Печь CVD и PECVD
Система ВЧ-PECVD Радиочастотное плазменно-усиленное химическое осаждение из газовой фазы ВЧ-PECVD
Артикул : KT-RFPE
Цена может варьироваться в зависимости от спецификации и настройки
- Частота
- РЧ-частота 13,56 МГц
- Температура нагрева
- макс. 200°C
- Размеры вакуумной камеры
- Ø420 мм × 400 мм
Доставка:
Свяжитесь с нами чтобы получить подробности о доставке. Наслаждайтесь Гарантия своевременной отправки.
Почему выбирают нас
Надежный партнерПростой процесс заказа, качественные продукты и специализированная поддержка для успеха вашего бизнеса.
Введение
Радиочастотное плазменно-усиленное химическое осаждение из газовой фазы (RF PECVD) — это метод осаждения тонких пленок, который использует плазму для усиления процесса химического осаждения из газовой фазы. Этот процесс используется для осаждения широкого спектра материалов, включая металлы, диэлектрики и полупроводники. RF PECVD — это универсальный метод, который можно использовать для осаждения пленок с широким спектром свойств, включая толщину, состав и морфологию.
Применения
RF-PECVD, революционная технология в области осаждения тонких пленок, находит широкое применение в различных отраслях промышленности, в том числе:
- Изготовление оптических компонентов и устройств
- Производство полупроводниковых приборов
- Производство защитных покрытий
- Разработка микроэлектроники и MEMS
- Синтез новых материалов
Компоненты и функции
Радиочастотное плазменно-усиленное химическое осаждение из газовой фазы (RF PECVD) — это метод, используемый для осаждения тонких пленок на подложки с помощью генератора радиочастот для создания плазмы, которая ионизирует газы-прекурсоры. Ионизированные газы реагируют друг с другом и осаждаются на подложке, образуя тонкую пленку. RF PECVD обычно используется для осаждения алмазоподобных углеродных (DLC) пленок на подложки из германия и кремния для применений в диапазоне инфракрасных длин волн 3-12 мкм.
Этот аппарат, включающий вакуумную камеру, систему вакуумного насоса, мишени катода и анода, источник ВЧ, систему смешивания газов с надувом, систему шкафа управления компьютером и многое другое, обеспечивает бесшовное нанесение покрытий одной кнопкой, хранение и извлечение процессов, функции сигнализации, переключение сигналов и клапанов, а также комплексное протоколирование рабочих процессов.
Детали и примеры
Особенности
Система ВЧ-PECVD Радиочастотное плазменно-усиленное химическое осаждение из газовой фазы имеет следующие особенности:
- Нанесение покрытия одной кнопкой: Упрощает процесс нанесения покрытия, делая его удобным для пользователей.
- Хранение и извлечение процессов: Позволяет пользователям сохранять и вызывать параметры процесса, обеспечивая стабильные результаты.
- Функции сигнализации: Предупреждают пользователей о любых проблемах или ошибках во время процесса нанесения покрытия, минимизируя время простоя.
- Переключение сигналов и клапанов: Обеспечивает точный контроль над процессом нанесения покрытия, позволяя пользователям достигать желаемых результатов.
- Комплексное протоколирование рабочих процессов: Записывает все параметры процесса, облегчая отслеживание и анализ процесса нанесения покрытия.
- Вакуумная камера, система вакуумного насоса, мишени катода и анода, источник ВЧ, система смешивания газов с надувом, система шкафа управления компьютером: Обеспечивают стабильную и контролируемую среду для процесса нанесения покрытия.
Преимущества
- Высококачественное осаждение пленки при низкой температуре, подходит для термочувствительных подложек.
- Точный контроль толщины и состава пленки.
- Равномерное и конформное осаждение пленки на сложных геометрических поверхностях.
- Низкое загрязнение частицами и высокая чистота пленок.
- Масштабируемый и экономически эффективный процесс для крупномасштабного производства.
