ПДКВД
Система реактора для осаждения алмазных пленок методом плазменного химического осаждения из газовой фазы в микроволновом поле (MPCVD) для лабораторий и выращивания алмазов
Артикул : KTMP315
Цена может варьироваться в зависимости от спецификации и настройки
- Мощность микроволн
- Частота микроволн 2450±15 МГц
- Выходная мощность
- 1～10 кВт непрерывно регулируемая
- Микроволновое излучение
- ≤2 МВт/см²
- Интерфейс выходного волновода
- WR340, 430 со стандартным фланцем FD-340, 430
- Держатель образца
- Диаметр стола образца ≥70 мм, эффективная площадь использования ≥64 мм
Доставка:
Свяжитесь с нами чтобы получить подробности о доставке. Наслаждайтесь Гарантия своевременной отправки.
Почему выбирают нас
Надежный партнерПростой процесс заказа, качественные продукты и специализированная поддержка для успеха вашего бизнеса.
MPCVD означает плазменное химическое осаждение из газовой фазы в микроволновом поле. Этот метод позволяет выращивать качественные алмазные пленки в лабораториях с использованием углеродного газа и микроволновой плазмы.
Система MPCVD
MPCVD — это система для осаждения тонких пленок на подложку, состоящая из вакуумной камеры, микроволнового генератора и системы подачи газа. Плазма генерируется внутри камеры магнетроном или клистроном, генерирующим микроволны на частоте 2,45 ГГц. Система подачи газа оснащена массовыми расходомерами (MFC), откалиброванными в стандартных кубических сантиметрах в минуту (sccm), для контроля потока газа. Температура подложки контролируется плазмой и измеряется термопарой. Плазма нагревает подложку, и температура контролируется во время осаждения.
Применения
MPCVD демонстрирует перспективность для производства крупных, высококачественных алмазов при низких затратах.
Уникальные свойства алмаза, такие как твердость, жесткость, высокая теплопроводность, низкий коэффициент теплового расширения, радиационная стойкость и химическая инертность, делают его ценным материалом. Однако высокая стоимость, ограниченный размер и трудность контроля примесей природных и синтетических алмазов, полученных методом высокого давления и высокой температуры (HPHT), ограничивали их применение.
MPCVD является основным оборудованием для выращивания алмазных драгоценных камней и пленок, которые могут быть как монокристаллическими, так и поликристаллическими. Полупроводниковая промышленность широко использует выращивание алмазных пленок для крупногабаритных алмазных подложек, а также в производстве алмазных режущих или сверлильных инструментов.
По сравнению с методом HPHT для выращивания алмазов в лаборатории, метод микроволнового CVD имеет преимущества для выращивания крупногабаритных алмазов при более низких затратах, что делает его идеальным решением для полупроводниковых алмазов, выращивания алмазов для оптики и крупного рынка ювелирных алмазов.
Преимущества MPCVD
MPCVD — это метод синтеза алмазов, имеющий преимущества перед HFCVD и DC-PJ CVD. Он предотвращает загрязнение и позволяет использовать несколько газов. Он обеспечивает плавную регулировку мощности микроволн и стабильный контроль температуры, избегая потери затравочных кристаллов. MPCVD перспективен для промышленных применений благодаря большой, стабильной площади плазмы.
MPCVD производит более чистые алмазы с меньшим энергопотреблением, чем HPHT. Он также позволяет производить более крупные алмазы.
Преимущества нашей системы MPCVD
Мы глубоко вовлечены в отрасль на протяжении многих лет, и в результате у нас обширная клиентская база, которая доверяет нашему оборудованию и использует его. Наше оборудование MPCVD работает стабильно более 40 000 часов, демонстрируя исключительную стабильность, надежность, повторяемость и экономическую эффективность. Дополнительные преимущества нашей системы MPCVD включают:
- Площадь выращивания подложки 3 дюйма, максимальная загрузка до 45 алмазов
- Регулируемая выходная мощность микроволн 1-10 кВт для снижения энергопотребления
- Команда исследователей с богатым опытом и поддержкой передовых рецептов выращивания алмазов
- Эксклюзивная программа технической поддержки для команд без опыта выращивания алмазов
Используя наши накопленные передовые технологии, мы реализовали несколько раундов модернизации и усовершенствования нашей системы MPCVD, что привело к значительному повышению эффективности и снижению затрат на оборудование. В результате наше оборудование MPCVD находится на переднем крае технологических достижений и предлагается по конкурентоспособной цене. Приглашаем вас проконсультироваться с нами.
Рабочий процесс
Установка MPCVD контролирует поток каждого газового тракта и давление в полости, одновременно подавая реакционные газы (такие как CH4, H2, Ar, O2, N2 и т. д.) в полость под определенным давлением. После стабилизации воздушного потока микроволновый генератор мощностью 6 кВт генерирует микроволны, которые затем вводятся в полость через волновод.
