Знание Что такое толстопленочная микросхема? Объяснение 5 ключевых моментов
Аватар автора

Техническая команда · Kintek Solution

Обновлено 3 месяца назад

Что такое толстопленочная микросхема? Объяснение 5 ключевых моментов

Толстопленочная схема - это тип электронной схемы, изготовленной по толстопленочной технологии. Эта технология предполагает нанесение проводящих, резистивных и изолирующих материалов на подложку в виде густой пасты. Паста обычно наносится с помощью трафаретной печати, а затем обжигается для формирования прочного функционального слоя.

5 ключевых моментов

Что такое толстопленочная микросхема? Объяснение 5 ключевых моментов

1. Процесс производства

Осаждение: В технологии толстых пленок материалы, используемые для изготовления схемы, смешиваются в пастообразное вещество. Затем эта паста наносится на подложку с помощью процесса, называемого трафаретной печатью. Трафарет имеет узоры, которые позволяют наносить пасту на определенные участки, где требуются элементы схемы.

Обжиг: После нанесения пасты подложка нагревается в процессе, называемом обжигом. В процессе обжига паста затвердевает, превращаясь в прочный проводящий или резистивный слой. Толщина таких слоев обычно намного больше, чем в тонкопленочной технологии, отсюда и термин "толстая пленка".

2. Материалы и применение

Материалы: Материалы, используемые в толстопленочных схемах, включают металлы, такие как золото, серебро и медь, для проводящих слоев и различные керамические материалы для резистивных и изолирующих слоев. Выбор материалов зависит от конкретных требований схемы, таких как значения сопротивления и тепловые свойства.

Области применения: Толстопленочная технология широко используется в тех областях, где требуются прочные, надежные и экономичные схемы. Она особенно распространена в автомобильной промышленности, бытовой технике и различных промышленных системах управления, где схемы должны выдерживать жесткие условия окружающей среды и надежно работать в широком диапазоне температур.

3. Сравнение с технологией тонких пленок

Толщина: Ключевое различие между толсто- и тонкопленочными технологиями заключается в толщине слоев. Толщина тонкопленочных слоев обычно составляет менее одного микрометра, в то время как толстопленочные слои имеют толщину от нескольких до десятков микрометров.

Технологии производства: В тонкопленочных схемах часто используются более современные и точные технологии осаждения, такие как физическое осаждение из паровой фазы (PVD) или напыление, которые позволяют получать очень тонкие и контролируемые слои. Толстопленочные схемы, с другой стороны, используют трафаретную печать, которая является более простым и экономичным методом, но может не обеспечивать такой же уровень точности.

4. Обзор и исправление

Представленный текст в основном посвящен технологии тонких пленок и их применению, что не дает прямого ответа на вопрос о толстопленочных схемах. Однако, сопоставив информацию о тонкопленочной технологии с типичными характеристиками и процессами толстопленочной технологии, можно получить полное представление о толстопленочных схемах. Краткое изложение и подробное объяснение, представленные выше, корректируют и расширяют данный текст, чтобы конкретно ответить на вопрос о толстопленочных схемах.

Продолжайте изучение, обратитесь к нашим экспертам

Откройте для себя передовой мир толстопленочных технологий с помощьюРЕШЕНИЕ KINTEK. Повысьте уровень своих электронных проектов с помощью наших высококачественных материалов и передовых решений для трафаретной печати, предназначенных для создания прочных и надежных толстопленочных схем, которые отлично работают в сложных условиях. Доверьтесь нашему опыту в области материалов, производственных процессов и технической поддержки, чтобы продвинуть ваши инновации вперед.Свяжитесь с нами сегодня и давайте превратим ваше видение в долговечную и функциональную реальность.

Связанные товары

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

RF-PECVD - это аббревиатура от "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". С его помощью на германиевые и кремниевые подложки наносится пленка DLC (алмазоподобного углерода). Он используется в инфракрасном диапазоне длин волн 3-12um.

Алюминиево-пластиковая гибкая упаковочная пленка для упаковки литиевых аккумуляторов

Алюминиево-пластиковая гибкая упаковочная пленка для упаковки литиевых аккумуляторов

Алюминиево-пластиковая пленка обладает отличными свойствами электролита и является важным безопасным материалом для мягких литиевых аккумуляторов. В отличие от аккумуляторов с металлическим корпусом, чехлы, завернутые в эту пленку, более безопасны.