- Экологически чистый процесс с минимальным образованием опасных отходов.
Технические характеристики
Основная часть оборудования
| Форма оборудования |
|
| Вакуумная камера |
|
| Каркас основного блока |
|
| Система водяного охлаждения |
|
| Шкаф управления |
|
Вакуумная система
| Предельный вакуум |
|
| Время восстановления вакуума |
|
| Скорость повышения давления |
|
| Конфигурация вакуумной системы |
|
| Измерение вакуумной системы |
|
| Эксплуатация вакуумной системы | Существует два режима выбора вакуума: ручной и автоматический;
|
| Испытание вакуума |
|
Система нагрева
- Метод нагрева: метод нагрева йодными лампами;
- Регулятор мощности: цифровой регулятор мощности;
- Температура нагрева: максимальная температура 200°C, мощность 2000 Вт/220 В, с регулируемым дисплеем, управление ±2°C;
- Метод подключения: быстрое подключение и быстрое извлечение, металлический защитный кожух для защиты от загрязнения и изолированный источник питания для обеспечения безопасности персонала.
ВЧ радиочастотный источник питания
- Частота: ВЧ-частота 13,56 МГц;
- Мощность: 0-2000 Вт непрерывно регулируемая;
- Функция: полностью автоматическая регулировка согласования импеданса, полностью автоматическая регулировка для поддержания очень низкого коэффициента отражения, внутреннее отражение в пределах 0,5%, с функцией ручного и автоматического преобразования;
- Дисплей: с напряжением смещения, положением конденсатора CT, положением конденсатора RT, заданной мощностью, отображением коэффициента отражения, с функцией связи, связь с сенсорным экраном, установка и отображение параметров в программном обеспечении конфигурации, отображение линии настройки и т. д.
Катодный анодный мишень
- Анодная мишень: медная подложка диаметром 304 мм используется в качестве катодной мишени, температура при работе низкая, охлаждающая вода не требуется;
- Катодная мишень: медная мишень с водяным охлаждением диаметром 200 мм, температура при работе высокая, внутри находится охлаждающая вода для обеспечения постоянной температуры во время работы, максимальное расстояние между анодной и катодной мишенью составляет 100-250 мм.
Контроль подачи газа
- Расходомер: используется четырехканальный британский расходомер, расход 0-200 SCCM, с индикацией давления, настройкой параметров связи и возможностью установки типа газа;
- Запорный клапан: запорный клапан Qixing Huachuang DJ2C-VUG6, работает с расходомером, смешивает газ, подает его в камеру через кольцевое устройство подачи газа и равномерно протекает по поверхности мишени;
- Бутыль предварительного хранения газа: в основном бутыль для промывки и преобразования, которая испаряет жидкий C4H10, а затем поступает в трубопровод расходомера передней ступени. Бутыль для хранения газа имеет цифровой индикатор давления DSP, который выдает сигналы тревоги о превышении и понижении давления;
- Буферная емкость для смешанного газа: Буферная емкость смешивает четыре газа на задней ступени. После смешивания он выводится из буферной емкости одним путем к дну камеры, а другим — к верхней части, и один из них может быть независимо закрыт;
- Устройство подачи газа: равномерный газопровод на выходе газовой цепи корпуса камеры, который равномерно подается на поверхность мишени для улучшения однородности покрытия.