Реакционный газ преобразуется в плазменное состояние под действием микроволнового поля, образуя плазменный шар, который парит над алмазной подложкой. Высокая температура плазмы нагревает подложку до определенной температуры. Избыточное тепло, выделяющееся в полости, рассеивается блоком водяного охлаждения.
Для обеспечения оптимальных условий роста в процессе выращивания монокристаллического алмаза методом MPCVD мы регулируем такие факторы, как мощность, состав газовой смеси и давление в полости. Кроме того, поскольку плазменный шар не контактирует со стенками полости, процесс роста алмаза свободен от примесей, что повышает качество алмаза.
Детали и компоненты
Микроволновая система
Реакционная камера
Система газового потока
Система вакуума и датчиков
Технические характеристики
| Микроволновая система |
|
| Реакционная камера |
|
| Держатель образца |
|
| Система газового потока |
|
| Система охлаждения |
|
| Датчик температуры |
|
| Система управления |
|
| Дополнительная функция |
|
Предупреждения
Безопасность оператора – первостепенная задача! Пожалуйста, используйте оборудование с осторожностью. Работа с легковоспламеняющимися, взрывоопасными или токсичными газами очень опасна, операторы должны принять все необходимые меры предосторожности перед запуском оборудования. Работа с избыточным давлением внутри реакторов или камер опасна, оператор должен строго соблюдать технику безопасности. Следует также соблюдать особую осторожность при работе с материалами, реагирующими с воздухом, особенно в условиях вакуума. Утечка может привести к попаданию воздуха в аппарат и вызвать бурную реакцию.
Создан для вас
KinTek предоставляет специализированные услуги и оборудование для клиентов по всему миру, наша специализированная командная работа и богатый опыт инженеров способны выполнить индивидуальные требования к аппаратному и программному оборудованию, а также помочь нашим клиентам создать эксклюзивное и индивидуальное оборудование и решение!
Не могли бы вы поделиться своими идеями с нами, наши инженеры готовы для вас прямо сейчас!
FAQ
Что такое алмазный станок CVD?
Какие типы машин для выращивания алмазов доступны?
Каковы преимущества выращенных в лаборатории бриллиантов?
Каков основной принцип ССЗ?
Какова цена машины для выращивания CVD?
Какие существуют типы метода CVD?
4.7
out of
5
The speed of delivery was great, and the equipment arrived in perfect condition. It's been a pleasure working with KINTEK SOLUTION.
4.8
out of
5
The value for money is unbeatable. KINTEK SOLUTION provides high-quality equipment at a reasonable price.
4.9
out of
5
The quality of the equipment is top-notch. It's clear that KINTEK SOLUTION uses only the best materials and construction methods.
4.9
out of
5
The durability of the equipment is exceptional. It's built to last and withstand the rigors of daily use in a lab setting.
4.8
out of
5
The technological advancement of the equipment is impressive. KINTEK SOLUTION is always at the forefront of innovation, providing cutting-edge solutions.
4.7
out of
5
The speed of delivery was exceptional. The equipment arrived well before the estimated delivery date.
4.9
out of
5
The value for money is outstanding. The equipment is worth every penny, and it's clear that KINTEK SOLUTION cares about providing customers with a great deal.
4.8
out of
5
The quality of the equipment is superb. It's evident that KINTEK SOLUTION uses only the highest quality materials and construction methods.
4.7
out of
5
The durability of the equipment is remarkable. It's built to withstand the rigors of daily use in a lab setting and shows no signs of wear or tear.
4.9
out of
5
The technological advancement of the equipment is groundbreaking. KINTEK SOLUTION is always pushing the boundaries of innovation, and their equipment is a testament to their commitment to excellence.
4.8
out of
5
The speed of delivery was lightning fast. The equipment arrived within days of placing the order, which was incredibly convenient.
4.9
out of
5
The value for money is exceptional. The equipment is incredibly affordable, especially considering the high quality and advanced features it offers.
4.7
out of
5
The quality of the equipment is impeccable. It's clear that KINTEK SOLUTION takes pride in their craftsmanship, and the equipment is built to the highest standards.
4.8
out of
5
The durability of the equipment is outstanding. It's built to last, and I'm confident that it will provide years of reliable service.
4.9
out of
5
The technological advancement of the equipment is awe-inspiring. KINTEK SOLUTION is at the forefront of innovation, and their equipment is a testament to their commitment to pushing the boundaries of technology.
4.8
out of
5
The speed of delivery was commendable. The equipment arrived within the promised timeframe, which allowed us to start using it right away.
4.9
out of
5
The value for money is unbeatable. The equipment is incredibly affordable, especially considering the advanced features and high quality it offers.
4.7
out of
5
The quality of the equipment is exceptional. It's clear that KINTEK SOLUTION uses only the best materials and construction methods, resulting in a durable and reliable product.
4.8
out of
5
The durability of the equipment is impressive. It's built to withstand the rigors of daily use in a lab setting, and I'm confident that it will last for many years to come.
4.9
out of
5
The technological advancement of the equipment is remarkable. KINTEK SOLUTION is constantly innovating and pushing the boundaries of technology, and their equipment is a testament to their commitment to excellence.
