Знание Какие материалы используются в тонкопленочных полупроводниках?Основные материалы для современной электроники
Аватар автора

Техническая команда · Kintek Solution

Обновлено 2 недели назад

Какие материалы используются в тонкопленочных полупроводниках?Основные материалы для современной электроники

Тонкопленочные полупроводники являются важнейшими компонентами современной электроники, фотовольтаики и оптоэлектроники.Материалы, используемые в этих тонких пленках, тщательно подбираются с учетом их электрических, оптических и механических свойств.К распространенным материалам относятся металлы, сплавы, неорганические соединения, керметы, интерметаллиды и интерстициальные соединения.Эти материалы часто доступны в высокой степени чистоты и плотности, близкой к теоретической, что обеспечивает оптимальные характеристики в различных приложениях.Выбор материала зависит от конкретных требований приложения, таких как проводимость, прозрачность или долговечность.

Объяснение ключевых моментов:

Какие материалы используются в тонкопленочных полупроводниках?Основные материалы для современной электроники
  1. Металлы:

    • Металлы широко используются в тонкопленочных полупроводниках благодаря своей отличной электропроводности и отражательной способности.
    • К распространенным металлам относятся алюминий, медь, золото и серебро.
    • Эти металлы часто используются в качестве электродов или проводящих слоев в электронных устройствах.
    • Высокая чистота этих металлов обеспечивает минимальное сопротивление и высокую эффективность электрических цепей.
  2. Сплавы:

    • Сплавы - это комбинации двух или более металлов, обеспечивающие баланс свойств, который не могут обеспечить отдельные металлы.
    • Примерами могут служить никель-хром (NiCr) и титан-вольфрам (TiW).
    • Сплавы используются для улучшения адгезии, уменьшения окисления и повышения термической стабильности в тонкопленочных приложениях.
    • Конкретный состав сплава может быть подобран в соответствии с требованиями конкретной области применения.
  3. Неорганические соединения:

    • Неорганические соединения, такие как оксиды, нитриды и карбиды, играют важнейшую роль в тонкопленочных полупроводниках.
    • Эти материалы обеспечивают превосходные изоляционные, полупроводниковые или диэлектрические свойства.
    • В качестве примера можно привести диоксид кремния (SiO2), оксид алюминия (Al2O3) и нитрид титана (TiN).
    • Неорганические соединения часто используются в качестве изолирующих слоев, барьерных слоев или защитных покрытий.
  4. Керметы:

    • Керметы - это композитные материалы, состоящие из керамической и металлической фаз.
    • Они сочетают в себе твердость и износостойкость керамики с пластичностью и проводимостью металлов.
    • Керметы используются в приложениях, требующих высокой прочности и термостабильности, например в солнечных батареях и датчиках.
    • Специфические свойства керметов можно регулировать, изменяя соотношение керамики и металла.
  5. Интерметаллиды:

    • Интерметаллические соединения образуются между двумя или более металлами и обладают уникальными свойствами.
    • Эти материалы часто имеют высокую температуру плавления, отличную механическую прочность и хорошую коррозионную стойкость.
    • В качестве примера можно привести алюминид никеля (NiAl) и алюминид титана (TiAl).
    • Интерметаллиды используются в высокотемпературных приложениях и в качестве диффузионных барьеров в тонкопленочных полупроводниках.
  6. Интерметаллические соединения:

    • Междоузельные соединения образуются, когда небольшие атомы, такие как углерод или азот, занимают междоузельные участки в металлической решетке.
    • Эти соединения известны своей твердостью, высокими температурами плавления и химической стабильностью.
    • В качестве примера можно привести карбид титана (TiC) и карбид вольфрама (WC).
    • Интерстициальные соединения используются в износостойких покрытиях и в качестве твердых масок при обработке полупроводников.

Каждый из этих материалов играет важную роль в производительности и функциональности тонкопленочных полупроводников.Выбор подходящего материала зависит от конкретных требований приложения, включая электропроводность, термостабильность, механическую прочность и устойчивость к воздействию окружающей среды.Высокая чистота и плотность, близкая к теоретической, необходимы для обеспечения надежности и эффективности тонкопленочных полупроводников в различных высокотехнологичных приложениях.

Сводная таблица:

Тип материала Примеры Ключевые свойства Применение
Металлы Алюминий, медь, золото, серебро Высокая электропроводность, отражательная способность и высокая чистота Электроды, проводящие слои в электронных устройствах
Сплавы Никель-хром (NiCr), титан-вольфрам (TiW) Улучшенная адгезия, термическая стабильность и устойчивость к окислению Специально разработанные для конкретных применений тонких пленок
Неорганические соединения Диоксид кремния (SiO2), оксид алюминия (Al2O3), нитрид титана (TiN) Изоляционные, полупроводниковые или диэлектрические свойства Изолирующие слои, барьерные слои, защитные покрытия
Керметы Керамико-металлические композиты Твердость, износостойкость, пластичность и электропроводность Солнечные элементы, датчики, приложения с высокой долговечностью
Интерметаллиды Алюминид никеля (NiAl), алюминид титана (TiAl) Высокие температуры плавления, механическая прочность, коррозионная стойкость Высокотемпературные применения, диффузионные барьеры
Интерстициальные соединения Карбид титана (TiC), карбид вольфрама (WC) Твердость, высокие температуры плавления, химическая стабильность Износостойкие покрытия, жесткие маски при обработке полупроводников

Нужна помощь в выборе материалов для ваших тонкопленочных полупроводниковых приложений? Свяжитесь с нашими экспертами сегодня для получения индивидуальных решений!