Система управления
- Сенсорный экран: TPC1570GI сенсорный экран в качестве главного компьютера + клавиатура и мышь;
- Программное обеспечение управления: табличная настройка параметров процесса, отображение параметров сигнализации, отображение параметров вакуума и отображение кривых, настройка и отображение параметров источника ВЧ и источника постоянного тока, запись состояния работы всех клапанов и переключателей, записи процессов, записи сигналов тревоги, параметры записи вакуума, могут храниться около полугода, а рабочий процесс всего оборудования сохраняется за 1 секунду для сохранения параметров;
- ПЛК: Omron PLC используется в качестве нижнего компьютера для сбора данных различных компонентов и переключателей положения, управления клапанами и различными компонентами, а затем выполнения обмена данными, отображения и управления с помощью конфигурационного программного обеспечения. Это более безопасно и надежно;
- Состояние управления: нанесение покрытия одной кнопкой, автоматическая откачка, автоматический постоянный вакуум, автоматический нагрев, автоматическое многослойное осаждение процесса, автоматическое завершение загрузки и другие операции;
- Преимущества сенсорного экрана: программное обеспечение управления сенсорным экраном не может быть изменено, стабильная работа более удобна и гибка, но объем хранимых данных ограничен, параметры могут быть экспортированы напрямую, и при возникновении проблем с процессом; 6. Сигнализация: используется режим звуковой и световой сигнализации, и сигнализация записывается в библиотеку параметров конфигурации сигнализации. Ее можно запрашивать в любое время в будущем, а сохраненные данные можно запрашивать и вызывать в любое время.
Постоянный вакуум
- Постоянный вакуум с дроссельным клапаном: дроссельный клапан DN80 работает совместно с емкостным манометром Inficon CDG025 для поддержания постоянного вакуума, недостатком является то, что порт клапана легко загрязняется и трудно чистится;
- Режим положения клапана: установка режима управления положением.
Вода, электричество, газ
- Основные трубы подачи и отвода воды изготовлены из нержавеющей стали и оснащены аварийными входами для воды;
- Все трубы водяного охлаждения снаружи вакуумной камеры используют быстроразъемные фиксирующие соединения из нержавеющей стали и пластиковые высоконапорные (высококачественные водопроводные трубы, которые можно использовать в течение длительного времени без утечек или поломок), а пластиковые высоконапорные водопроводные трубы подачи и отвода воды должны быть обозначены разными цветами и соответствующими маркировками; бренд Airtek;
- Все трубы водяного охлаждения внутри вакуумной камеры изготовлены из высококачественного материала SUS304;
- Водяные и газовые контуры соответственно оснащены безопасными и надежными, высокоточными манометрами давления воды и воздуха.
- Оснащен чиллером 8P для системы охлаждения углеродной пленки.
- Оснащен комплектом машины для горячей воды мощностью 6 кВт, при открытии двери через камеру будет проходить горячая вода.
Требования к защите безопасности
- Машина оснащена сигнализацией;
- Когда давление воды или воздуха не достигает заданного расхода, все вакуумные насосы и клапаны защищены и не могут быть запущены, и подается звуковой сигнал и красный световой сигнал;
- Когда машина находится в нормальном рабочем процессе, при внезапном недостаточном давлении воды или воздуха все клапаны автоматически закрываются, и появляется звуковой сигнал и красный световой сигнал;
- При аномальной работе системы (высокое напряжение, ионный источник, система управления) будет звуковой сигнал и красный световой сигнал;
- Включено высокое напряжение, имеется устройство защиты от сигнализации.
Требования к рабочей среде
- Температура окружающей среды: 10～35℃;
- Относительная влажность: не более 80%;
- Окружающая среда вокруг оборудования чистая, воздух чистый. Не должно быть пыли или газов, которые могут вызвать коррозию электрооборудования и других металлических поверхностей или вызвать электропроводность между металлами.