ЗАПРОС ЦИТАТЫ
Наша профессиональная команда ответит вам в течение одного рабочего дня. Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!
Связанные товары
Раздельная камерная трубчатая печь для химического осаждения из паровой фазы с вакуумной станцией
Эффективная разделительная камерная печь для химического осаждения из паровой фазы с вакуумной станцией для интуитивного контроля образцов и быстрого охлаждения. Максимальная температура до 1200℃ с точным управлением массовым расходомером MFC.
Система ВЧ-PECVD Радиочастотное плазменно-усиленное химическое осаждение из газовой фазы ВЧ-PECVD
RF-PECVD — это аббревиатура от «Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition» (Радиочастотное плазменно-усиленное химическое осаждение из газовой фазы). Он осаждает DLC (алмазоподобную углеродную пленку) на подложки из германия и кремния. Используется в диапазоне инфракрасных длин волн 3-12 мкм.
Представляем нашу наклонную роторную печь PECVD для точного осаждения тонких пленок. Наслаждайтесь автоматическим согласованием источника, программируемым ПИД-регулятором температуры и высокоточным расходомером MFC. Встроенные функции безопасности для вашего спокойствия.
Оборудование системы HFCVD для нанесения наноалмазного покрытия на волочильные фильеры
В волочильных фильерах с наноалмазным композитным покрытием в качестве подложки используется твердый сплав (WC-Co), а методом химического осаждения из газовой фазы (далее CVD) на поверхность внутреннего отверстия формы наносится обычное алмазное и наноалмазное композитное покрытие.
Наклонная роторная установка для плазменно-усиленного химического осаждения из паровой фазы PECVD
Усовершенствуйте свой процесс нанесения покрытий с помощью оборудования для нанесения покрытий PECVD. Идеально подходит для светодиодов, силовых полупроводников, MEMS и многого другого. Наносит высококачественные твердые пленки при низких температурах.
Система вакуумного индукционного плавильного литья Дуговая плавильная печь
Легко разрабатывайте метастабильные материалы с помощью нашей системы вакуумного плавильного литья. Идеально подходит для исследований и экспериментальных работ с аморфными и микрокристаллическими материалами. Закажите сейчас для эффективных результатов.
Связанные статьи
Как получить монокристаллический алмаз высокого качества с помощью MPCVD
Микроволновое плазмохимическое осаждение из газовой фазы (MPCVD) является популярным методом получения высококачественных монокристаллов алмаза.
Процесс изготовления CVD-алмаза на машине MPCVD
Алмазные станки CVD приобрели большое значение в различных отраслях промышленности и научных исследованиях.
Достижения в системах MPCVD для монокристаллических алмазов большого размера
Достижения в системах MPCVD позволили производить более крупные и высококачественные монокристаллические алмазы, предлагая многообещающий потенциал для будущих применений.
Печь CVD для выращивания углеродных нанотрубок
Технология печи химического осаждения из паровой фазы (CVD) является широко используемым методом выращивания углеродных нанотрубок.
Химическое осаждение из паровой фазы с расширенной плазмой (PECVD): Исчерпывающее руководство
Узнайте все, что вам нужно знать о плазменном химическом осаждении из паровой фазы (PECVD) - технологии осаждения тонких пленок, используемой в полупроводниковой промышленности. Изучите ее принципы, области применения и преимущества.
Понимание PECVD: руководство по химическому осаждению из паровой фазы с плазменным усилением
PECVD — полезный метод для создания тонкопленочных покрытий, поскольку он позволяет наносить самые разные материалы, включая оксиды, нитриды и карбиды.
Введение в химическое осаждение из паровой фазы (CVD)
Химическое осаждение из паровой фазы, или CVD, представляет собой процесс нанесения покрытия, который включает использование газообразных реагентов для получения тонких пленок и покрытий высокого качества.
CVD-машины для нанесения тонких пленок
Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) — широко используемый метод осаждения тонких пленок на различные подложки.
Комплексное руководство по MPCVD: синтез алмазов и их применение
Изучите основы, преимущества и применение микроволнового плазменного химического осаждения из паровой фазы (MPCVD) в синтезе алмазов. Узнайте о его уникальных возможностях и о его сравнении с другими методами выращивания алмазов.
Руководство для начинающих по машинам MPCVD
MPCVD (микроволновое плазменное химическое осаждение из паровой фазы) — это процесс, используемый для осаждения тонких пленок материала на подложку с использованием плазмы, генерируемой микроволнами.
Преимущества и недостатки химического осаждения из паровой фазы (CVD)
Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) - это универсальный метод осаждения тонких пленок, широко используемый в различных отраслях промышленности. Изучите ее преимущества, недостатки и потенциальные новые применения.
Печь PECVD Маломощное и низкотемпературное решение для мягких материалов
Печи PECVD (химическое осаждение из паровой фазы с плазменным усилением) стали популярным решением для осаждения тонких пленок на поверхности мягких материалов.