Связанные товары

Инфракрасный кремний/высокопрочный кремний/монокристаллический кремниевый объектив

Инфракрасный кремний/высокопрочный кремний/монокристаллический кремниевый объектив

Кремний (Si) широко известен как один из самых прочных минеральных и оптических материалов для применения в ближнем инфракрасном (БИК) диапазоне, примерно от 1 мкм до 6 мкм.

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Усовершенствуйте свой процесс нанесения покрытий с помощью оборудования для нанесения покрытий методом PECVD. Идеально подходит для производства светодиодов, силовых полупроводников, МЭМС и многого другого. Осаждает высококачественные твердые пленки при низких температурах.

Окно / подложка / оптическая линза из селенида цинка (ZnSe)

Окно / подложка / оптическая линза из селенида цинка (ZnSe)

Селенид цинка образуется путем синтеза паров цинка с газообразным H2Se, в результате чего на графитовых чувствительных элементах образуются пластинчатые отложения.

CVD-алмаз, легированный бором

CVD-алмаз, легированный бором

Алмаз, легированный CVD бором: универсальный материал, обеспечивающий индивидуальную электропроводность, оптическую прозрачность и исключительные тепловые свойства для применения в электронике, оптике, сенсорных и квантовых технологиях.

Нитрид кремния (SiNi) керамический лист точная обработка керамика

Нитрид кремния (SiNi) керамический лист точная обработка керамика

Пластина из нитрида кремния является широко используемым керамическим материалом в металлургической промышленности благодаря своим равномерным характеристикам при высоких температурах.

Тигель для выпаривания графита

Тигель для выпаривания графита

Сосуды для высокотемпературных применений, где материалы выдерживаются при чрезвычайно высоких температурах для испарения, что позволяет наносить тонкие пленки на подложки.

Окно из сульфида цинка (ZnS) / соляной лист

Окно из сульфида цинка (ZnS) / соляной лист

Оптика Окна из сульфида цинка (ZnS) имеют превосходный диапазон пропускания ИК-излучения от 8 до 14 микрон. Отличная механическая прочность и химическая инертность для суровых условий (жестче, чем окна из ZnSe).

CVD-алмазное покрытие

CVD-алмазное покрытие

Алмазное покрытие CVD: превосходная теплопроводность, качество кристаллов и адгезия для режущих инструментов, трения и акустических применений.

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

RF-PECVD - это аббревиатура от "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". С его помощью на германиевые и кремниевые подложки наносится пленка DLC (алмазоподобного углерода). Он используется в инфракрасном диапазоне длин волн 3-12um.

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Фильера для нанесения наноалмазного композитного покрытия использует цементированный карбид (WC-Co) в качестве подложки, а для нанесения обычного алмаза и наноалмазного композитного покрытия на поверхность внутреннего отверстия пресс-формы используется метод химической паровой фазы (сокращенно CVD-метод).

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Технология, в основном используемая в области силовой электроники. Это графитовая пленка, изготовленная из исходного углеродного материала путем осаждения материала с использованием электронно-лучевой технологии.

Испарительная лодочка из алюминированной керамики

Испарительная лодочка из алюминированной керамики

Сосуд для нанесения тонких пленок; имеет керамический корпус с алюминиевым покрытием для повышения термической эффективности и химической стойкости. что делает его пригодным для различных приложений.

Электронно-лучевое напыление покрытия бескислородного медного тигля

Электронно-лучевое напыление покрытия бескислородного медного тигля

При использовании методов электронно-лучевого испарения использование тиглей из бескислородной меди сводит к минимуму риск загрязнения кислородом в процессе испарения.

Ячейка для тонкослойного спектрального электролиза

Ячейка для тонкослойного спектрального электролиза

Откройте для себя преимущества нашей тонкослойной спектральной электролизной ячейки. Коррозионно-стойкий, полные спецификации и настраиваемый для ваших нужд.

Оптическая кварцевая пластина JGS1/JGS2/JGS3

Оптическая кварцевая пластина JGS1/JGS2/JGS3

Кварцевая пластина — прозрачный, прочный и универсальный компонент, широко используемый в различных отраслях промышленности. Изготовлен из кристалла кварца высокой чистоты, обладает отличной термической и химической стойкостью.

Лист оптического сверхпрозрачного стекла для лаборатории K9 / B270 / BK7

Лист оптического сверхпрозрачного стекла для лаборатории K9 / B270 / BK7

Оптическое стекло, хотя и имеет много общих характеристик с другими типами стекла, производится с использованием специальных химических веществ, которые улучшают свойства, имеющие решающее значение для применения в оптике.

Лист оптического кварцевого стекла, устойчивый к высоким температурам

Лист оптического кварцевого стекла, устойчивый к высоким температурам

Откройте для себя возможности листового оптического стекла для точного управления светом в телекоммуникациях, астрономии и других областях. Откройте для себя достижения в области оптических технологий с исключительной четкостью и индивидуальными рефракционными свойствами.

Керамический лист из карбида кремния (SIC) Плоский / гофрированный радиатор

Керамический лист из карбида кремния (SIC) Плоский / гофрированный радиатор

Керамический радиатор из карбида кремния (sic) не только не генерирует электромагнитные волны, но также может изолировать электромагнитные волны и поглощать часть электромагнитных волн.

Керамический лист из нитрида алюминия (AlN)

Керамический лист из нитрида алюминия (AlN)

Нитрид алюминия (AlN) обладает хорошей совместимостью с кремнием. Он не только используется в качестве добавки для спекания или армирующей фазы для конструкционной керамики, но и по своим характеристикам намного превосходит оксид алюминия.

CVD-алмаз для терморегулирования

CVD-алмаз для терморегулирования

CVD-алмаз для управления температурным режимом: высококачественный алмаз с теплопроводностью до 2000 Вт/мК, идеально подходящий для теплоотводов, лазерных диодов и приложений GaN на алмазе (GOD).


Оставьте ваше сообщение