Требования к электропитанию оборудования
- Источник воды: промышленная мягкая вода, давление воды 0,2~0,3 МПа, объем воды ~ 60 л/мин, температура воды на входе ≤ 25°C; подключение водопровода 1,5 дюйма;
- Источник воздуха: давление воздуха 0,6 МПа;
- Источник питания: трехфазная пятипроводная система 380 В, 50 Гц, диапазон колебаний напряжения: линейное напряжение 342 ~ 399 В, фазное напряжение 198 ~ 231 В; диапазон колебаний частоты: 49 ~ 51 Гц; энергопотребление оборудования: ~ 16 кВт; сопротивление заземления ≤ 1 Ом;
- Требования к подъему: кран грузоподъемностью 3 тонны (предоставляется самостоятельно), высота подъема не менее 2000X2200 мм
Предупреждения
Безопасность оператора – первостепенная задача! Пожалуйста, используйте оборудование с осторожностью. Работа с легковоспламеняющимися, взрывоопасными или токсичными газами очень опасна, операторы должны принять все необходимые меры предосторожности перед запуском оборудования. Работа с избыточным давлением внутри реакторов или камер опасна, оператор должен строго соблюдать технику безопасности. Следует также соблюдать особую осторожность при работе с материалами, реагирующими с воздухом, особенно в условиях вакуума. Утечка может привести к попаданию воздуха в аппарат и вызвать бурную реакцию.
Создан для вас
KinTek предоставляет специализированные услуги и оборудование для клиентов по всему миру, наша специализированная командная работа и богатый опыт инженеров способны выполнить индивидуальные требования к аппаратному и программному оборудованию, а также помочь нашим клиентам создать эксклюзивное и индивидуальное оборудование и решение!
Не могли бы вы поделиться своими идеями с нами, наши инженеры готовы для вас прямо сейчас!
FAQ
Что такое метод PECVD?
Для чего используется PECVD?
Каковы преимущества PECVD?
В чем разница между ALD и PECVD?
В чем разница между PECVD и напылением?
4.7
out of
5
RF PECVD System Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition is a great tool for depositing high-quality thin films. We've been using it for several months now and have been very happy with the results.
4.8
out of
5
RF PECVD System Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition has been a lifesaver in our lab. It's allowed us to produce high-quality thin films quickly and easily.
4.9
out of
5
We are very satisfied with the RF PECVD System Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition. It's a well-built system that produces high-quality results. The customer service is also excellent.
5.0
out of
5
RF PECVD System Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition is a game-changer for our research. It's allowed us to explore new possibilities that we never thought possible.
4.7
out of
5
We've been using RF PECVD System Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition for a few months now and have been very impressed with its performance. It's a powerful tool that has helped us to achieve great results.
4.8
out of
5
RF PECVD System Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition is a great investment for any lab. It's easy to use and produces high-quality results. I highly recommend it.
4.9
out of
5
We're very happy with our RF PECVD System Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition. It's a reliable system that has helped us to improve our research.
5.0
out of
5
RF PECVD System Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition is a top-of-the-line system. It's a must-have for any lab that wants to stay ahead of the curve.
4.7
out of
5
We've been using RF PECVD System Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition for a few years now and have been very happy with it. It's a versatile system that can be used for a variety of applications.
4.8
out of
5
RF PECVD System Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition is a great value for the money. It's a powerful system that can be used for a variety of applications.
4.9
out of
5
We're very satisfied with the RF PECVD System Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition. It's a well-built system that produces high-quality results. The customer service is also excellent.
5.0
out of
5
RF PECVD System Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition is a game-changer for our research. It's allowed us to explore new possibilities that we never thought possible.
4.7
out of
5
We've been using RF PECVD System Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition for a few months now and have been very impressed with its performance. It's a powerful tool that has helped us to achieve great results.
4.8
out of
5
RF PECVD System Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition is a great investment for any lab. It's easy to use and produces high-quality results. I highly recommend it.
4.9
out of
5
We're very happy with our RF PECVD System Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition. It's a reliable system that has helped us to improve our research.
5.0
out of
5
RF PECVD System Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition is a top-of-the-line system. It's a must-have for any lab that wants to stay ahead of the curve.
4.7
out of
5
We've been using RF PECVD System Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition for a few years now and have been very happy with it. It's a versatile system that can be used for a variety of applications.
4.8
out of
5
RF PECVD System Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition is a great value for the money. It's a powerful system that can be used for a variety of applications.
