Знание Как измеряется толщина осажденной пленки? Объяснение 4 основных методов
Аватар автора

Техническая команда · Kintek Solution

Обновлено 2 месяца назад

Как измеряется толщина осажденной пленки? Объяснение 4 основных методов

Измерение толщины осажденных пленок имеет огромное значение для различных областей применения, от научных исследований до промышленных процессов.

Существует несколько методов, каждый из которых подходит для различных толщин пленок и свойств материалов.

4 основных метода

Как измеряется толщина осажденной пленки? Объяснение 4 основных методов

1. Профилометрия щупом и интерферометрия

Профилометрия щупом и интерферометрия - это механические методы, которые требуют наличия канавки или ступеньки между пленкой и подложкой.

Эти канавки создаются либо путем маскирования части подложки, либо путем выборочного удаления части осажденной пленки.

При профилометрии щуп физически прослеживает профиль поверхности, измеряя разницу высот между пленкой и подложкой.

Интерферометрия, с другой стороны, использует интерференцию световых волн для измерения толщины.

Для этого метода требуется высокоотражающая поверхность для создания интерференционных полос, которые затем анализируются для определения толщины пленки.

Оба метода измеряют толщину в определенных точках, поэтому однородность пленки является критическим фактором для точности.

2. Трансмиссионная электронная микроскопия (ТЭМ)

ТЭМ используется для анализа тонких пленок, особенно в диапазоне от нескольких нанометров до 100 нм.

Этот метод предполагает использование сфокусированного ионного пучка (FIB) для подготовки образцов подходящей толщины.

ТЭМ обеспечивает получение изображений высокого разрешения, что позволяет детально проанализировать структуру и толщину пленки.

Он особенно полезен для проводящих и полупроводящих материалов.

3. Спектрофотометрия

Спектрофотометрия используется для измерения толщины пленок в диапазоне от 0,3 до 60 мкм.

Этот метод использует принцип интерференции, когда на интерференцию световых волн влияют толщина и коэффициент преломления пленки.

Анализируя интерференционные картины, можно определить толщину пленки.

Этот метод эффективен для прозрачных пленок и требует знания показателя преломления пленки.

4. Выбор метода измерения

Выбор метода измерения зависит от таких факторов, как прозрачность материала, требуемая точность и дополнительная информация, необходимая помимо толщины, например, показатель преломления, шероховатость поверхности и структурные свойства.

Для анализа элементного состава используются такие методы, как сканирующая электронная микроскопия (СЭМ), оснащенная детектором энергодисперсионной спектроскопии (ЭДС), который позволяет идентифицировать и количественно определять элементы и соединения в пленке.

Продолжайте исследования, проконсультируйтесь с нашими специалистами

Откройте для себя точность, необходимую для анализа тонких пленок, с помощью передовых измерительных решений KINTEK SOLUTION!

От профилометрии щупом и интерферометрии до просвечивающей электронной микроскопии (ПЭМ) и спектрофотометрии - наши инструменты тщательно разработаны, чтобы удовлетворить разнообразные потребности ваших исследований и промышленных приложений.

Доверьтесь нашим профессионально изготовленным приборам, чтобы обеспечить точные измерения толщины и улучшить понимание свойств пленки.

Ознакомьтесь с нашим обширным ассортиментом уже сегодня и расширьте возможности своей лаборатории!

Связанные товары

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Усовершенствуйте свой процесс нанесения покрытий с помощью оборудования для нанесения покрытий методом PECVD. Идеально подходит для производства светодиодов, силовых полупроводников, МЭМС и многого другого. Осаждает высококачественные твердые пленки при низких температурах.

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

RF-PECVD - это аббревиатура от "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". С его помощью на германиевые и кремниевые подложки наносится пленка DLC (алмазоподобного углерода). Он используется в инфракрасном диапазоне длин волн 3-12um.

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Фильера для нанесения наноалмазного композитного покрытия использует цементированный карбид (WC-Co) в качестве подложки, а для нанесения обычного алмаза и наноалмазного композитного покрытия на поверхность внутреннего отверстия пресс-формы используется метод химической паровой фазы (сокращенно CVD-метод).

