Термическое испарение - это метод физического осаждения из паровой фазы (PVD), при котором материал нагревается до температуры испарения в среде высокого вакуума, что приводит к его испарению и последующему осаждению в виде тонкой пленки на подложку. Этот процесс характеризуется простотой, низким энергопотреблением и возможностью осаждения широкого спектра материалов.
Подробное объяснение:
-
Нагрев материала:
-
При термическом испарении материал, подлежащий осаждению, помещается в резистивную лодочку или тигель в вакуумной камере. Материал нагревается с помощью Джоулевского нагрева, когда через резистивную лодочку пропускается электрический ток, заставляя ее нагреваться. Этот метод нагрева выбирают из-за его эффективности и контроля над температурой.Испарение в вакууме:
-
Вакуумная среда, обычно поддерживаемая при давлении менее 10^-5 торр, имеет решающее значение для процесса. В такой среде с низким давлением материал может испаряться без столкновений с молекулами других газов, которые в противном случае препятствовали бы процессу осаждения. Вакуум также гарантирует, что испаренные частицы будут двигаться по прямой линии к подложке.
-
Осаждение на подложку:
-
После испарения материал перемещается от источника к подложке, где конденсируется и образует тонкую пленку. Подложка может быть изготовлена из различных материалов и часто нагревается для повышения адгезии и качества осажденной пленки. Испаряемые частицы имеют относительно низкую энергию, обычно около 0,12 эВ, что делает процесс щадящим и подходящим для деликатных подложек.Материалы и применение:
Термическое испарение может использоваться для нанесения различных материалов, включая такие металлы, как алюминий, серебро, никель и хром, а также другие материалы, например магний. Такая универсальность делает его пригодным для применения в самых разных областях - от электроники до оптики и покрытий для механических деталей.
Методы испарения:
