Печь CVD и PECVD
Оборудование для осаждения из паровой фазы CVD Система Камерная Печь-труба PECVD с Жидкостным Газификатором Машина PECVD
Артикул : KT-PE12
Цена может варьироваться в зависимости от спецификации и настройки
- Макс. температура
- 1200 ℃
- Постоянная рабочая температура
- 1100 ℃
- Диаметр трубы печи
- 60 мм
- Длина зоны нагрева
- 1x450 мм
- Скорость нагрева
- 0-20 ℃/мин
- Расстояние скольжения
- 600мм
Доставка:
Свяжитесь с нами чтобы получить подробности о доставке. Наслаждайтесь Гарантия своевременной отправки.
Почему выбирают нас
Надежный партнерПростой процесс заказа, качественные продукты и специализированная поддержка для успеха вашего бизнеса.
Введение
Скользящая печь-труба PECVD с жидкостным газификатором PECVD — это универсальная и высокопроизводительная система, разработанная для широкого спектра применений осаждения тонких пленок. Она оснащена источником плазмы RF мощностью 500 Вт, выдвижной печью, точным управлением потоком газа и вакуумной станцией. Система предлагает такие преимущества, как автоматическое согласование плазмы, высокоскоростной нагрев и охлаждение, программируемое управление температурой и удобный интерфейс. Она широко используется в исследовательских и производственных условиях для осаждения тонких пленок в различных отраслях, включая электронику, полупроводники и оптику.
Применения
Скользящая печь-труба PECVD с жидкостным газификатором PECVD находит применение в:
- Химическое осаждение из паровой фазы (CVD)
- Плазменно-усиленное химическое осаждение из паровой фазы (PECVD)
- Осаждение тонких пленок
- Изготовление солнечных элементов
- Обработка полупроводников
- Нанотехнологии
- Материаловедение
- Исследования и разработки
Доступны различные системы CVD с разной температурой и конфигурацией
Принцип
Скользящая печь-труба PECVD с жидкостным газификатором PECVD использует низкотемпературную плазму для создания тлеющего разряда на катоде (лотке для образцов) в камере процесса. Тлеющий разряд (или другой источник тепла) повышает температуру образца до заданного уровня. Затем вводятся контролируемые количества технологического газа, который подвергается химическим реакциям и плазменным реакциям, образуя твердую пленку на поверхности образца.
Характеристики
Скользящая печь-труба PECVD с жидкостным газификатором PECVD предлагает пользователям множество преимуществ:
- Увеличенная выходная мощность для пластин солнечных элементов: Инновационная конструкция графитового лотка значительно повышает выходную мощность солнечных элементов.
- Устранение цветовой разницы в трубчатых ячейках PECVD: Это оборудование эффективно решает проблему вариации цвета в трубчатых ячейках PECVD.
- Широкий диапазон выходной мощности (5-500 Вт): Автоматический согласующий источник плазмы RF обеспечивает универсальный диапазон выходной мощности, гарантируя оптимальную производительность для различных применений.
- Высокоскоростной нагрев и охлаждение: Система скольжения камеры печи обеспечивает быстрый нагрев и охлаждение, сокращая время обработки. Вспомогательная циркуляция принудительного воздуха дополнительно ускоряет скорость охлаждения.
- Автоматическое скользящее движение: Опциональная функция скользящего движения позволяет автоматизировать работу, повышая эффективность и снижая необходимость ручного вмешательства.
- Точное управление температурой: Программируемое управление температурой ПИД обеспечивает точное регулирование температуры, поддерживая удаленное и централизованное управление для дополнительного удобства.
- Высокоточное управление массовым расходомером MFC: Массовый расходомер MFC точно контролирует исходные газы, обеспечивая стабильную и постоянную подачу газа.
- Универсальная вакуумная станция: Фланец вакуумной системы из нержавеющей стали с несколькими адаптерными портами позволяет использовать различные конфигурации вакуумных насосных станций, обеспечивая высокую степень вакуума.
- Удобный интерфейс: 7-дюймовый сенсорный контроллер CTF Pro TFT упрощает настройку программ и позволяет легко анализировать исторические данные.
