
Целевое использование | Магнетронное распыление приводит к низкому коэффициенту использования, обычно ниже 40%. |
Раскройте потенциал радиочастотного распыления для своих применений. свяжитесь с нашими экспертами сегодня для индивидуальных решений!