При напылении мишень представляет собой твердый кусок материала, который используется для нанесения тонкой пленки на подложку. Этот процесс включает в себя выброс атомов или молекул из материала мишени в результате бомбардировки энергичными частицами, обычно ионами инертного газа, например аргона. Напыленный материал образует пленку на подложке, помещенной в вакуумную камеру.
Характеристики и типы мишеней:
Мишени в системах напыления обычно представляют собой твердые плиты различных размеров и форм, от плоских до цилиндрических, в зависимости от конкретных требований к геометрии плазмы. Эти мишени изготавливаются из различных материалов, включая чистые металлы, сплавы и соединения, такие как оксиды или нитриды. Выбор материала мишени зависит от желаемых свойств осаждаемой тонкой пленки.Процесс напыления:
В процессе напыления в вакуумную камеру подается контролируемый газ, обычно аргон. Электрический разряд подается на катод, где находится материал мишени, создавая плазму. В этой плазме атомы аргона ионизируются и ускоряются по направлению к мишени, где они сталкиваются с материалом мишени, вызывая выброс атомов или молекул. Эти выброшенные частицы образуют поток пара, который проходит через камеру и оседает на подложке, образуя тонкую пленку.
Конкретные примеры и области применения:
Например, кремниевая мишень для напыления изготавливается из слитка кремния и может быть произведена различными методами, такими как гальваника, напыление или осаждение из паровой фазы. Эти мишени обрабатываются, чтобы обеспечить желаемые условия поверхности, такие как высокая отражательная способность и низкая шероховатость поверхности, которые имеют решающее значение для качества осажденных пленок. Пленки, полученные с помощью таких мишеней, характеризуются малым количеством частиц, что делает их пригодными для применения в производстве полупроводников и солнечных батарей.