Преимущества
- Автоматический согласующий источник плазмы RF, широкий диапазон выходной мощности 5-500 Вт, стабильная выходная мощность
- Система скольжения камеры печи для высокоскоростного нагрева и быстрого охлаждения, доступны вспомогательное быстрое охлаждение и автоматическое скользящее движение
- Программируемое управление температурой ПИД, превосходная точность управления и поддержка удаленного и централизованного управления
- Высокоточное управление массовым расходомером MFC, предварительное смешивание исходных газов и стабильная скорость подачи газа
- Фланец вакуумной системы из нержавеющей стали с различными адаптерными портами для различных конфигураций вакуумных насосных станций, хорошее уплотнение и высокая степень вакуума
- CTF Pro использует 7-дюймовый сенсорный контроллер TFT, более удобную настройку программ и анализ исторических данных
Преимущество безопасности
- Трубчатая печь Kindle Tech имеет функцию защиты от перегрузки по току и сигнализации о перегреве, печь автоматически отключает питание
- Печь имеет встроенную функцию обнаружения термопары, печь прекратит нагрев и включится сигнализация при обнаружении обрыва или сбоя
- PE Pro поддерживает функцию перезапуска при сбое питания, печь возобновит программу нагрева печи при восстановлении питания после сбоя
Технические характеристики
| Модель печи | KT-PE12-60 |
| Макс. температура | 1200℃ |
| Постоянная рабочая температура | 1100℃ |
| Материал трубки печи | Кварц высокой чистоты |
| Диаметр трубки печи | 60 мм |
| Длина зоны нагрева | 1x450 мм |
| Материал камеры | Японское алюминиевое волокно |
| Нагревательный элемент | Спиральный провод Cr2Al2Mo2 |
| Скорость нагрева | 0-20℃/мин |
| Термопара | Встроенный тип K |
| Контроллер температуры | Цифровой ПИД-контроллер/Сенсорный ПИД-контроллер |
| Точность контроля температуры | ±1℃ |
| Расстояние скольжения | 600 мм |
| Блок плазмы RF | |
| Выходная мощность | Регулируемая 5-500 Вт с стабильностью ± 1% |
| Частота RF | 13,56 МГц ± 0,005% стабильности |
| Отраженная мощность | Макс. 350 Вт. |
| Согласование | Автоматическое |
| Шум | <50 дБ |
| Охлаждение | Воздушное охлаждение. |
| Блок точного контроля газа | |
| Расходомер | Массовый расходомер MFC |
| Газовые каналы | 4 канала |
| Скорость потока | MFC1: 0-5 SCCM O2 MFC2: 0-20 SCCM CH4 MFC3: 0-100 SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 |
| Линейность | ±0,5% от полной шкалы. |
| Повторяемость | ±0,2% от полной шкалы. |
| Трубопровод и клапан | Нержавеющая сталь |
| Максимальное рабочее давление | 0,45 МПа |
| Контроллер расходомера | Цифровой контроллер с ручкой/Сенсорный контроллер |
| Стандартный вакуумный блок (опционально) | |
| Вакуумный насос | Масляный пластинчато-роторный вакуумный насос |
| Производительность насоса | 4 л/с |
| Порт вакуумного всасывания | KF25 |
| Вакуумметр | Пирани/Резистивный кремниевый вакуумметр |
| Номинальное вакуумное давление | 10 Па |
| Блок высокого вакуума (опционально) | |
| Вакуумный насос | Масляный пластинчато-роторный насос + молекулярный насос |
| Производительность насоса | 4 л/с + 110 л/с |
| Порт вакуумного всасывания | KF25 |
| Вакуумметр | Комбинированный вакуумметр |
| Номинальное вакуумное давление | 6x10-4 Па |
| Вышеуказанные спецификации и конфигурации могут быть изменены по индивидуальному заказу | |
Стандартная комплектация
| № | Описание | Количество |
| 1 | Печь | 1 |
| 2 | Кварцевая трубка | 1 |
| 3 | Вакуумный фланец | 2 |
| 4 | Тепловой блок трубки | 2 |
| 5 | Крюк для теплового блока трубки | 1 |
| 6 | Термостойкая перчатка | 1 |
| 7 | Источник плазмы RF | 1 |
| 8 | Точный контроль газа | 1 |
| 9 | Вакуумный блок | 1 |
| 10 | Руководство по эксплуатации | 1 |
Опциональная конфигурация
- Обнаружение и мониторинг газов в трубке, таких как H2, O2 и т. д.
- Независимый мониторинг и запись температуры печи
- Коммуникационный порт RS 485 для удаленного управления ПК и экспорта данных
- Контроль скорости подачи газов внутрь, например, массовый расходомер и поплавковый расходомер
- Сенсорный контроллер температуры с универсальными удобными функциями
- Конфигурации насосных станций высокого вакуума, такие как пластинчато-роторный вакуумный насос, молекулярный насос, диффузионный насос
Предупреждения
Безопасность оператора – первостепенная задача! Пожалуйста, используйте оборудование с осторожностью. Работа с легковоспламеняющимися, взрывоопасными или токсичными газами очень опасна, операторы должны принять все необходимые меры предосторожности перед запуском оборудования. Работа с избыточным давлением внутри реакторов или камер опасна, оператор должен строго соблюдать технику безопасности. Следует также соблюдать особую осторожность при работе с материалами, реагирующими с воздухом, особенно в условиях вакуума. Утечка может привести к попаданию воздуха в аппарат и вызвать бурную реакцию.