CVD-алмазное покрытие

CVD-алмазное покрытие

Алмазное покрытие CVD: превосходная теплопроводность, качество кристаллов и адгезия для режущих инструментов, трения и акустических применений.

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Узнайте о машине MPCVD с цилиндрическим резонатором - методе микроволнового плазмохимического осаждения из паровой фазы, который используется для выращивания алмазных камней и пленок в ювелирной и полупроводниковой промышленности. Узнайте о его экономически эффективных преимуществах по сравнению с традиционными методами HPHT.

Колокольный резонатор MPCVD Машина для лаборатории и выращивания алмазов

Колокольный резонатор MPCVD Машина для лаборатории и выращивания алмазов

Получите высококачественные алмазные пленки с помощью нашей машины MPCVD с резонатором Bell-jar Resonator, предназначенной для лабораторного выращивания и выращивания алмазов. Узнайте, как микроволновое плазменно-химическое осаждение из паровой фазы работает для выращивания алмазов с использованием углекислого газа и плазмы.

Холодный изостатический пресс Electric Lab (CIP) 12T / 20T / 40T / 60T

Холодный изостатический пресс Electric Lab (CIP) 12T / 20T / 40T / 60T

Производите плотные, однородные детали с улучшенными механическими свойствами с помощью нашего холодного изостатического пресса Electric Lab. Широко используется в материаловедении, фармации и электронной промышленности. Эффективный, компактный и совместимый с вакуумом.

Вакуумный ламинационный пресс

Вакуумный ламинационный пресс

Оцените чистоту и точность ламинирования с помощью вакуумного ламинационного пресса. Идеально подходит для склеивания пластин, трансформации тонких пленок и ламинирования LCP. Закажите сейчас!

Ручной холодный изостатический таблеточный пресс (CIP) 12T / 20T / 40T / 60T

Ручной холодный изостатический таблеточный пресс (CIP) 12T / 20T / 40T / 60T

Лабораторный ручной изостатический пресс — это высокоэффективное оборудование для пробоподготовки, широко используемое в материаловедении, фармацевтике, керамической и электронной промышленности. Он позволяет точно контролировать процесс прессования и может работать в вакуумной среде.

Лист из вспененного металла - медная пена / никель

Лист из вспененного металла - медная пена / никель

Узнайте о преимуществах листов пенопласта для электрохимических испытаний. Наши листы из вспененной меди/никеля идеально подходят для токосъемников и конденсаторов.

Лист оптического кварцевого стекла, устойчивый к высоким температурам

Лист оптического кварцевого стекла, устойчивый к высоким температурам

Откройте для себя возможности листового оптического стекла для точного управления светом в телекоммуникациях, астрономии и других областях. Откройте для себя достижения в области оптических технологий с исключительной четкостью и индивидуальными рефракционными свойствами.

Оптическая кварцевая пластина JGS1/JGS2/JGS3

Оптическая кварцевая пластина JGS1/JGS2/JGS3

Кварцевая пластина — прозрачный, прочный и универсальный компонент, широко используемый в различных отраслях промышленности. Изготовлен из кристалла кварца высокой чистоты, обладает отличной термической и химической стойкостью.

Сапфировый лист с инфракрасным пропусканием / сапфировая подложка / сапфировое окно

Сапфировый лист с инфракрасным пропусканием / сапфировая подложка / сапфировое окно

Изготовленная из сапфира подложка обладает беспрецедентными химическими, оптическими и физическими свойствами. Его замечательная устойчивость к тепловым ударам, высоким температурам, эрозии песка и воде отличает его.

Инфракрасный кремний/высокопрочный кремний/монокристаллический кремниевый объектив

Инфракрасный кремний/высокопрочный кремний/монокристаллический кремниевый объектив

Кремний (Si) широко известен как один из самых прочных минеральных и оптических материалов для применения в ближнем инфракрасном (БИК) диапазоне, примерно от 1 мкм до 6 мкм.

Печь для графитизации пленки с высокой теплопроводностью

Печь для графитизации пленки с высокой теплопроводностью

Печь для графитизации пленки с высокой теплопроводностью имеет равномерную температуру, низкое энергопотребление и может работать непрерывно.


Оставьте ваше сообщение