4.9
out of
5
We're very satisfied with the RF PECVD System Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition. It's a well-built system that produces high-quality results. The customer service is also excellent.
ЗАПРОС ЦИТАТЫ
Наша профессиональная команда ответит вам в течение одного рабочего дня. Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!
Связанные товары
KT-PE12 Скользящая система PECVD: широкий диапазон мощности, программируемое управление температурой, быстрый нагрев/охлаждение с раздвижной системой, управление массовым расходом MFC и вакуумный насос.
915 МГц MPCVD Алмазная установка и ее многокристаллический эффективный рост, максимальная площадь может достигать 8 дюймов, максимальная эффективная площадь роста монокристалла может достигать 5 дюймов. Это оборудование в основном используется для производства крупномасштабных поликристаллических алмазных пленок, роста длинных монокристаллических алмазов, низкотемпературного роста высококачественного графена и других материалов, требующих энергии, обеспечиваемой микроволновой плазмой для роста.
Узнайте о машине МПХВД с цилиндрическим резонатором, методе химического осаждения из паровой фазы в микроволновой плазме, используемом для выращивания алмазных драгоценных камней и пленок в ювелирной и полупроводниковой промышленности. Откройте для себя ее экономически выгодные преимущества по сравнению с традиционными методами HPHT.
Получите эксклюзивную печь для химического осаждения из паровой фазы KT-CTF16, изготовленную на заказ. Настраиваемые функции скольжения, вращения и наклона для точных реакций. Закажите сейчас!
Лист стеклоуглерода RVC для электрохимических экспериментов
Откройте для себя наш лист стеклоуглерода - RVC. Этот высококачественный материал идеально подходит для ваших экспериментов и выведет ваши исследования на новый уровень.
Печь для искрового плазменного спекания SPS
Откройте для себя преимущества печей для искрового плазменного спекания для быстрой низкотемпературной подготовки материалов. Равномерный нагрев, низкая стоимость и экологичность.
Испарительная лодочка из молибдена, вольфрама и тантала для высокотемпературных применений
Источники испарительных лодочек используются в системах термического испарения и подходят для нанесения различных металлов, сплавов и материалов. Источники испарительных лодочек доступны различной толщины из вольфрама, тантала и молибдена для обеспечения совместимости с различными источниками питания. В качестве контейнера используется для вакуумного испарения материалов. Они могут использоваться для нанесения тонких пленок различных материалов или разработаны для совместимости с такими методами, как изготовление электронным лучом.
Оборудование для стерилизации VHP Пероксид водорода H2O2 Стерилизатор пространства
Стерилизатор пространства пероксидом водорода — это устройство, которое использует испаренный пероксид водорода для обеззараживания замкнутых пространств. Он убивает микроорганизмы, повреждая их клеточные компоненты и генетический материал.
Печь для индукционной плавки в вакууме с нерасходуемым электродом
Изучите преимущества вакуумной дуговой печи с нерасходуемым электродом и высокотемпературными электродами. Компактная, простая в эксплуатации и экологичная. Идеально подходит для лабораторных исследований тугоплавких металлов и карбидов.
Печь с контролируемой атмосферой 1200℃, печь с азотной инертной атмосферой
Откройте для себя нашу печь с контролируемой атмосферой KT-12A Pro — высокоточная, сверхпрочная вакуумная камера, универсальный контроллер с сенсорным экраном и превосходная равномерность температуры до 1200°C. Идеально подходит как для лабораторных, так и для промышленных применений.
Лабораторная пресс-форма для инфракрасного излучения
Легко извлекайте образцы из нашей лабораторной пресс-формы для инфракрасного излучения для точного тестирования. Идеально подходит для исследований при подготовке образцов для аккумуляторов, цемента, керамики и других материалов. Доступны индивидуальные размеры.
Лабораторная пресс-форма для таблетирования порошка в стальном кольце XRF & KBR для ИК-Фурье
Получайте идеальные образцы для РФА с помощью нашей лабораторной пресс-формы для таблетирования порошка в стальном кольце. Высокая скорость таблетирования и настраиваемые размеры для точного формования каждый раз.