Создан для вас
KinTek предоставляет специализированные услуги и оборудование для клиентов по всему миру, наша специализированная командная работа и богатый опыт инженеров способны выполнить индивидуальные требования к аппаратному и программному оборудованию, а также помочь нашим клиентам создать эксклюзивное и индивидуальное оборудование и решение!
Не могли бы вы поделиться своими идеями с нами, наши инженеры готовы для вас прямо сейчас!
FAQ
Что такое метод PECVD?
Что такое МпкВД?
Для чего используется PECVD?
Что такое машина Mpcvd?
Каковы преимущества PECVD?
Каковы преимущества Mpcvd?
В чем разница между ALD и PECVD?
Алмазы CVD настоящие или поддельные?
В чем разница между PECVD и напылением?
4.9
out of
5
I'm amazed by the quick delivery and the quality of the product. It's a game-changer for our lab.
4.8
out of
5
The Slide PECVD tube furnace has exceeded our expectations. It's a valuable addition to our research facility.
4.7
out of
5
This PECVD machine is a lifesaver! It has helped us achieve remarkable results in our research.
4.9
out of
5
The durability of this product is exceptional. It has withstood rigorous use in our lab.
4.8
out of
5
The technological advancements in this PECVD system have revolutionized our research capabilities.
4.7
out of
5
I highly recommend this product. It's worth every penny and has enhanced our research efficiency.
4.9
out of
5
The Slide PECVD tube furnace is a fantastic investment. It has accelerated our research progress significantly.
4.8
out of
5
This PECVD system is user-friendly and has simplified our research procedures.
4.7
out of
5
The technical support provided by KINTEK SOLUTION is outstanding. They're always ready to assist us.
4.9
out of
5
The Slide PECVD tube furnace has revolutionized our research methodology. It's a must-have for any lab.
4.8
out of
5
This PECVD machine is a game-changer. It has enabled us to achieve groundbreaking results in our research.
ЗАПРОС ЦИТАТЫ
Наша профессиональная команда ответит вам в течение одного рабочего дня. Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!
Связанные товары
Получите эксклюзивную печь для химического осаждения из паровой фазы KT-CTF16, изготовленную на заказ. Настраиваемые функции скольжения, вращения и наклона для точных реакций. Закажите сейчас!
Система ВЧ-PECVD Радиочастотное плазменно-усиленное химическое осаждение из газовой фазы ВЧ-PECVD
RF-PECVD — это аббревиатура от «Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition» (Радиочастотное плазменно-усиленное химическое осаждение из газовой фазы). Он осаждает DLC (алмазоподобную углеродную пленку) на подложки из германия и кремния. Используется в диапазоне инфракрасных длин волн 3-12 мкм.
Узнайте о машине МПХВД с цилиндрическим резонатором, методе химического осаждения из паровой фазы в микроволновой плазме, используемом для выращивания алмазных драгоценных камней и пленок в ювелирной и полупроводниковой промышленности. Откройте для себя ее экономически выгодные преимущества по сравнению с традиционными методами HPHT.
915 МГц MPCVD Алмазная установка и ее многокристаллический эффективный рост, максимальная площадь может достигать 8 дюймов, максимальная эффективная площадь роста монокристалла может достигать 5 дюймов. Это оборудование в основном используется для производства крупномасштабных поликристаллических алмазных пленок, роста длинных монокристаллических алмазов, низкотемпературного роста высококачественного графена и других материалов, требующих энергии, обеспечиваемой микроволновой плазмой для роста.
Вакуумная печь горячего прессования Нагретая вакуумная прессовальная машина
Откройте для себя преимущества вакуумной печи горячего прессования! Производите плотные тугоплавкие металлы и сплавы, керамику и композиты при высокой температуре и давлении.
Печь с контролируемой атмосферой азота и водорода
Печь с водородной атмосферой KT-AH — индукционная газовая печь для спекания/отжига со встроенными функциями безопасности, двухкорпусной конструкцией и энергосберегающей эффективностью. Идеально подходит для лабораторного и промышленного использования.
Печь для индукционной плавки в вакууме с нерасходуемым электродом
Изучите преимущества вакуумной дуговой печи с нерасходуемым электродом и высокотемпературными электродами. Компактная, простая в эксплуатации и экологичная. Идеально подходит для лабораторных исследований тугоплавких металлов и карбидов.