Лента для литиевой батареи

Лента для литиевой батареи

Полиимидная лента PI, обычно коричневая, также известная как лента с золотыми пальцами, устойчивая к высоким температурам 280 ℃, для предотвращения влияния термосваривания клея для наконечника мягкой батареи, подходит для клея для крепления язычка мягкой батареи.

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Усовершенствуйте свой процесс нанесения покрытий с помощью оборудования для нанесения покрытий методом PECVD. Идеально подходит для производства светодиодов, силовых полупроводников, МЭМС и многого другого. Осаждает высококачественные твердые пленки при низких температурах.

электролитическая ячейка с водяной баней - двухслойная оптическая Н-типа

электролитическая ячейка с водяной баней - двухслойная оптическая Н-типа

Двухслойные оптические электролитические элементы H-типа с водяной баней, с отличной коррозионной стойкостью и широким диапазоном доступных спецификаций. Также доступны параметры настройки.

Ячейка для тонкослойного спектрального электролиза

Ячейка для тонкослойного спектрального электролиза

Откройте для себя преимущества нашей тонкослойной спектральной электролизной ячейки. Коррозионно-стойкий, полные спецификации и настраиваемый для ваших нужд.

Испарительная лодочка из алюминированной керамики

Испарительная лодочка из алюминированной керамики

Сосуд для нанесения тонких пленок; имеет керамический корпус с алюминиевым покрытием для повышения термической эффективности и химической стойкости. что делает его пригодным для различных приложений.

Печь для графитизации пленки с высокой теплопроводностью

Печь для графитизации пленки с высокой теплопроводностью

Печь для графитизации пленки с высокой теплопроводностью имеет равномерную температуру, низкое энергопотребление и может работать непрерывно.

Тигель для выпаривания графита

Тигель для выпаривания графита

Сосуды для высокотемпературных применений, где материалы выдерживаются при чрезвычайно высоких температурах для испарения, что позволяет наносить тонкие пленки на подложки.

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Технология, в основном используемая в области силовой электроники. Это графитовая пленка, изготовленная из исходного углеродного материала путем осаждения материала с использованием электронно-лучевой технологии.

Детали специальной формы из глинозема и циркония, обрабатывающие изготовленные на заказ керамические пластины

Детали специальной формы из глинозема и циркония, обрабатывающие изготовленные на заказ керамические пластины

Керамика из оксида алюминия обладает хорошей электропроводностью, механической прочностью и устойчивостью к высоким температурам, в то время как керамика из диоксида циркония известна своей высокой прочностью и высокой ударной вязкостью и широко используется.

Нитрид кремния (SiNi) керамический лист точная обработка керамика

Нитрид кремния (SiNi) керамический лист точная обработка керамика

Пластина из нитрида кремния является широко используемым керамическим материалом в металлургической промышленности благодаря своим равномерным характеристикам при высоких температурах.

Никель-алюминиевые вкладки для мягких литиевых батарей

Никель-алюминиевые вкладки для мягких литиевых батарей

Никелевые вкладыши используются для производства цилиндрических и пакетных аккумуляторов, а положительный алюминий и отрицательный никель используются для производства литий-ионных и никелевых аккумуляторов.

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Фильера для нанесения наноалмазного композитного покрытия использует цементированный карбид (WC-Co) в качестве подложки, а для нанесения обычного алмаза и наноалмазного композитного покрытия на поверхность внутреннего отверстия пресс-формы используется метод химической паровой фазы (сокращенно CVD-метод).

Испарение электронного луча покрывая вольфрамовый тигель/тигель молибдена

Испарение электронного луча покрывая вольфрамовый тигель/тигель молибдена

Вольфрамовые и молибденовые тигли широко используются в процессах электронно-лучевого испарения благодаря их превосходным термическим и механическим свойствам.

CVD-алмазное покрытие

CVD-алмазное покрытие

Алмазное покрытие CVD: превосходная теплопроводность, качество кристаллов и адгезия для режущих инструментов, трения и акустических применений.


Оставьте ваше сообщение