Знание Каковы 2 метода снятия показаний? (Объясняется простыми словами)
Аватар автора

Техническая команда · Kintek Solution

Обновлено 2 месяца назад

Каковы 2 метода снятия показаний? (Объясняется простыми словами)

Осаждение - это процесс, используемый для создания тонких пленок на различных материалах.

Существует два основных метода осаждения: Физическое осаждение из паровой фазы (PVD) и Химическое осаждение из паровой фазы (CVD).

Что такое два метода осаждения? (Объясняется простыми терминами)

Каковы 2 метода снятия показаний? (Объясняется простыми словами)

1. Физическое осаждение паров (PVD)

При PVD пар создается путем нагрева или распыления твердого материала.

Затем пар конденсируется на подложке, образуя тонкую пленку.

Пар состоит из атомов и молекул, которые просто конденсируются на подложке, не вступая в химическую реакцию.

Методы PVD включают испарение и распыление.

2. Химическое осаждение паров (CVD)

В методе CVD пар вступает в химическую реакцию на поверхности подложки, образуя тонкую пленку.

Реакция обычно начинается при взаимодействии жидкости-предшественника с подложкой.

Методы CVD включают химическое осаждение в ванне, гальваностегию, молекулярно-лучевую эпитаксию, термическое окисление и CVD с усилением плазмы (PECVD).

Сравнение PVD и CVD

И PVD, и CVD используются для создания тонких пленок из различных материалов на различных подложках.

Выбор между этими двумя методами зависит от таких факторов, как стоимость, толщина пленки, доступность исходного материала и контроль состава.

PVD подходит для ситуаций, когда достаточно простой конденсации атомов или молекул.

CVD предпочтительнее, когда для формирования желаемой тонкой пленки требуется химическая реакция.

Продолжайте исследовать, обратитесь к нашим специалистам

Ищете высококачественное лабораторное оборудование для осаждения тонких пленок?

Обратите внимание на KINTEK!

Благодаря широкому ассортименту продукции и опыту в области физического осаждения из паровой фазы (PVD) и химического осаждения из паровой фазы (CVD), мы поможем вам получить точные и эффективные тонкопленочные покрытия.

Если вам необходимо гальваническое, золь-гель, окунание, спиновое покрытие, CVD, плазменное CVD (PECVD) или атомно-слоевое осаждение (ALD), у нас есть необходимое оборудование.

Улучшите свойства ваших подложек с помощью передовых решений KINTEK для осаждения.

Свяжитесь с нами сегодня, чтобы получить консультацию!

Связанные товары

CVD-алмазное покрытие

CVD-алмазное покрытие

Алмазное покрытие CVD: превосходная теплопроводность, качество кристаллов и адгезия для режущих инструментов, трения и акустических применений.

CVD-алмаз, легированный бором

CVD-алмаз, легированный бором

Алмаз, легированный CVD бором: универсальный материал, обеспечивающий индивидуальную электропроводность, оптическую прозрачность и исключительные тепловые свойства для применения в электронике, оптике, сенсорных и квантовых технологиях.

Универсальная трубчатая печь CVD, изготовленная по индивидуальному заказу CVD-машина

Универсальная трубчатая печь CVD, изготовленная по индивидуальному заказу CVD-машина

Получите свою эксклюзивную печь CVD с универсальной печью KT-CTF16, изготовленной по индивидуальному заказу. Настраиваемые функции скольжения, вращения и наклона для точной реакции. Заказать сейчас!

Наклонная ротационная машина для трубчатой печи с плазменным осаждением (PECVD)

Наклонная ротационная машина для трубчатой печи с плазменным осаждением (PECVD)

Представляем нашу наклонную вращающуюся печь PECVD для точного осаждения тонких пленок. Наслаждайтесь автоматическим согласованием источника, программируемым ПИД-регулятором температуры и высокоточным управлением массовым расходомером MFC. Встроенные функции безопасности для вашего спокойствия.

CVD-алмаз для терморегулирования

CVD-алмаз для терморегулирования

CVD-алмаз для управления температурным режимом: высококачественный алмаз с теплопроводностью до 2000 Вт/мК, идеально подходящий для теплоотводов, лазерных диодов и приложений GaN на алмазе (GOD).

Колокольный резонатор MPCVD Машина для лаборатории и выращивания алмазов

Колокольный резонатор MPCVD Машина для лаборатории и выращивания алмазов

Получите высококачественные алмазные пленки с помощью нашей машины MPCVD с резонатором Bell-jar Resonator, предназначенной для лабораторного выращивания и выращивания алмазов. Узнайте, как микроволновое плазменно-химическое осаждение из паровой фазы работает для выращивания алмазов с использованием углекислого газа и плазмы.

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Фильера для нанесения наноалмазного композитного покрытия использует цементированный карбид (WC-Co) в качестве подложки, а для нанесения обычного алмаза и наноалмазного композитного покрытия на поверхность внутреннего отверстия пресс-формы используется метод химической паровой фазы (сокращенно CVD-метод).

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Усовершенствуйте свой процесс нанесения покрытий с помощью оборудования для нанесения покрытий методом PECVD. Идеально подходит для производства светодиодов, силовых полупроводников, МЭМС и многого другого. Осаждает высококачественные твердые пленки при низких температурах.

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

RF-PECVD - это аббревиатура от "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". С его помощью на германиевые и кремниевые подложки наносится пленка DLC (алмазоподобного углерода). Он используется в инфракрасном диапазоне длин волн 3-12um.

Набор керамических испарительных лодочек

Набор керамических испарительных лодочек

Его можно использовать для осаждения из паровой фазы различных металлов и сплавов. Большинство металлов можно полностью испарить без потерь. Испарительные корзины многоразовые.

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Узнайте о машине MPCVD с цилиндрическим резонатором - методе микроволнового плазмохимического осаждения из паровой фазы, который используется для выращивания алмазных камней и пленок в ювелирной и полупроводниковой промышленности. Узнайте о его экономически эффективных преимуществах по сравнению с традиционными методами HPHT.

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Технология, в основном используемая в области силовой электроники. Это графитовая пленка, изготовленная из исходного углеродного материала путем осаждения материала с использованием электронно-лучевой технологии.


Оставьте ваше сообщение