Напыление - это процесс осаждения тонких пленок, используемый в различных отраслях промышленности, включая производство полупроводников, оптических приборов и обработку поверхностей. Он включает в себя выброс атомов из целевого материала на подложку в результате бомбардировки высокоэнергетическими частицами. Эта технология является разновидностью физического осаждения из паровой фазы (PVD) и используется с начала 1800-х годов, со значительными усовершенствованиями и инновациями на протяжении многих лет.
Детали процесса:
При напылении контролируемый газ, обычно аргон, вводится в вакуумную камеру. Прикладывается напряжение для создания плазмы, и материал мишени, выступающий в качестве катода, бомбардируется ионами аргона. В результате бомбардировки атомы из мишени выбрасываются и осаждаются на подложке, которая выступает в качестве анода. Полученная тонкая пленка обладает превосходной однородностью, плотностью и адгезией, что делает ее пригодной для широкого спектра применений.Разновидности и области применения:
Напыление можно разделить на различные типы, такие как катодное напыление, диодное напыление, радиочастотное или постоянное напыление, ионно-лучевое напыление и реактивное напыление. Несмотря на все эти различия, основной процесс остается неизменным. Универсальность напыления позволяет использовать его для создания отражающих покрытий, полупроводниковых устройств и нанотехнологических продуктов. Оно также используется в точном травлении и аналитических методах благодаря способности воздействовать на очень тонкие слои материала.
Историческое и технологическое значение:
