Знание Что такое напряжение при напылении постоянным током? (Объяснение 5 ключевых моментов)
Аватар автора

Техническая команда · Kintek Solution

Обновлено 2 месяца назад

Что такое напряжение при напылении постоянным током? (Объяснение 5 ключевых моментов)

Напряжение, используемое при напылении постоянным током, обычно составляет от 2 000 до 5 000 вольт.

Это напряжение прикладывается между материалом мишени и подложкой.

Мишень выступает в качестве катода, а подложка - в качестве анода.

Высокое напряжение ионизирует инертный газ, обычно аргон, создавая плазму.

Эта плазма бомбардирует материал мишени, заставляя атомы выбрасываться и осаждаться на подложке.

Что такое напряжение при напылении постоянным током? (Объяснение 5 ключевых моментов)

Что такое напряжение при напылении постоянным током? (Объяснение 5 ключевых моментов)

1. Применение напряжения

При напылении постоянным током напряжение постоянного тока прикладывается между мишенью (катодом) и подложкой (анодом).

Это напряжение очень важно, так как оно определяет энергию ионов аргона.

Энергия влияет на скорость и качество осаждения.

Напряжение обычно составляет от 2 000 до 5 000 вольт, что обеспечивает достаточную энергию для эффективной ионной бомбардировки.

2. Ионизация и образование плазмы

Приложенное напряжение ионизирует газ аргон, вводимый в вакуумную камеру.

При ионизации происходит отрыв электронов от атомов аргона, в результате чего образуются положительно заряженные ионы аргона.

В результате образуется плазма - состояние вещества, в котором электроны отделены от своих родительских атомов.

Плазма необходима для процесса напыления, поскольку она содержит энергичные ионы, которые будут бомбардировать мишень.

3. Бомбардировка и осаждение

Ионизированные ионы аргона, ускоренные электрическим полем, сталкиваются с материалом мишени.

В результате столкновений атомы выбиваются с поверхности мишени, и этот процесс называется напылением.

Выброшенные атомы проходят через камеру и оседают на подложке, образуя тонкую пленку.

Приложенное напряжение должно быть достаточно высоким, чтобы ионы обладали энергией, достаточной для преодоления сил сцепления с материалом мишени, что обеспечивает эффективное напыление.

4. Пригодность материалов и ограничения

Напыление постоянным током используется в основном для осаждения проводящих материалов.

Прикладываемое напряжение зависит от потока электронов, который возможен только в случае проводящих мишеней.

Непроводящие материалы не могут быть эффективно напылены с помощью методов постоянного тока из-за невозможности поддержания непрерывного потока электронов.

5. Сравнение с радиочастотным напылением

В отличие от напыления постоянным током, при радиочастотном (РЧ) напылении для ионизации газа используются радиоволны.

ВЧ-напыление требует более высокого напряжения (обычно выше 1 012 вольт) для достижения аналогичной скорости осаждения.

Метод ВЧ-напыления более универсален, поскольку позволяет осаждать как проводящие, так и непроводящие материалы.

Таким образом, напряжение при напылении постоянным током является критическим параметром, напрямую влияющим на ионизацию газа, энергию ионов и, в конечном счете, на эффективность процесса осаждения.

Для обеспечения эффективного напыления проводящих материалов обычно используется диапазон от 2 000 до 5 000 вольт.

Продолжайте исследовать, проконсультируйтесь с нашими специалистами

Откройте для себя точность высокопроизводительных систем напыления постоянного тока KINTEK SOLUTION уже сегодня!

С помощью нашей инновационной технологии вы сможете добиться оптимального управления напряжением для обеспечения превосходной скорости осаждения и качества пленки.

Присоединяйтесь к нашим передовым лидерам отрасли и повысьте свои возможности по производству тонких пленок.

Свяжитесь с нами прямо сейчас, чтобы узнать о наших экспертных решениях, разработанных с учетом ваших уникальных требований.

Связанные товары

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

RF-PECVD - это аббревиатура от "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". С его помощью на германиевые и кремниевые подложки наносится пленка DLC (алмазоподобного углерода). Он используется в инфракрасном диапазоне длин волн 3-12um.