Электрод из металлического диска Электрохимический электрод
Усовершенствуйте свои эксперименты с помощью нашего электрода из металлического диска. Высококачественный, кислото- и щелочестойкий, а также настраиваемый в соответствии с вашими конкретными потребностями. Откройте для себя наши полные модели сегодня.
Усовершенствуйте свои эксперименты с нашим электродом из стеклоуглерода. Безопасный, долговечный и настраиваемый в соответствии с вашими конкретными потребностями. Откройте для себя наши полные модели сегодня.
Оптическая электрохимическая ячейка с боковым окном
Проводите надежные и эффективные электрохимические эксперименты с оптической электролитической ячейкой с боковым окном. Обладая коррозионной стойкостью и полными характеристиками, эта ячейка изготавливается на заказ и рассчитана на длительный срок службы.
Узкополосные фильтры для прецизионных применений
Узкополосный фильтр — это специально разработанный оптический фильтр, предназначенный для выделения узкого диапазона длин волн при эффективном подавлении всех других длин волн света.
Связанные статьи
Понимание PECVD: руководство по химическому осаждению из паровой фазы с плазменным усилением
PECVD — полезный метод для создания тонкопленочных покрытий, поскольку он позволяет наносить самые разные материалы, включая оксиды, нитриды и карбиды.
Химическое осаждение из паровой фазы с расширенной плазмой (PECVD): Исчерпывающее руководство
Узнайте все, что вам нужно знать о плазменном химическом осаждении из паровой фазы (PECVD) - технологии осаждения тонких пленок, используемой в полупроводниковой промышленности. Изучите ее принципы, области применения и преимущества.
Как получить монокристаллический алмаз высокого качества с помощью MPCVD
Микроволновое плазмохимическое осаждение из газовой фазы (MPCVD) является популярным методом получения высококачественных монокристаллов алмаза.
Роль плазмы в покрытиях PECVD
PECVD (химическое осаждение из газовой фазы с плазменным усилением) представляет собой тип процесса осаждения тонких пленок, который широко используется для создания покрытий на различных подложках. В этом процессе плазма используется для осаждения тонких пленок из различных материалов на подложку.
Введение в химическое осаждение из паровой фазы (CVD)
Химическое осаждение из паровой фазы, или CVD, представляет собой процесс нанесения покрытия, который включает использование газообразных реагентов для получения тонких пленок и покрытий высокого качества.
Пошаговое руководство по процессу PECVD
PECVD — это тип процесса химического осаждения из паровой фазы, в котором используется плазма для усиления химических реакций между газофазными прекурсорами и подложкой.
Преимущества и недостатки химического осаждения из паровой фазы (CVD)
Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) - это универсальный метод осаждения тонких пленок, широко используемый в различных отраслях промышленности. Изучите ее преимущества, недостатки и потенциальные новые применения.
Почему PECVD необходима для производства микроэлектронных устройств
PECVD (химическое осаждение из паровой фазы с плазменным усилением) — это популярный метод осаждения тонких пленок, используемый в производстве устройств микроэлектроники.
Сравнение производительности PECVD и HPCVD при нанесении покрытий
Хотя и PECVD, и HFCVD используются для нанесения покрытий, они различаются методами осаждения, характеристиками и пригодностью для конкретных применений.
Ключевые материалы для успешных процессов CVD
Успех процессов CVD зависит от наличия и качества прекурсоров, используемых в процессе.
Полное руководство по обслуживанию оборудования PECVD
Надлежащее техническое обслуживание оборудования PECVD имеет решающее значение для обеспечения его оптимальной производительности, долговечности и безопасности.
Понимание метода PECVD
PECVD — это процесс химического осаждения из паровой фазы с усилением плазмы, который широко используется при производстве тонких пленок для различных применений.