Печь с контролируемой атмосферой 1200℃, печь с азотной инертной атмосферой
Откройте для себя нашу печь с контролируемой атмосферой KT-12A Pro — высокоточная, сверхпрочная вакуумная камера, универсальный контроллер с сенсорным экраном и превосходная равномерность температуры до 1200°C. Идеально подходит как для лабораторных, так и для промышленных применений.
Печь для искрового плазменного спекания SPS
Откройте для себя преимущества печей для искрового плазменного спекания для быстрой низкотемпературной подготовки материалов. Равномерный нагрев, низкая стоимость и экологичность.
Оборудование для стерилизации VHP Пероксид водорода H2O2 Стерилизатор пространства
Стерилизатор пространства пероксидом водорода — это устройство, которое использует испаренный пероксид водорода для обеззараживания замкнутых пространств. Он убивает микроорганизмы, повреждая их клеточные компоненты и генетический материал.
Печь для вакуумной термообработки и спекания под давлением для высокотемпературных применений
Печи для вакуумного спекания под давлением предназначены для высокотемпературной горячей прессовки при спекании металлов и керамики. Их передовые функции обеспечивают точный контроль температуры, надежное поддержание давления и прочную конструкцию для бесперебойной работы.
Ручной высокотемпературный гидравлический пресс с нагревательными плитами для лаборатории
Высокотемпературный горячий пресс — это машина, специально разработанная для прессования, спекания и обработки материалов в условиях высокой температуры. Он способен работать в диапазоне от сотен до тысяч градусов Цельсия для различных требований высокотемпературных процессов.
Высокотемпературный горячий пресс — это машина, специально разработанная для прессования, спекания и обработки материалов в условиях высоких температур. Он способен работать в диапазоне от сотен до тысяч градусов Цельсия для различных требований высокотемпературных процессов.
Связанные статьи
Химическое осаждение из паровой фазы с расширенной плазмой (PECVD): Исчерпывающее руководство
Узнайте все, что вам нужно знать о плазменном химическом осаждении из паровой фазы (PECVD) - технологии осаждения тонких пленок, используемой в полупроводниковой промышленности. Изучите ее принципы, области применения и преимущества.
Понимание PECVD: руководство по химическому осаждению из паровой фазы с плазменным усилением
PECVD — полезный метод для создания тонкопленочных покрытий, поскольку он позволяет наносить самые разные материалы, включая оксиды, нитриды и карбиды.
Печь PECVD Маломощное и низкотемпературное решение для мягких материалов
Печи PECVD (химическое осаждение из паровой фазы с плазменным усилением) стали популярным решением для осаждения тонких пленок на поверхности мягких материалов.
Преимущества использования трубчатой печи CVD для нанесения покрытия
Покрытия CVD имеют ряд преимуществ по сравнению с другими методами нанесения покрытий, таких как высокая чистота, плотность и однородность, что делает их идеальными для многих применений в различных отраслях промышленности.
Пошаговое руководство по процессу PECVD
PECVD — это тип процесса химического осаждения из паровой фазы, в котором используется плазма для усиления химических реакций между газофазными прекурсорами и подложкой.
Роль плазмы в покрытиях PECVD
PECVD (химическое осаждение из газовой фазы с плазменным усилением) представляет собой тип процесса осаждения тонких пленок, который широко используется для создания покрытий на различных подложках. В этом процессе плазма используется для осаждения тонких пленок из различных материалов на подложку.
Полное руководство по обслуживанию оборудования PECVD
Надлежащее техническое обслуживание оборудования PECVD имеет решающее значение для обеспечения его оптимальной производительности, долговечности и безопасности.
Сравнение производительности PECVD и HPCVD при нанесении покрытий
Хотя и PECVD, и HFCVD используются для нанесения покрытий, они различаются методами осаждения, характеристиками и пригодностью для конкретных применений.
Понимание метода PECVD
PECVD — это процесс химического осаждения из паровой фазы с усилением плазмы, который широко используется при производстве тонких пленок для различных применений.
Полное руководство по раскладным трубчатым печам: области применения, особенности
Верно то, что печь с расщепленными трубами — это тип лабораторного оборудования, состоящего из полой трубы или камеры, которую можно открывать, чтобы вставлять и извлекать образцы или нагреваемые материалы.
Почему PECVD необходима для производства микроэлектронных устройств
PECVD (химическое осаждение из паровой фазы с плазменным усилением) — это популярный метод осаждения тонких пленок, используемый в производстве устройств микроэлектроники.
Руководство для начинающих по машинам MPCVD
MPCVD (микроволновое плазменное химическое осаждение из паровой фазы) — это процесс, используемый для осаждения тонких пленок материала на подложку с использованием плазмы, генерируемой микроволнами.