Печь для искрового плазменного спекания SPS-печь

Печь для искрового плазменного спекания SPS-печь

Откройте для себя преимущества печей искрового плазменного спекания для быстрой низкотемпературной подготовки материалов. Равномерный нагрев, низкая стоимость и экологичность.

Вакуумная левитация Индукционная плавильная печь Дуговая плавильная печь

Вакуумная левитация Индукционная плавильная печь Дуговая плавильная печь

Испытайте точную плавку с нашей плавильной печью с вакуумной левитацией. Идеально подходит для металлов или сплавов с высокой температурой плавления, с передовой технологией для эффективной плавки. Закажите прямо сейчас, чтобы получить качественный результат.

Вакуумная индукционная плавильная прядильная система Дуговая плавильная печь

Вакуумная индукционная плавильная прядильная система Дуговая плавильная печь

С легкостью создавайте метастабильные материалы с помощью нашей системы вакуумного прядения расплава. Идеально подходит для исследований и экспериментальных работ с аморфными и микрокристаллическими материалами. Закажите сейчас для эффективных результатов.

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Усовершенствуйте свой процесс нанесения покрытий с помощью оборудования для нанесения покрытий методом PECVD. Идеально подходит для производства светодиодов, силовых полупроводников, МЭМС и многого другого. Осаждает высококачественные твердые пленки при низких температурах.

Цель/порошок/проволока/блок/гранулы для распыления алюминия высокой чистоты (Al)

Цель/порошок/проволока/блок/гранулы для распыления алюминия высокой чистоты (Al)

Получите высококачественные алюминиевые (Al) материалы для лабораторного использования по доступным ценам. Мы предлагаем индивидуальные решения, включая мишени для распыления, порошки, фольгу, слитки и многое другое, чтобы удовлетворить ваши уникальные потребности. Заказать сейчас!

Мишень для распыления свинца высокой чистоты (Pb) / порошок / проволока / блок / гранула

Мишень для распыления свинца высокой чистоты (Pb) / порошок / проволока / блок / гранула

Ищете высококачественные материалы из свинца (Pb) для нужд вашей лаборатории? Не ищите ничего, кроме нашего специализированного набора настраиваемых опций, включая мишени для распыления, материалы покрытия и многое другое. Свяжитесь с нами сегодня для конкурентоспособных цен!

Мишень для распыления из медно-циркониевого сплава (CuZr) / порошок / проволока / блок / гранула

Мишень для распыления из медно-циркониевого сплава (CuZr) / порошок / проволока / блок / гранула

Откройте для себя наш ассортимент материалов из медно-циркониевого сплава по доступным ценам с учетом ваших уникальных требований. Просмотрите наш выбор мишеней для распыления, покрытий, порошков и многого другого.

Мишень для распыления сульфида олова (SnS2) / порошок / проволока / блок / гранула

Мишень для распыления сульфида олова (SnS2) / порошок / проволока / блок / гранула

Найдите высококачественные материалы на основе сульфида олова (SnS2) для своей лаборатории по доступным ценам. Наши специалисты производят и изготавливают материалы в соответствии с вашими конкретными потребностями. Ознакомьтесь с нашим ассортиментом мишеней для распыления, материалов для покрытий, порошков и многого другого.

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Фильера для нанесения наноалмазного композитного покрытия использует цементированный карбид (WC-Co) в качестве подложки, а для нанесения обычного алмаза и наноалмазного композитного покрытия на поверхность внутреннего отверстия пресс-формы используется метод химической паровой фазы (сокращенно CVD-метод).

Вакуумная трубчатая печь горячего прессования

Вакуумная трубчатая печь горячего прессования

Уменьшите давление формования и сократите время спекания с помощью вакуумной трубчатой печи для горячего прессования высокоплотных и мелкозернистых материалов. Идеально подходит для тугоплавких металлов.

Мишень для распыления кобальта (Co) высокой чистоты / порошок / проволока / блок / гранула

Мишень для распыления кобальта (Co) высокой чистоты / порошок / проволока / блок / гранула

Получите доступные по цене материалы на основе кобальта (Co) для лабораторного использования, адаптированные к вашим уникальным потребностям. Наш ассортимент включает мишени для распыления, порошки, фольгу и многое другое. Свяжитесь с нами сегодня для индивидуальных решений!


Оставьте ваше сообщение